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電子發(fā)燒友網(wǎng)>制造/封裝>在氯化鈉-異丙醇溶液中的表面鈍化和形態(tài)

在氯化鈉-異丙醇溶液中的表面鈍化和形態(tài)

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2018-03-06 09:02:505607

正極材料的上游原材料含鋰礦物處于什么樣的發(fā)展階段,鋰礦提取工藝又有哪些發(fā)展呢?

鋰輝石精礦中氧化鋰含量約5.0%~ 8.5%。目前鋰輝石的提鋰產(chǎn)品主要為碳酸鋰,其工藝主要有硫酸法生產(chǎn)工藝、硫酸鹽混合燒結(jié)工藝、氯化鈉焙燒生產(chǎn)工藝、碳酸鈉加壓浸出生產(chǎn)工藝以及石灰石焙燒生產(chǎn)工藝。下面簡單介紹下主要的生產(chǎn)工藝。
2018-03-19 16:38:5910058

GB-T2423.18-2000試驗Kb鹽霧,交變(氯化鈉溶液)

GB-T2423.18-2000試驗Kb鹽務(wù)交變(氯化鈉溶液)
2018-05-22 11:29:204

鹽霧箱要滿足DIN 50021標(biāo)準(zhǔn) 試驗溶液怎么調(diào)

DIN 50 021-SS的試驗溶液;通過對氯化鈉溶液的PH值進(jìn)行調(diào)節(jié),使得其噴霧在23±2℃下的PH值為6.5到7.2。調(diào)節(jié)PH值要使用稀釋的純鹽酸及純化鈉溶液。PH值應(yīng)在23±2℃下用玻璃電極
2018-09-17 15:47:29363

鹽霧箱要滿足DIN 50021標(biāo)準(zhǔn) 試驗溶液怎么調(diào)

DIN 50 021-SS的試驗溶液;通過對氯化鈉溶液的PH值進(jìn)行調(diào)節(jié),使得其噴霧在23±2℃下的PH值為6.5到7.2。調(diào)節(jié)PH值要使用稀釋的純鹽酸及純化鈉溶液。PH值應(yīng)在23±2℃下用玻璃電極
2018-09-17 15:48:41298

鹽霧試驗機(jī)溶液配制技巧

將分析純的氯化鈉溶解于純凈水中,濃度為(50±10)g/L。用PH試紙在25℃的時候測定試驗溶液的PH值為6.5~7.5。超出范圍的時候可加入分析純鹽酸或氫氧化鈉溶液進(jìn)行調(diào)整,配制好的溶液需要經(jīng)過濾后方可使用。
2019-05-27 16:33:462096

通孔元件焊接教程

再次,使用異丙醇清除殘留物,并檢查焊點是否具有光滑,光亮且潤濕良好的表面。
2019-10-05 17:08:0011461

光纖連接器清潔規(guī)則及方法

使用手指套或無粉手術(shù)手套來處理光纖電纜。使用新的光譜級甲醇或異丙醇作為唯一的清潔溶劑。
2020-05-29 10:33:542671

食鹽鹽袋二維碼及外包裝紙箱二維碼讀碼的工作流程

的犯罪團(tuán)伙竟然以工業(yè)鹽和飼料添加氯化鈉為原料假冒成食用鹽直接銷售,這種假鹽對人體有一定的危害性,工業(yè)鹽中含有超量的重金屬元素,飼料添加劑氯化鈉中多數(shù)不含碘,長期使用這些假鹽會導(dǎo)致頭暈、惡心、甚至高血壓,最嚴(yán)重可能
2020-12-04 11:55:202073

關(guān)于電化學(xué)甲醛傳感器的組成

5.電解質(zhì)液(一般為硫酸磷酸等酸性電解質(zhì)的一種或幾種混合,也有的是以氫氧化鈉、氫氧化鉀等堿性電解質(zhì)的一種或幾種混合,也有的是用氯化鈉、醋酸鉀等中性電解質(zhì)的一種或幾種混合而成。)
2020-08-03 14:52:004957

