對于如今的半導體產(chǎn)業(yè)而言，EUV光刻機是打造下一代邏輯和DRAM工藝技術的關鍵所在，為了在未來的工藝軍備競賽中保持優(yōu)勢，臺積電、三星和英特爾等廠商紛紛花重金購置EUV光刻機。 ? 然而，當這些來自
2022-07-22 07:49:00
2403 相干光通信的理論和實驗始于80年代。由于相干光通信系統(tǒng)被公認為具有靈敏度高的優(yōu)勢，各國在相干光傳輸技術上做了大量研究工作。經(jīng)過十年的研究，相干光通信進入實用階段。
2020-04-17 15:17:111796 
極紫外 (EUV) 光刻系統(tǒng)是當今使用的最先進的光刻系統(tǒng)。本文將介紹這項重要但復雜的技術。
2023-06-06 11:23:54688 
根據(jù)最新數(shù)據(jù)顯示，ASML在12月中完成了第100臺EUV光刻機的出貨。更加利好的消息是，業(yè)內(nèi)預估ASML今年（2021年）的EUV光刻機產(chǎn)能將達到45~50臺的規(guī)模。
2021-01-03 00:28:004735 作為近乎壟斷的光刻機巨頭，ASML的EUV光刻機已經(jīng)在全球頂尖的晶圓廠中獲得了使用。無論是英特爾、臺積電還是三星，EUV光刻機的購置已經(jīng)是生產(chǎn)支出中很大的一筆，也成了7nm之下不可或缺的制造設備
2021-12-01 10:07:4110988 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/周凱揚）到了3nm這個工藝節(jié)點之后，單靠現(xiàn)有的0.33NA EUV光刻機就很難維系下去了。為了實現(xiàn)2nm乃至未來的埃米級工藝，將晶體管密度推向1000MTr/mm2，全面
2022-12-07 01:48:002199 、LR4和ER4三款，加上ZR4 Lite和數(shù)字相干光模塊（DCO）這兩款新增的產(chǎn)品，可以覆蓋400m至2000km以內(nèi)的所有100G光互連應用。易飛揚完整的100G CFP2產(chǎn)品線一直以來，100G
2020-10-30 09:41:05
DWDM與它的前身非常相似。但是，在100G網(wǎng)絡中它通常用于實現(xiàn)更長距離的傳輸。PAM4和相干是兩個行業(yè)領先的解決方案，可提供更大的帶寬和傳輸距離。在比較100G DWDM PAM4與相干光模塊時，它
2021-03-04 10:05:34
段內(nèi)速率增長了10倍：從2011年的40G增長到今天的400G，在不久的將來還會有800G的可插拔光模塊出現(xiàn)。圖1：相干DWDM模塊的演變相干光學技術的引入是DWDM系統(tǒng)開發(fā)中最重要的創(chuàng)新之一。相干光
2021-01-29 15:33:56
WDM環(huán)網(wǎng)結構，低成本彩光模塊有待研發(fā)。80km及以上傳輸距離，相干光模塊將成為主流。標準化方面，OIF 400ZR基本方案已確定（64GBaud DP-16QAM），IEEE802.3b10k已確定
2019-12-12 17:36:16
模塊的選型和數(shù)量會有較大差異，客戶提出了50G的需求，我們會積極響應客戶需求。 5G回傳：相干光模塊 回傳將采用相干光模塊，接口帶寬超100G，預計200G相干占2/3，400G相干占1/3。從前
2019-11-07 17:23:35
之間的映射位。主要區(qū)別在于線路側光電組件，波長數(shù)量，DAC和ADC的數(shù)量。800G相干光模塊相干DSP比PAM4稍微復雜一些，但不會對成本造成太大影響。對于800Gb/s的凈數(shù)據(jù)速率，相干光模塊在雙
2020-10-23 11:06:14
，購買或者開發(fā)EUV光刻機是否必要？中國應如何切實推進半導體設備產(chǎn)業(yè)的發(fā)展？EUV面向7nm和5nm節(jié)點所謂極紫外光刻，是一種應用于現(xiàn)代集成電路制造的光刻技術，它采用波長為10～14納米的極紫外光作為
2017-11-14 16:24:44
