我們在之前的專欄文章《一枚芯片的實(shí)際成本是多少？》中著重探討了芯片制造的硬件相關(guān)成本。今天我們將針對芯片硬件成本之外的軟性成本進(jìn)行解讀。
2016-04-28 00:11:00
1830 有人知道 為什么光刻完事 剝離那么容易脫落呢 怎么避免呢
2012-06-26 12:40:30
本帖最后由 iweimo 于 2014-10-20 15:07 編輯
先分享光刻的參考資料。============================2014-10-17========光刻分類
2014-09-26 10:35:02
一、光刻膠的選擇光刻膠包括兩種基本的類型：正性光刻和負(fù)性光刻，區(qū)別如下
2021-01-12 10:17:47
隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個數(shù)量級（從毫米級到亞微米級），已從常規(guī)光學(xué)技術(shù)發(fā)展到應(yīng)用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術(shù)；使用波長已從4000埃擴(kuò)展到 0.1埃
2012-01-12 10:51:59
關(guān)于光刻工藝的原理，大家可以想象一下膠片照片的沖洗，掩膜版就相當(dāng)于膠片，而光刻機(jī)就是沖洗臺，它把掩膜版上的芯片電路一個個的復(fù)制到光刻膠薄膜上，然后通過刻蝕技術(shù)把電路“畫”在晶圓上。 當(dāng)然
2020-07-07 14:22:55
芯片制造流程其實(shí)是多道工序?qū)⒏鞣N特性的材料打磨成形，經(jīng)循環(huán)往復(fù)百次后，在晶圓上“刻”出各種電子特性的區(qū)域，最后形成數(shù)十億個晶體管并被組合成電子元件。那光刻，整個流程中的一個重要步驟，其實(shí)并沒有
2020-09-02 17:38:07
MEMS、芯片封裝和微加工等領(lǐng)域。目前，直接采用 SU8光刻膠來制備深寬比高的微結(jié)構(gòu)與微零件已經(jīng)成為微加工領(lǐng)域的一項(xiàng)新技術(shù)。在微流控芯片加工中，SU-8主要用于快速模塑法加工PDMS微流控芯片。運(yùn)用
2018-07-12 11:57:08
和光刻成本的增加。 另外，在投影式曝光系統(tǒng)中，光束通常以一定的入射角進(jìn)入光刻膠體內(nèi)，膠膜越厚，形成的光刻膠圖形尺寸也越大。為了得到精確的光刻膠圖形，希望膠膜越薄越好。為了保證光刻圖形轉(zhuǎn)移無缺陷，膠膜也
2018-08-23 11:56:31
光刻膠也稱為光致抗蝕劑，是一種光敏材料，它受到光照后特性會發(fā)生改變。光刻膠主要用來將光刻掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上。光刻膠有正膠和負(fù)膠之分。正膠經(jīng)過曝光后，受到光照的部分變得容易溶解，經(jīng)過顯影后被
2019-11-07 09:00:18
這是我的版圖一部分，然后生成了圖案是這樣的： 感覺間距小的地方全都有殘留，間距大的地方?jīng)]有殘留；工藝參數(shù)：s9920光刻膠， evg 620‘未進(jìn)行蒸汽底漆層涂覆，前烘：100攝氏度，90s
2016-11-29 14:59:18
Futurrex,成立于1985年，位總部設(shè)在美國新澤西州，富蘭克林市。 公司業(yè)務(wù)范圍覆蓋北美、亞太以及歐洲。Futurrex在開發(fā)最高端產(chǎn)品方面已經(jīng)有很長的歷史，尤其是其光刻
2010-04-21 10:57:46
、芯片封裝和微加工等領(lǐng)域。目前，直接采用 SU- 8 光刻膠來制備深寬比高的微結(jié)構(gòu)與微零件已經(jīng)成為微加工領(lǐng)域的一項(xiàng)新技術(shù)。SU 8光刻膠光刻前清洗工藝：為了獲得更好的光刻效果，在進(jìn)行光刻膠旋涂之前，需要
2018-07-04 14:42:34
就可能在掩膜版上造成損傷,這樣在今后所有利用這塊掩膜版進(jìn)行暴光的硅片上都會出現(xiàn)這個缺陷.因此,采用接觸式光刻很難得到?jīng)]有缺陷的超大規(guī)模集成電路芯片,所以接觸式光刻技術(shù)一般只適用于中小規(guī)模集成電路。
2012-01-12 10:56:23
半導(dǎo)體光刻蝕工藝
2021-02-05 09:41:23
中國科學(xué)院大學(xué)（以下簡稱國科大）微電子學(xué)院是國家首批支持建設(shè)的示范性微電子學(xué)院，國科大微電子學(xué)院開設(shè)的《集成電路先進(jìn)光刻技術(shù)與版圖設(shè)計(jì)優(yōu)化》課程是國內(nèi)少有的研究討論光刻技術(shù)的研究生課程，而開設(shè)課程
2021-10-14 09:58:07