酸洗鈍化原理與方式

不銹鋼鈍化膜具有動態(tài)特征,不應(yīng)看作腐蝕完全停止,而是在形成擴(kuò)散的保護(hù)層,通常在有還原劑(如氯離子)的情況下傾向于破壞鈍化膜,而在氧化劑(如空氣)存在時能保護(hù)和修復(fù)鈍化膜。
2020-11-04 11:53:1210425

關(guān)于面筋測定儀的具體操作步驟的詳細(xì)講解

等行業(yè)中,通過對面粉面筋指數(shù)及含量的測定可用以分析面粉的質(zhì)量及確定用途,用以檢查購入的原料和控制加工過程。 面筋測定儀的使用必須嚴(yán)格接地,避免觸電事故的發(fā)生,應(yīng)防止氯化鈉溶液濺落儀器上,損壞儀器表面,如果遇到該
2020-11-05 15:31:112060

面筋測定儀是什么,它的操作方法的介紹

和質(zhì)量的測定,本文推薦應(yīng)用由托普云農(nóng)研發(fā)地面筋測定儀。 面筋測定儀的使用必須嚴(yán)格接地,避免觸電事故的發(fā)生,應(yīng)防止氯化鈉溶液濺落儀器上,損壞儀器表面,如果遇到該情況,需要及時的清理掉。每次離心結(jié)束后,要用軟毛刷清
2020-11-16 13:58:26668

關(guān)于異丙醇各個方面的技術(shù)分析

、苯及其它有機(jī)溶劑中,不溶于鹽的溶液中,與水互溶。蒸氣相對密度?2.1,嗅閾值?90mg/m3,或7.84~49090mg/m3或22ppm或40ppm。? 【毒性】異丙醇具有較乙醇更好的脂溶性,所以
2020-12-31 09:36:424225

淺析氯化鈉成核結(jié)晶的非經(jīng)典路徑

自然中普遍存在的現(xiàn)象,如云層中水分子在灰塵礦物質(zhì)表面的聚集造成的降水/降雪、生物礦物質(zhì)的形成等物理/化學(xué)過程等,都與基于結(jié)構(gòu)物態(tài)相變有關(guān),成核結(jié)晶的熱力學(xué)和動力學(xué)微觀機(jī)制是相變的核心問題。 經(jīng)典理論
2021-04-07 14:23:502682

如何解決氫氧化鈉罐體腐蝕問題

氫氧化鈉,無機(jī)化合物,化學(xué)式NaOH,也稱苛性鈉、燒堿、固堿、火堿、苛性蘇打,可作酸中和劑、 配合掩蔽劑、沉淀劑、沉淀掩蔽劑、顯色劑、皂化劑、去皮劑、洗滌劑等,用途非常廣泛。氫氧化鈉具有強(qiáng)堿
2021-05-28 15:59:411191

鹽霧試驗的業(yè)務(wù)范圍

、銅鹽加速醋酸鹽霧試驗。 (1)中性鹽霧試驗(NSS試驗)是出現(xiàn)最早目前應(yīng)用領(lǐng)域最廣的一種加速腐蝕試驗方法。它采用5%的氯化鈉鹽水溶液,溶液PH值調(diào)在中性范圍(6.5~7.2)作為噴霧用的溶液。試驗溫度均取35℃,要求鹽霧的沉降率在1~2ml
2021-11-21 09:49:46583

醇類添加劑對KOH溶液蝕刻特性的影響

我們?nèi)A林科納研究了不同醇類添加劑對氫氧化鉀溶液的影響。據(jù)說醇導(dǎo)致硅蝕刻各向異性的改變。具有一個羥基的醇表現(xiàn)出與異丙醇相似的效果。它們導(dǎo)致(hh 1)型平面的蝕刻速率大大降低,通常在蝕刻凸形圖形的側(cè)壁處發(fā)展。這就是凸角根切減少的原因。具有一個以上羥基的醇不影響蝕刻各向異性,并導(dǎo)致表面光潔度變差。
2021-12-17 15:27:53641