光模塊是什么？光模塊有著哪些分類呢？光模塊的作用是什么？
2021-05-18 06:53:56
300~500nmKrF：波長248.8nmArF：波長193nm衍射效應對光刻圖案的影響左圖是理想的光強分布，由于光的衍射效應，實際的光強分布如右圖所示。當光的波長與mask的特征尺寸可比時，會產(chǎn)生明顯的衍射效應。如上圖所示，透過mask的光相互疊加，使得不該受到光照的區(qū)域被曝光。
2014-09-26 10:35:02
數(shù)量級范圍。光刻技術成為一種精密的微細加工技術?！ 〕Ｒ?guī)光刻技術是采用波長為2000～4500埃的紫外光作為圖像信息載體，以光致抗蝕劑為中間（圖像記錄）媒介實現(xiàn)圖形的變換、轉移和處理，最終把圖像信息
2012-01-12 10:51:59
，光源是ArF（氟化氬）準分子激光器，從45nm到10/7nm工藝都可以使用這種光刻機，但是到了7nm這個節(jié)點已經(jīng)的DUV光刻的極限，所以Intel、三星和臺積電都會在7nm這個節(jié)點引入極紫外光（EUV
2020-07-07 14:22:55
把被攝物體的影像復制到底片上?！ 《鳤SML光刻機在做的光刻，我們稱之為微影制程，原理是將高能雷射光穿過光罩（reticle），將光罩上的電路圖形透過聚光鏡（projectionlens），將影像縮小
2020-09-02 17:38:07
。光刻機的曝光波長也在由紫外譜g線 (436nm)→i線(365nm)→248nm→193nm→極紫外光（EUV）→X射線，甚至采用非光學光刻（電子束曝光、離子束曝光），光刻膠產(chǎn)品的綜合性能也必須隨之
2018-08-23 11:56:31
，他們發(fā)現(xiàn)了一個可以解決120km以內(nèi)的數(shù)據(jù)中心互連（DCI）的機會。在這樣的背景下，光互聯(lián)網(wǎng)絡論壇（OIF）于2016年啟動了一個項目，旨在標準化可互操作的相干光器件接口，其功率預算可以支持
2020-10-23 11:09:02
是光通信技術制高點。易飛揚秉承光互連設計革新者的理念，于2018年初正式投資進入相干光模塊開發(fā)，開放性地與上游供應鏈進行戰(zhàn)略合作，在低功耗設計、信號調制模型上進行優(yōu)化創(chuàng)新，取得了重大成果。為順利啟動商用
2020-06-19 09:59:49
為什么在骨干網(wǎng)，長距傳輸上選擇了相干光通信？了解相干光通信之前所需的知識儲備QPSK，QAM等復雜調制格式具體實現(xiàn)的方式
2021-02-04 07:31:07
,Transceiver Module（思科官網(wǎng)上的叫法）。另外，如SFP光模塊，SFP Transceiver也是最常用的叫法。光模塊品牌：目前市場上主流的光模塊品牌有F-tone(北億纖通),思科，華為，H3C，HP，中興等，另外，近年來國內(nèi)更是出現(xiàn)了大量新興品牌。
2022-04-13 11:23:45
什么是CWDM光模塊？CWDM光模塊有哪些封裝方式？CWDM光模塊應用在什么地方？
2021-05-18 06:46:07
什么是SFP光模塊？SFP光模塊由哪些器件構成？SFP光模塊有哪些分類？
2021-05-17 06:09:51
光互連、高清視頻光傳輸、5G 光網(wǎng)絡、相干光通信和硅光芯片集成，主要產(chǎn)品包括光模塊、有源光纜、MPO布線系統(tǒng)、光無源器件、相干光模塊和光模塊云平臺?！ 。?）華工正源 華工正源成立于2001年
2020-03-17 14:27:57
，改變空間上光分布的振幅或強度、相位、偏振態(tài)以及波長，或者把非相干光轉化成相干光。由于它的這種性質，可作為實時光學信息處理、光計算和光學神經(jīng)網(wǎng)絡等系統(tǒng)中構造單元或關鍵的器件?？臻g光調制器一般按照讀出光
2021-04-14 17:45:37
單片機中步進電機與光控無法同時使用
2013-05-01 22:27:26
光模塊是光纖通信系統(tǒng)中重要的器件。華為光模塊是國內(nèi)品牌"華為"的光模塊，通常原裝光模塊的價格都過于昂貴。在這個環(huán)境下，有一些其他的公司也在開發(fā)生產(chǎn)光模塊，被稱為第三方光模塊