本人是菜鳥 需要在玻璃上光刻普通的差值電極 以前一直在硅片上面光刻 用的光刻膠是AZ5214E 正膠 同樣的工藝和參數(shù)在玻璃上附著力差了很多 懇請哪位高人指點(diǎn)一下PS 插值電極的距離為25微米 小女子這廂謝過了
2010-12-02 20:40:41
更高的亮度?！ 〖?b class="flag-6" style="color: red">光刻劃的優(yōu)勢 - 可以干凈整齊的刻劃硬脆性材料 - 非接觸式工藝低運(yùn)營成本 - 減少崩邊、微裂紋、分層等缺陷的出現(xiàn) - 刻劃線條窄提高了單片晶圓上的分粒數(shù)量 - 減少微裂紋
2011-12-01 11:48:46
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻機(jī)作為集成電路制造中最關(guān)鍵的設(shè)備，對芯片制作工藝有著決定性的影響，被譽(yù)為“超精密制造技術(shù)皇冠上的明珠”，根據(jù)之前中芯國際的公報(bào)，目...
2021-07-29 09:36:46
GK-1000光刻掩膜版測溫儀，光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)測溫儀光刻機(jī)是一種用于微納米加工的設(shè)備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）等微細(xì)結(jié)構(gòu)。光刻機(jī)是一種光學(xué)投影技術(shù)，通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07
光刻是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)流程中最復(fù)雜、最關(guān)鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)的難點(diǎn)和關(guān)鍵點(diǎn)在于將電路圖從掩模上轉(zhuǎn)移至硅片上，這一過程通過光刻來實(shí)現(xiàn)， 光刻的工藝水平直接決定芯片的制程水平和性能
2018-04-08 16:10:52162273 
在半導(dǎo)體芯片制造設(shè)備中，投資最大、也是最為關(guān)鍵的是光刻機(jī)，光刻機(jī)同時也是精度與難度最高、技術(shù)最為密集、進(jìn)步最快的一種系統(tǒng)性工程設(shè)備。光學(xué)光刻技術(shù)與其它光刻技術(shù)相比，具有生產(chǎn)率高、成本低、易實(shí)現(xiàn)高的對準(zhǔn)和套刻精度、掩模制作相對簡單、工藝條件容易掌握等優(yōu)點(diǎn)，一直是半導(dǎo)體芯片制造產(chǎn)業(yè)中的主流光刻技術(shù)。
2018-04-10 11:26:34205917 
光刻技術(shù)是集成電路最重要的加工工藝。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實(shí)施，都離不開光刻技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，占芯片制造成本的35%以上。
2018-04-22 17:54:003147 ，不過它的底片是涂滿光敏膠（也叫光刻膠）的硅片。各種電路圖案經(jīng)激光縮微投影曝光到光刻膠上，光刻膠的曝光部分與硅片進(jìn)行反應(yīng)，將其永久的刻在硅片上，這是芯片生產(chǎn)的最關(guān)鍵步驟。 由于光刻機(jī)在芯片最后的封裝，以及平板顯示器件生產(chǎn)都可以用到，所以這里的光刻機(jī)一般特指芯片生產(chǎn)的前道光刻
2018-07-29 11:16:005435 這是一種老式的旋轉(zhuǎn)涂膠機(jī)，將芯片上涂上光刻膠然后將芯片放到上邊，可以通過機(jī)器的旋轉(zhuǎn)的力度將光刻膠均勻分布到芯片表面，光刻膠只有均勻涂抹在芯片表面，才能保證光刻的成功。
2018-05-17 14:39:3718498 飛利信表示，公司芯片屬于自主可控芯片。目前，公司芯片處于光刻（平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個主要工藝）的最后階段。
2018-07-18 14:32:025531 在集成電路的制造過程中，有一個重要的環(huán)節(jié)——光刻，正因?yàn)橛辛怂覀儾拍茉谖⑿〉?b class="flag-6" style="color: red">芯片上實(shí)現(xiàn)功能。
2018-12-29 15:32:095670 在集成電路的制造過程中，有一個重要的環(huán)節(jié)——光刻，正因?yàn)橛辛怂?，我們才能在微小?b class="flag-6" style="color: red">芯片上實(shí)現(xiàn)功能。