異丙醇(IPA)的解吸特性和 IPA 蒸汽干燥硅晶片中的水分

電感耦合等離子體質(zhì)譜ICP-MS和x射線光電子光譜XPS,研究了溶液中過氧化氫的加入及其對腐蝕的影響。ICP-MS和勢動力學(xué)方法產(chǎn)生了相當(dāng)?shù)你~溶解率。使用原子力顯微鏡和掃描電鏡顯微鏡,在清洗溶液處理前后進(jìn)行的表面分析,沒有顯示任何點
2021-12-31 09:02:584723

控制堿性蝕刻液的表面張力

引言 氫氧化鉀(KOH)和添加劑2-丙醇(異丙醇,IPA)通常用于單晶硅片的堿性織構(gòu)化,以減少其反射。氫氧化鉀和異丙醇在水中的蝕刻混合物需要明確定義氫氧化鉀和異丙醇的水平,以消除鋸損傷,并獲得完全
2022-01-04 17:13:20764

晶體硅襯底的表面織構(gòu)和光學(xué)特性的說明

引言 本文介紹了表面紋理對硅晶圓光學(xué)和光捕獲特性影響。表面紋理由氫氧化鉀(KOH)和異丙醇(IPA)溶液的各向異性蝕刻來控制。(001)晶硅晶片的各向異性蝕刻導(dǎo)致晶片表面形成金字塔面。利用輪廓測量法
2022-01-11 14:41:581050

對于不同KOH和異丙醇濃度溶液中Si面蝕刻各向的研究

上降低了(100)和(h11)面的蝕刻速率。 為了在低氫氧化鉀濃度下獲得低粗糙度的(100)表面,蝕刻溶液必須含有飽和水平的異丙醇。在我們的研究中,我們研究了異丙醇濃度對具有不同晶體取向的硅襯底的蝕刻速率和表面形態(tài)的影響。還研究了氫氧化鉀濃度對(
2022-01-13 13:47:261157

關(guān)于GaAs在酸性和堿性溶液中的濕蝕刻研究報告

摘要 我們?nèi)A林科納用同步光電發(fā)射光譜法研究了無氧化物砷化鎵表面與酸性(鹽酸+2-丙醇)和堿性(氨水)溶液的相互作用。結(jié)果表明,兩種溶液主要處理表面鎵原子,分別形成弱可溶性氯化鎵和可溶性氫化鎵。因此
2022-01-24 15:07:301071

HF/HNO3和氫氧化鉀溶液中深濕蝕刻對硅表面質(zhì)量的影響

下的抗激光損傷能力。這種比較是在高損傷閾值拋光熔融石英光學(xué)器件上設(shè)計的劃痕上進(jìn)行的。我們證明氫氧化鉀和氫氟酸/硝酸溶液都能有效鈍化劃痕,從而提高其損傷閾值,達(dá)到拋光表面的水平。還研究了這些濕蝕刻對表面粗糙度和外觀的影響。我們表明,在
2022-02-24 16:26:032429

硅堿性蝕刻中的絕對蝕刻速率

,向溶液中加入 1 M 異丙醇。這表明反應(yīng)確定受反應(yīng)動力學(xué)影響,而不是受輸運限制。在所有情況下,表面都被淺蝕刻坑覆蓋,與晶體中的缺陷無關(guān)。這意味著決定蝕刻速率的實際因素是這些凹坑底部新空位島的二維成核。該過程可能由反應(yīng)產(chǎn)物的局部積累催化,其優(yōu)先發(fā)生在掩模邊緣附近。
2022-03-04 15:07:09845