2016-11-12 10:27:40
影響相干光學采集系統(tǒng)的因素有哪些？
2021-05-08 08:54:30
主要是光模塊、光無源器件、相干光通信模塊與子系統(tǒng)。易飛揚重點服務數(shù)據(jù)中心、5G承載網(wǎng)、城域波分傳輸、超高清廣播視訊等應用領域，是一家創(chuàng)新設計的高速光互連硬件解決方案商。
2021-08-05 15:10:49
、打造開放共贏的5G產(chǎn)業(yè)。作為5G參與的重要一員，易飛揚將攜200G數(shù)字相干光模塊最新產(chǎn)品全程參與，并于現(xiàn)場進行產(chǎn)品演示。今年是全球5G發(fā)展里程碑的一年，也是中國5G商用元年。為了能夠滿足5G高速光網(wǎng)
2020-01-07 10:35:51
`[中國，深圳，2021年6月4日]近日，為適應DCI市場需求，全球光互連設計革新者——易飛揚（GIGALIGHT）發(fā)布了一款經(jīng)濟型Transponder&Muxponder相干光
2021-06-04 16:38:39
Transponder&Muxponder相干光傳輸子系統(tǒng)極簡解決方案，可支持200G CFP2 DCO、100G CFP2 DCO相干光模塊, 200G Muxponder光轉換單元、摻鉺光纖
2021-09-24 09:33:50
40km不需要相干光模塊的問題。當前易飛揚完整的200G產(chǎn)品線如下：有源光纜系列200G QSFP-DD AOC200G QSFP56 AOC直連銅纜系列200G QSFP56 PCC200G
2021-07-08 11:20:37
：系統(tǒng)支持10G/25G/40G/100G混合接入，按照25G信號要求進行色散使用，能夠滿足其它速率信號傳輸要求。 對于超長距離的DCI，最有效的傳輸技術是相干光傳輸。通過建立快速、可靠的連接，物理上獨立
2021-07-26 16:37:31
對比度從無孔時的22%增大到36%,影響光SSD效果;分析給出了滿足光SSD使用的空間濾波器的小孔尺寸?！娟P鍵詞】：譜色散勻滑;;空間濾波器;;柯林斯傳輸公式;;硬邊光闌;;透鏡陣列【DOI】：CNKI
2010-04-26 16:14:36
請問有“基于數(shù)字信號處理的相干光通信技術”電子版么？謝謝！
2021-06-22 06:26:37
器件服務。內(nèi)置EDFA的數(shù)字相干光模塊有助于幫助云和電信運營商降低運營成本和投資成本，延長傳輸距離，加快高速系統(tǒng)的部署進度。CFP2-DCO相干光模塊結構圖傳統(tǒng)EDFA尺寸大、功耗高、成本高，已經(jīng)無法
2020-12-15 09:47:26
據(jù)羊城晚報報道，近日中芯國際從荷蘭進口的一臺大型光刻機，順利通過深圳出口加工區(qū)場站兩道閘口進入廠區(qū)，中芯國際發(fā)表公告稱該光刻機并非此前盛傳的EUV光刻機，主要用于企業(yè)復工復產(chǎn)后的生產(chǎn)線擴容。我們知道
2021-07-29 09:36:46
便攜式LED勻光勘察光源JW7112/HP_痕跡勘查燈不僅具有普通強光手電的照明功能，也可通過增加濾光片形成多波段光源，實現(xiàn)一燈多用，適用于現(xiàn)場
2023-03-30 11:34:34
華為逆變器SUN2000-100kTL-M2智能光伏控制器技術參數(shù)：產(chǎn)品型號：SUN2000-100KTL-M2產(chǎn)品名稱：華為光伏逆變器100KW、華為智能光伏控制器、華為光伏并網(wǎng)100KW逆變器
2023-08-29 17:01:25
測試、測量及監(jiān)測儀器的全球領導廠商---泰克公司日前在亞洲光纖通信與光電國際會議 （ACP 2013）上展出了其最新前沿相干光測試完整解決方案，其中包括寬帶OFDM光通信系統(tǒng)測試解決方案、400G/1Tbps多載波相干光調制方案以及40G/100G光通信一致性解決方案。