2019-01-03 15:31:596279 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實(shí)施，都離不開光刻的技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發(fā)展中，光刻技術(shù)的增長，直接關(guān)系到大型計(jì)算機(jī)的運(yùn)作等高科技領(lǐng)域。
2019-02-25 10:07:535812 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實(shí)施，都離不開光刻的技術(shù)。
2019-03-02 09:41:2911136 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實(shí)施，都離不開光刻的技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發(fā)展中，光刻技術(shù)的增長，直接關(guān)系到大型計(jì)算機(jī)的運(yùn)作等高科技領(lǐng)域。
2019-03-03 10:00:314088 光刻機(jī)的作用有多大，在這時候就體現(xiàn)出來了。即便是自己能夠研發(fā)出芯片了，但是沒有光刻機(jī)還是不能批量生產(chǎn)。并且就現(xiàn)在來說國際上的光刻機(jī)咱們國家大陸地區(qū)還是買不到的，似乎是在進(jìn)行技術(shù)封鎖，這也就苦了華為這樣能夠自主研發(fā)芯片的公司。
2019-03-13 15:16:0720007 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。光刻是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實(shí)施，都離不開光刻的技術(shù)。
2019-11-23 10:45:54158604 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實(shí)施，都離不開光刻的技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發(fā)展中，光刻技術(shù)的增長，直接關(guān)系到大型計(jì)算機(jī)的運(yùn)作等高科技領(lǐng)域。
2019-12-21 09:58:4020182 眾所周知，說起芯片，大家就會想到光刻機(jī)，說起光刻機(jī)，大家就會想到ASML。因?yàn)樵?b class="flag-6" style="color: red">芯片生產(chǎn)中，光刻機(jī)特別重要，而ASML又是高端光刻機(jī)的壟斷者，占了85%以上的高端市場。
2020-02-20 20:30:455443 2月28日，美國泛林公司宣布與ASML阿斯麥、IMEC比利時微電子中心合作開發(fā)了新的EUV光刻技術(shù)，不僅提高了EUV光刻的良率、分辨率及產(chǎn)能，還將光刻膠的用量最多降至原來的1/10，大幅降低了成本。
2020-02-29 11:20:583228 光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一，作為目前世界上最復(fù)雜的精密設(shè)備之一，其實(shí)光刻機(jī)除了能用于生產(chǎn)芯片之外，還有用于封裝的光刻機(jī)，或者是用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)。目前，我國高端的光刻機(jī)，基本上是從荷蘭ASML進(jìn)口的。
2020-03-18 11:12:0244388 作為芯片制造的核心設(shè)備之一，光刻機(jī)對芯片生產(chǎn)的工藝有著決定性影響。 據(jù)悉，光刻機(jī)按照用途可分為生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)、封裝芯片的光刻機(jī)以及用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)。其中，生產(chǎn)芯片的High End
2020-06-15 08:05:54999 ％，再考慮到光刻工藝步驟中的光刻膠、光刻氣體、光罩（光掩膜板）、涂膠顯影設(shè)備等諸多配套設(shè)施和材料投資，實(shí)則整個光刻工藝占到了芯片成本的三分之一左右。
2020-10-09 15:40:112189 ASML的EUV光刻機(jī)是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產(chǎn)的設(shè)備，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻機(jī)必不可缺。一臺EUV光刻機(jī)的售價為1.48億歐元，折合人民幣高達(dá)11.74億元
2020-10-19 12:02:499647 