HCL/異丙醇濕法處理制備潔凈的InAs表面

對于基礎(chǔ)研究和技術(shù)應(yīng)用,至關(guān)重要的是,開發(fā)有效的程序來準(zhǔn)備清潔的半導(dǎo)體表面,顯示各種可能的重建,并了解這些程序的化學(xué)性質(zhì)。對于砷化鎵001使用砷脫殼或HCl/異丙醇(HCl-iPA)處理,有令人滿意
2022-03-14 10:52:05405

預(yù)清洗對KOH/IPA溶液中單晶硅表面紋理化的影響

實驗研究了預(yù)清洗對KOH/IPA溶液中單晶硅表面紋理化的影響。如果沒有適當(dāng)?shù)念A(yù)清洗,表面污染會形成比未污染區(qū)域尺寸小的金字塔,導(dǎo)致晶片表面紋理特征不均勻,晶片表面反射率不均勻。根據(jù)供應(yīng)商的不同,晶片的表面質(zhì)量和污染水平可能會有所不同,預(yù)清洗條件可能需要定制,以達(dá)到一致和期望的紋理化結(jié)果。
2022-03-17 15:23:08501

丁基醇濃度對Si平面表面形貌和蝕刻速率的影響

本文我們?nèi)A林科納半導(dǎo)體有限公司研究了類似的現(xiàn)象是否發(fā)生在氫氧化鉀溶液中添加的其他醇,詳細(xì)研究了丁基醇濃度對(100)和(110)Si平面表面形貌和蝕刻速率的影響,并給出了異丙醇對氫氧化鉀溶液的蝕刻結(jié)果,為了研究醇分子在蝕刻溶液中的行為機(jī)理,我們還對溶液表面張力進(jìn)行了測量。
2022-03-18 13:53:01288

用NaOH和KOH溶液蝕刻硅晶片的比較研究

在本研究中,我們研究了堿性后刻蝕表面形貌對p型單晶硅片少子壽命的影響,在恒溫下分別使用30%和23%的氫氧化鈉和氫氧化鉀溶液,表面狀態(tài)通過計算算術(shù)平均粗糙度(Ra)和U-V-可見光-近紅外光學(xué)反射率
2022-03-21 13:16:47573

硅在KOH溶液中陽極氧化的各向異性

通過電位學(xué)和電位步測量,研究了氫氧化鉀溶液中(100)和(111)電極的電化學(xué)氧化和鈍化過程。在不同的表面之間觀察到顯著的差異,對n型和p型電極的結(jié)果進(jìn)行比較,得出堿性溶液中硅的電化學(xué)氧化必須
2022-03-22 15:36:40550

堿性刻蝕表面形貌對p型單晶硅片少數(shù)壽命的影響

我們研究了堿性刻蝕表面形貌對p型單晶硅片少數(shù)壽命的影響,在恒溫下分別使用30%和23%的氫氧化鈉和氫氧化鉀溶液表面狀態(tài)通過計算算術(shù)平均粗糙度(Ra)和U-V-可見光-近紅外光學(xué)反射率來表征,而電學(xué)
2022-04-24 14:59:54441

利用異丙醇和氮載氣開發(fā)的晶片干燥系統(tǒng)

利用異丙醇(IPA)和氮載氣開發(fā)創(chuàng)新了一種晶片干燥系統(tǒng),取代了傳統(tǒng)的非環(huán)保晶片干燥系統(tǒng)。研究b了IPA濃度是運行該系統(tǒng)的最重要因素,為了防止IPA和熱量蒸發(fā)造成的經(jīng)濟(jì)損失,將干燥器上部封閉,以期開發(fā)出IPA和熱能不流失的干燥工藝。
2022-04-29 15:09:31534