2013-12-02 14:28:54911 成功選擇相干光采集系統(tǒng)的關鍵
2017-01-14 14:42:25
14 相干光正交頻分復用系統(tǒng)偏振模色散研究_郝耀鴻
2017-01-07 16:52:062 相干光測試常見發(fā)射機及接收機的劣化
2017-01-08 14:27:4934 深入洞察相干光通信系統(tǒng)
2017-09-01 11:14:3312 在相干光通信中主要利用了相干調制和外差檢測技術。所謂相干調制，就是利用要傳輸?shù)男盘杹砀淖児廨d波的頻率、相位和振幅，這就需要光信號有確定的頻率和相位，即應是相干光。激光就是一種相干光。
2018-02-09 15:35:3822124 
隨著三星宣布7nm EUV工藝的量產(chǎn)，2018年EUV光刻工藝終于商業(yè)化了，這是EUV工藝研發(fā)三十年來的一個里程碑。不過EUV工藝要想大規(guī)模量產(chǎn)還有很多技術挑戰(zhàn)，目前的光源功率以及晶圓產(chǎn)能輸出還沒有
2018-10-30 16:28:403376 掌握全球唯一EUV光刻機研發(fā)、生產(chǎn)的荷蘭ASML（阿斯麥）公司今天發(fā)布了2019年Q2季度財報，當季營收25.68億歐元，其中凈設備銷售額18.51億歐元，總計出貨了41臺光刻機，其中EUV光刻機7臺。
2019-07-23 10:47:213102 
格芯首席技術官Gary Patton表示，如果在5nm的時候沒有使用EUV光刻機，那么光刻的步驟將會超過100步，這會讓人瘋狂。所以所EUV光刻機無疑是未來5nm和3nm芯片的最重要生產(chǎn)工具，未來圍繞EUV光刻機的爭奪戰(zhàn)將會變得異常激烈。因為這是決定這些廠商未來在先進工藝市場競爭的關鍵。
2019-09-03 17:18:1812845 
相干光通信的理論和實驗始于80年代。由于相干光通信系統(tǒng)被公認為具有靈敏度高的優(yōu)勢，各國在相干光傳輸技術上做了大量研究工作。經(jīng)過十年的研究，相干光通信進入實用階段。英美日等國相繼進行了一系列相干光通信實驗。
2019-09-26 15:48:21930 
近些年來EUV光刻這個詞大家應該聽得越來越多，三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片，臺積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝，蘋果的A13
2020-02-29 10:58:473149 近些年來EUV光刻這個詞大家應該聽得越來越多，三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片，臺積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝，蘋果的A13
2020-02-29 11:42:4529308 在EUV光刻機方面，荷蘭ASML（阿斯麥）公司壟斷了目前的EUV光刻機，去年出貨26臺，創(chuàng)造了新紀錄。據(jù)報道，ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機，預計在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:21:194670 與此同時， 他指出，EUV繼續(xù)為ASML的客戶提高產(chǎn)量，迄今為止，他們的客戶已經(jīng)使用EUV光刻機曝光了超過1100萬個EUV晶圓，并交付了57個3400x EUV系統(tǒng)（3400平臺是EUV生產(chǎn)平臺）。
2020-08-14 11:20:552048 
業(yè)內(nèi)領先的高端光模塊解決方案提供商蘇州旭創(chuàng)科技有限公司今日宣布2020年上半年成功推出的100G/200G/400G CFP2 DCO系列的相干光模塊產(chǎn)品將于9月9-11日在深圳光博會（CIOE）現(xiàn)場進行展示，旭創(chuàng)展位號：8B53。