”的。 （硅晶圓上的集成電路和電子元器件） 光刻技術(shù)，正是半導(dǎo)體芯片得以出現(xiàn)的關(guān)鍵技術(shù)之一，也仍然是今天芯片的核心制造工藝，光刻機(jī)更是被譽(yù)為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠。 在試圖探討我國如何實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)突圍的當(dāng)下，光
2020-10-30 08:54:13116 芯片硬件成本 芯片硬件成本包括晶圓成本+掩膜成本+封裝成本+測試成本四部分，寫成一個公式就是芯片硬件成本=（晶圓成本+掩膜成本+封裝成本+測試成本）/ 最終成品率 晶圓是制造芯片的原材料，晶圓成本
2020-11-05 09:32:504018 在集成電路的制造過程中，有一個重要的環(huán)節(jié)光刻，正因?yàn)橛辛怂?，我們才能在微小?b class="flag-6" style="color: red">芯片上實(shí)現(xiàn)功能。 根據(jù)維基百科的定義，光刻是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫
2020-11-11 10:14:2022384 12月2日消息，據(jù)國外媒體報(bào)道，全球第一大芯片代工商臺積電，能夠獲得大量的芯片代工訂單，除了領(lǐng)先的制程工藝，還得益于阿斯麥所供應(yīng)的大量先進(jìn)的光刻機(jī)，在第二代7nm和5nm所需要的極紫外光刻機(jī)方面，尤其如此，他們獲得的極紫外光刻機(jī)的數(shù)量，遠(yuǎn)多于三星。
2020-12-02 10:21:09835 摘要：芯片制造用到的技術(shù)很多，光刻是芯片制造的靈魂技術(shù)，但是開始的時候，光刻并不是所有技術(shù)中最厲害的?，F(xiàn)在大眾認(rèn)識到了芯片的重要性，討論芯片產(chǎn)業(yè)的卡脖子問題時，提到最多的是光刻和光刻機(jī)。那么，光刻
2020-12-04 15:45:285142 在光刻機(jī)領(lǐng)域一家獨(dú)大的荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML，占據(jù)著芯片行業(yè)的頂端，畢竟沒有了他們的設(shè)備，想要造出先進(jìn)工藝制程的芯片是沒戲的。 財(cái)報(bào)披露，ASML2020年全年凈銷售額140億歐元，毛利率為48.6
2021-01-22 10:38:164677 
2600萬片晶圓采用EUV系統(tǒng)進(jìn)行光刻。隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，光刻的精度不斷提高，2021年先進(jìn)工藝將進(jìn)入5nm/3nm節(jié)點(diǎn)，極紫外光刻成為必修課，EUV也成為半導(dǎo)體龍頭廠商競相爭奪采購的焦點(diǎn)。未來，極紫外光刻技術(shù)將如何發(fā)展？產(chǎn)業(yè)格局如何演變？我國發(fā)展半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)應(yīng)如何解決光刻技術(shù)的難題？
2021-02-01 09:30:232588 光刻機(jī)是我國芯片制造業(yè)一大痛點(diǎn)，目前，在EUV光刻機(jī)賽道中，僅有ASML一個玩家。
2021-03-02 15:29:139297 以下內(nèi)容由對話音頻整理 本期話題 ● EUV光刻機(jī)產(chǎn)能如何？ ● 晶圓為什么是圓的？ ● 不同制程的芯片之間有何區(qū)別？ ● 什么是邏輯芯片，邏輯芯片又包括哪些？ ● 專用芯片與通用芯片 ● 中科院
2021-03-14 09:46:3023476 、用途 光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一,按照用途可以分為好幾種:有用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī);有用于封裝的
2021-03-27 10:00:371469 
用途 光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一,按照用途可以分為好幾種:有用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī);有用于封裝的光刻機(jī)
2021-03-30 18:17:272075 
眾所周知，想要在芯片領(lǐng)域打破由歐美國家所壟斷的市場，必須要解決光刻機(jī)的問題，這是傳統(tǒng)硅基芯片制造過程中最為重要的一環(huán)。而在光刻機(jī)領(lǐng)域，荷蘭的ASML則是光刻機(jī)領(lǐng)域金字塔最頂尖的企業(yè)，尤其是在極紫外光領(lǐng)域
2021-04-16 14:31:124401 