光纖壓力傳感器在內(nèi)窺鏡中所起到的監(jiān)測應(yīng)用

生理鹽水,又稱為無菌生理鹽水,是指生理學(xué)實驗或臨床上常用的滲透壓與動物或人體血漿的滲透壓基本相等的氯化鈉溶液。其濃度用于兩棲類動物時是0.67~0.70%,用于哺乳類動物和人體時是0.85~0.9
2022-07-04 14:51:21936

一種高性能超分子水凝膠

將單體和大分子交聯(lián)劑溶解于氯化鈉溶液種配成前體溶液,PNAGA-F68超分子水凝膠通過紫外線(UV)照射前體溶液5分鐘就可以固化。
2023-01-30 11:51:00618

AlN鈍化器件電流崩塌分析

本研究采用PEALD沉積AlN材料作柵絕緣層的同時,利用其作為器件表面鈍化層材料,本節(jié)即采用脈沖測試方法研究了PEALD沉積AlN鈍化器件的電流崩塌特性,并將其與常規(guī)的PECVD沉積SiN鈍化層材料進(jìn)行了對比分析。
2023-02-14 09:31:49667

鹽霧測試的類型

醋酸鹽霧試驗   醋酸鹽霧試驗是在中性鹽霧試驗的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的。就是在5%的氯化鈉溶液中加入一些冰醋酸,使溶液的PH值降低到3左右,溶液變成酸性,最后形成的鹽霧也由中性鹽霧變?yōu)樗嵝?。其腐蝕速度
2022-08-03 15:15:11667

鹽霧耐久循環(huán)試驗機(jī)的鹽霧試驗過程

  鹽霧耐久循環(huán)試驗機(jī)中的腐蝕溶液的腐蝕溶液通常是5%濃度的氯化鈉溶液或者在氯化溶液中添加0.26克氯化銅作為鹽霧腐蝕溶液。此外,鹽霧耐久循環(huán)試驗機(jī)可獨立調(diào)節(jié)鹽霧的沉降和噴灑量,確保實驗溫度穩(wěn)定
2022-11-11 11:40:23690

硅基MCT紅外探測器的鈍化初步研究

碲鎘汞(MCT)材料的表面鈍化是紅外探測器制備中的關(guān)鍵工藝之一。高性能MCT器件需要穩(wěn)定且可重復(fù)生產(chǎn)的鈍化表面和符合器件性能要求的界面。因此,探究MCT表面鈍化技術(shù)具有重要意義。國際上,MCT鈍化
2023-09-12 09:15:46358

腐蝕pcb板的溶液是什么

腐蝕pcb板的溶液按抗蝕層類型與生產(chǎn)條件而選擇:有酸性氯化銅、堿性氯化銅、三氯化鐵、硫酸與過氧化氫、過硫酸鹽等多種。下面捷多邦小編和大家介紹一下腐蝕pcb板的溶液的一些知識。 三氯化鐵的蝕刻液是銅箔
2023-10-08 09:50:22743

GB∕T 2423.18-2021 環(huán)境試驗 第2部分:試驗方法 試驗Kb:鹽霧,交變(氯化鈉溶液

2023-10-31 08:31:400

中國石化與晶瑞電材合作推動集成電路用異丙醇國產(chǎn)化

異丙醇作為濕電子化學(xué)品的主要有機(jī)溶劑,被廣泛用于集成電路制程中的清洗和干燥步驟,是高端芯片制造的關(guān)鍵原料。值得注意的是,由于我國超凈高純異丙醇仍需大量進(jìn)口,這成為產(chǎn)業(yè)鏈中的一環(huán)短板。
2023-12-28 14:07:08335

復(fù)合式鹽霧試驗箱在生活中有什么應(yīng)用?

或金屬材料的耐蝕性。中性鹽霧試驗(NSS)是一種出現(xiàn)較早、應(yīng)用領(lǐng)域廣泛的加速腐蝕試驗方法。選用百分之五的氯化鈉鹽溶液,溶液PH值在中性范圍(6~7)作為噴霧使用的溶
2024-03-04 17:21:02113

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