2020-08-20 11:01:042154 ASML的EUV光刻機是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產(chǎn)的設備，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻機必不可缺。一臺EUV光刻機的售價為1.48億歐元，折合人民幣高達11.74億元
2020-10-19 12:02:499647 
臺積電是第一家將EUV（極紫外）光刻工藝商用到晶圓代工的企業(yè)，目前投產(chǎn)的工藝包括N7+、N6和N5三代。
2020-10-22 14:48:561425 援引韓媒 BusinessKorea 報道，以三星為代表的韓國企業(yè)在 EUV 光刻技術方面取得了極大進展。根據(jù)對韓國知識產(chǎn)權局（KIPO）過去十年（2011-2020）的 EUV 相關專利統(tǒng)計，在 2014 年達到 88 項的頂峰，2018 年為 55 項，2019 年為 50 項。
2020-11-16 17:26:111397 在半導體工藝進入7nm之后，EUV光刻機就成為兵家必備大殺器了，全球也只有ASML公司能生產(chǎn)，單價達到10億人民幣一臺。不過在EUV技術上，ASML還真不一定就是第一，專利比三星還少。
2020-11-17 09:33:371298 在半導體工藝進入7nm之后，EUV光刻機就成為兵家必備大殺器了，全球也只有ASML公司能生產(chǎn)，單價達到10億人民幣一臺。不過在EUV技術上，ASML還真不一定就是第一，專利比三星還少。
2020-11-17 10:25:182211 EUV光刻（即極紫外光刻）利用波長非常短的光，在硅片上形成數(shù)十億個微小結構，構成一個芯片。與老式光刻機相比，EUV設備可以生產(chǎn)更小、更快、更強大的芯片。
2020-12-29 16:20:301425 上學的時候估計學到過，例如光干涉的原理。 如上圖獲得相干光的方法，雙縫衍射出現(xiàn)明暗條紋。 相干光就是頻率＼偏振＼和傳播方向相同的光波。如果一個光源在不大于Ｔｃ的兩個時刻 發(fā)出的光，在經(jīng)過不同路
2021-01-08 09:23:478490 
EUV（極紫外光）光刻機，是目前半導體產(chǎn)業(yè)已投入規(guī)模生產(chǎn)使用的最先進光刻機類型。近來，有不少消息都指出，EUV光刻機耗電量非常大，甚至它還成為困擾臺積電的一大難題。 為何EUV光刻機會這么耗電
2021-02-14 14:05:003915 目前，還有ASML有能力生產(chǎn)最先進的EUV光刻機，三星、臺積電都是ASML的客戶。但受《瓦森納協(xié)定》的制約，中國大陸沒有從ASML買來一臺EUV光刻機。
2021-01-21 08:56:184078 ASML公司前兩天發(fā)布了財報，全年凈銷售額140億歐元，EUV光刻機出貨31臺，帶來了45億歐元的營收，單價差不多11.4億歐元了。 雖然業(yè)績增長很亮眼，但是ASML也有隱憂，實際上EUV光刻
2021-01-22 17:55:242639 隨著半導體工藝進入10nm節(jié)點以下，EUV光刻機成為制高點，之前臺積電搶購了全球多數(shù)的EUV光刻機，率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝，現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場了，SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機。
2021-02-25 09:28:551644 六幺四科技與羅德與施瓦茨（以下簡稱"RS公司"）67GHz矢量網(wǎng)絡分析儀 ZVA67 協(xié)同工作，推出相干光接收元器件片上測試的完整解決方案 —— ICRA-67 相干光接收元器件分析儀可實現(xiàn)器件