光刻機(jī)，是現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花，是半導(dǎo)體行業(yè)中的核心技術(shù)。 ? ? ? ?可能有很多人都無法切身理解光刻機(jī)的重要地位，光刻機(jī)，是制造芯片的機(jī)器，要是沒有了光刻機(jī)，我們就沒有辦法造出芯片，自然也就
2021-07-07 14:31:18125772 光刻機(jī)原理怎么做芯片 光刻是集成電路中最重要的工藝，光刻機(jī)是制造芯片的核心裝備，在芯片的制作中，幾乎每個工藝的實(shí)施，都需要用到光刻技術(shù)。可以說，光刻機(jī)是半導(dǎo)體界的一顆明珠。那么光刻機(jī)原理怎么做芯片
2021-08-07 14:54:5412869 因?yàn)樵诳萍既Πl(fā)生的各種問題，比如華為等企業(yè)被美國供斷芯片，國內(nèi)一度為芯片供應(yīng)問題而一籌莫展，很多人也因此知道了芯片的重要性的世界芯片的格局。在芯片的制作方面，傳統(tǒng)硅基芯片制造必定需要光刻機(jī)，納米
2021-08-27 17:22:2336827 因?yàn)樵诳萍既Πl(fā)生的各種問題，比如華為等企業(yè)被美國供斷芯片，國內(nèi)一度為芯片供應(yīng)問題而一籌莫展，很多人也因此知道了芯片的重要性的世界芯片的格局。在芯片的制作方面，傳統(tǒng)硅基芯片制造必定需要光刻機(jī)，納米
2021-08-31 09:40:0713616 最近光博會上看到一本關(guān)于光刻的小冊子，里面有一點(diǎn)內(nèi)容，分享給大家。 關(guān)于光刻的原理、光刻設(shè)備、光刻膠的種類和選擇等。 開篇 光刻的原理 表面處理：一般的晶圓光刻前都需要清潔干凈，特別是有有機(jī)物
2021-10-13 10:59:423893 
光刻機(jī)作為芯片產(chǎn)業(yè)制造中不可缺少的設(shè)備，也是工時和成本占比最高的設(shè)備，更是全球頂尖技術(shù)和人類智慧的結(jié)晶。那么目前有哪些國家可以制造出光刻機(jī)呢？
2022-01-03 17:30:0086844 光刻機(jī)作為芯片的核心制造設(shè)備，也是當(dāng)前最復(fù)雜的精密儀器之一。其實(shí)光刻機(jī)不僅可以用于芯片生產(chǎn)，還可以用于封裝和用于LED制造領(lǐng)域。
2022-01-03 16:43:0016302 光刻機(jī)是芯片制造的重要設(shè)備，內(nèi)部結(jié)構(gòu)精密復(fù)雜，它決定著芯片的制程工藝，是芯片生產(chǎn)中不可少的關(guān)鍵設(shè)備，而且光刻機(jī)的技術(shù)門檻極高，整個設(shè)備的不同部位采用了世界上最先進(jìn)的技術(shù)
2021-12-30 09:46:534123 光刻機(jī)制作芯片過程非常復(fù)雜，而光刻機(jī)是制造芯片最重要的設(shè)備之一，由于先進(jìn)光刻機(jī)的技術(shù)封鎖，中國芯片廠商的芯片制作工藝目前比較落后，也沒有優(yōu)秀的國產(chǎn)光刻機(jī)來掌握到最先進(jìn)的光刻技術(shù)。
2021-12-30 11:23:2111145 光刻膠是光刻機(jī)研發(fā)的重要材料，換句話說光刻機(jī)就是利用特殊光線將集成電路映射到硅片的表面，如果想要硅片的表面不留下痕跡，就需要網(wǎng)硅片上涂一層光刻膠。
2022-02-05 16:11:0011281 光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前有用于生產(chǎn)的光刻機(jī)，有用于LED制造領(lǐng)域的光刻機(jī)，還有用于封裝的光刻機(jī)。光刻機(jī)是采用類似照片沖印的技術(shù)，然后把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
2022-02-05 16:03:0085813 按照光刻機(jī)的理想工作狀態(tài)，一臺光刻機(jī)一天能生產(chǎn)800×600顆芯片，也就是48萬顆芯片，除去產(chǎn)品中的一部分次品，一天剩下的大概在40萬顆芯片左右。
2022-02-05 16:15:00203950 光刻機(jī)又被稱為掩膜對準(zhǔn)曝光機(jī)，在芯片生產(chǎn)中用于光刻工藝，而光刻工藝又是生產(chǎn)流程中最關(guān)鍵的一步，所以光刻機(jī)又是芯片生產(chǎn)中不可缺少的設(shè)備，總得來說光刻機(jī)是用來制造芯片的。
2022-02-06 07:25:0029436 來源：?果殼硬科技 1、光刻膠究竟是怎樣一個行業(yè)？ 光刻膠，又稱“光致抗蝕劑”，是光刻成像的承載介質(zhì)，可利用光化學(xué)反應(yīng)將光刻系統(tǒng)中經(jīng)過衍射、濾波后的光信息轉(zhuǎn)化為化學(xué)能量，從而把微細(xì)圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到
2022-01-20 21:02:461208 
在比較我們的單片設(shè)計(jì)與小芯片 MCM 設(shè)計(jì)時，我們的光刻工具時間顯著增加，因?yàn)榫A必須掃描 1.875 倍。這是因?yàn)楠M縫的很大一部分沒有得到充分利用。
2022-06-21 14:43:451185 
光刻機(jī)是制作芯片的關(guān)鍵設(shè)備，利用光刻機(jī)發(fā)出的紫外光源通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的硅片曝光，使光刻膠性質(zhì)變化、達(dá)到圖形刻印在硅片上形成電子線路圖。我國目前還是采用什深紫外光的193nm制程工藝，如上海微電子裝備公司（CMEE）制程90nm工藝的光刻機(jī)，那么90nm光刻機(jī)能生產(chǎn)什么芯片呢？
2022-06-30 09:46:2131257 光刻機(jī)是制作芯片并不可少的重要工具，大家都知道，光刻機(jī)技術(shù)幾乎被荷蘭ASML所壟斷，那么全球最先進(jìn)的光刻機(jī)是多少nm的？中國現(xiàn)在又能夠做出幾nm的芯片呢？
2022-07-06 10:07:15247354 光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī)。
2022-07-06 11:03:077000 說到芯片，估計(jì)每個人都知道它是什么，但說到光刻，許多人可能不知道它是什么。光刻機(jī)是制造芯片的機(jī)器和設(shè)備。沒有光刻機(jī)的話，就無法生產(chǎn)芯片，因此每個人都知道光刻機(jī)對芯片制造業(yè)的重要性。那么euv光刻
2022-07-10 11:42:276977 目前，光刻機(jī)主要分為EUV光刻機(jī)和DUV光刻機(jī)。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù)，EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。EUV為先進(jìn)工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127 euv光刻機(jī)原理是什么 芯片生產(chǎn)的工具就是紫外光刻機(jī)，是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備，對芯片技術(shù)有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。那么euv光刻機(jī)原理是什么呢？ EUV
2022-07-10 15:28:1015099 光刻機(jī)是當(dāng)前半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的核心設(shè)備，其技術(shù)含量和價值含量都很高。那么euv光刻機(jī)用途是什么呢？下面我們就一起來看看吧。 光刻設(shè)備涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)、精密運(yùn)動、精密材料傳輸、高精度微環(huán)境控制
2022-07-10 16:34:403116 芯片想必大家都很熟悉，光刻機(jī)是是制造芯片的核心裝備，并且光刻機(jī)只有一小部分國家擁有，那么光刻機(jī)為什么這么難呢？ 據(jù)說越小的東西，建造起來就越困難。 這句話不是沒有道理的。 盡管手機(jī)中的芯片只有指甲
2022-07-10 17:37:228522 首先光刻膠成分復(fù)雜，一瓶光刻膠需要光引發(fā)劑、光增感劑、光致產(chǎn)酸劑、樹脂、稀釋劑、溶劑、助劑這些材料組成，而且配方都是保密的。
2022-07-25 16:27:574270 光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區(qū)做出來。利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光。
2022-09-13 11:00:215304 劉世元介紹，光刻是芯片制造中最為關(guān)鍵的一種工藝，通過光刻成像系統(tǒng)，將設(shè)計(jì)好的圖形轉(zhuǎn)移到硅片上。隨著芯片尺寸不斷縮小，硅片上的曝光圖形會產(chǎn)生畸變。
2022-11-28 09:49:56690 日本最寄望于納米壓印光刻技術(shù)，并試圖靠它再次逆襲，日經(jīng)新聞網(wǎng)也稱，對比EUV光刻工藝，使用納米壓印光刻工藝制造芯片，能夠降低將近四成制造成本和九成電量，鎧俠 (KIOXIA）、佳能和大日本印刷等公司則規(guī)劃在2025年將該技術(shù)實(shí)用化。
2023-03-22 10:20:391837 光刻機(jī)是芯片智造的核心設(shè)備之一，也是當(dāng)下尤為復(fù)雜的精密儀器之一。正因?yàn)榇?，荷蘭光刻機(jī)智造商阿斯麥通研制的EUV光刻機(jī)才會“千金難求”。 很多人都對光刻機(jī)有所耳聞，但其實(shí)不同光刻機(jī)的用途并不
2023-04-06 08:56:49679 
光刻是在晶圓上創(chuàng)建圖案的過程，是芯片制造過程的起始階段，包括兩個階段——光掩膜制造和圖案投影。
2023-04-25 09:22:16696 
在整個芯片制造過程中，幾乎每一道工序的實(shí)施都離不開光刻技術(shù)。光刻技術(shù)也是制造芯片最關(guān)鍵的技術(shù)，占芯片制造成本的35%以上。
2023-04-26 08:57:031033 芯片前道制造可以劃分為七個環(huán)節(jié)，即沉積、涂膠、光刻、去膠、烘烤、刻蝕、離子注入。
2023-06-08 10:57:093765 
光刻機(jī)可分為前道光刻機(jī)和后道光刻機(jī)。光刻機(jī)既可以用在前道工藝，也可以用在后道工藝，前道光刻機(jī)用于芯片的制造，曝光工藝極其復(fù)雜，后道光刻機(jī)主要用于封裝測試，實(shí)現(xiàn)高性能的先進(jìn)封裝，技術(shù)難度相對較小。
2023-06-09 10:49:205860 
外，學(xué)生還就感興趣的課題做深入調(diào)研。師生共同討論調(diào)研報(bào)告，實(shí)現(xiàn)教學(xué)互動。調(diào)研的內(nèi)容涉及光刻工藝、光刻成像理論、SMO、OPC和DTCO技術(shù)。
2023-06-14 10:16:38226 
外，學(xué)生還就感興趣的課題做深入調(diào)研。師生共同討論調(diào)研報(bào)告，實(shí)現(xiàn)教學(xué)互動。調(diào)研的內(nèi)容涉及光刻工藝、光刻成像理論、SMO、OPC和DTCO技術(shù)。
2023-06-26 17:00:19766 
外，學(xué)生還就感興趣的課題做深入調(diào)研。師生共同討論調(diào)研報(bào)告，實(shí)現(xiàn)教學(xué)互動。調(diào)研的內(nèi)容涉及光刻工藝、光刻成像理論、SMO、OPC和DTCO技術(shù)。
2023-06-29 10:02:17329 
外，學(xué)生還就感興趣的課題做深入調(diào)研。師生共同討論調(diào)研報(bào)告，實(shí)現(xiàn)教學(xué)互動。調(diào)研的內(nèi)容涉及光刻工藝、光刻成像理論、SMO、OPC和DTCO技術(shù)。
2023-06-30 10:06:02261 
? ? 紫外光刻和曝光 是半導(dǎo)體行業(yè)生產(chǎn)各種高端芯片、微觀電路結(jié)構(gòu)的核心技術(shù)。在紫外光刻過程中，光源發(fā)射的紫外線通過掩模上的微小透鏡或光柵，然后投射到光刻膠層上，形成所需的微細(xì)圖案。 長期以來
2023-07-05 10:11:241026 
光刻是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)流程中最復(fù)雜、最關(guān)鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)的難點(diǎn)和關(guān)鍵點(diǎn)在于將電路圖從掩模上轉(zhuǎn)移至硅片上，這一過程通過光刻來實(shí)現(xiàn)， 光刻的工藝水平直接決定芯片的制程水平和性能水平。
2023-08-23 10:47:531589 
光刻是半導(dǎo)體加工中最重要的工藝之一，決定著芯片的性能。光刻占芯片制造時間的40%-50%，占其總成本的30%。光刻膠是光刻環(huán)節(jié)關(guān)鍵耗材，其質(zhì)量和性能與電子器件良品率、器件性能可靠性直接相關(guān)。
2023-10-26 15:10:24360 
得以延續(xù)。 ? 在高速增長的半導(dǎo)體市場里，半導(dǎo)體制造商們不斷創(chuàng)新，芯片集成度越來越高，對光刻技術(shù)也提出了越來越高的要求。隨著芯片集成度的與日俱增正在對半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈帶來前所未有的挑戰(zhàn)，制造商們渴求更高效、更低成本
2023-07-16 01:50:153009 
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/李寧遠(yuǎn)）提及芯片制造，首先想到的自然是光刻機(jī)和光刻技術(shù)。而眾所周知，EUV光刻機(jī)產(chǎn)能有限而且成本高昂，業(yè)界一直都在探索不完全依賴于EUV光刻機(jī)來生產(chǎn)高端芯片的技術(shù)和工藝。納米
2024-03-09 00:15:002917
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