2021-09-03 10:20:161579 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/周凱揚）作為近乎壟斷的光刻機巨頭，ASML的EUV光刻機已經(jīng)在全球頂尖的晶圓廠中獲得了使用。無論是英特爾、臺積電還是三星，EUV光刻機的購置已經(jīng)是生產(chǎn)支出中很大的一筆，也成了
2021-12-07 14:01:1010742 今天這篇文章，我們來聊聊一個“網(wǎng)紅”技術——相干光通信。
2022-04-14 09:15:435616 在相干光通信中，相干檢測要求信號光與本振光的偏振方向相同，即兩者的電矢量方向必須相同，才能獲得相干接收所能提供的高靈敏度。
2022-05-07 16:39:016001 
臺積電和三星從7nm工藝節(jié)點就開始應用EUV光刻層了，并且在隨后的工藝迭代中，逐步增加半導體制造過程中的EUV光刻層數(shù)。
2022-05-13 14:43:202077 
盡管CFP和CFP2數(shù)字相干光學器件可以快速高效地工作，但與其他封裝相比，它們使用的功率更大且成本更高，這些缺點可能會影響總運營成本，這給在經(jīng)濟預算內(nèi)需要優(yōu)質100G DWDM可插拔光模塊的企業(yè)帶來了挑戰(zhàn)。
2022-06-06 17:13:4810935 
HVM中的EUV光刻
?背景和歷史
?使用NXE的EUV光刻：3400B
?EUV生成原理
?EUV來源：架構
?現(xiàn)場EUV源
?電源展望
?總結
2022-06-13 14:45:450 中國芯的進步那是有目共睹，我國在光刻機，特別是在EUV光刻機方面，更是不斷尋求填補空白的途徑。
2022-07-05 10:38:3516742 光刻機是芯片制造的核心設備之一。目前世界上最先進的光刻機是荷蘭ASML的EUV光刻機。
2022-07-06 11:03:077000 如今世界最先進的EUV光刻機，只有asml一家公司可以制造出來。
2022-07-06 11:19:3850686 EUV光刻機是在2018年開始出現(xiàn)，并在2019年開始大量交付，而臺積電也是在2019年推出了7nm EUV工藝。
2022-07-07 09:48:444523 說到芯片，估計每個人都知道它是什么，但說到光刻，許多人可能不知道它是什么。光刻機是制造芯片的機器和設備。沒有光刻機的話，就無法生產(chǎn)芯片，因此每個人都知道光刻機對芯片制造業(yè)的重要性。那么euv光刻
2022-07-10 11:42:276977 機可以生產(chǎn)出納米尺寸更小、功能更強大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻機生產(chǎn)。 EUV光刻機有光源系統(tǒng)、光學鏡頭、雙工作臺系統(tǒng)三大核心技術。 目前，最先進的光刻機是荷蘭ASML公司的EUV光刻機。預計在光路系統(tǒng)的幫助下，能
2022-07-10 14:35:066173 目前，光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術，EUV使用的是深紫外光刻技術。EUV為先進工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127 euv光刻機原理是什么 芯片生產(chǎn)的工具就是紫外光刻機，是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設備，對芯片技術有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機生產(chǎn)。那么euv光刻機原理是什么呢？ EUV
2022-07-10 15:28:1015099 與此同時，在ASML看來，下一代高NA EUV光刻機為光刻膠再度帶來了挑戰(zhàn)，更少的隨機效應、更高的分辨率和更薄的厚度。首先傳統(tǒng)的正膠和負膠肯定是沒法用了，DUV光刻機上常用的化學放大光刻膠（CAR）也開始在5nm之后的分辨率和敏感度上出現(xiàn)瓶頸
2022-07-22 10:40:082010 光刻是半導體工藝中最關鍵的步驟之一。EUV是當今半導體行業(yè)最熱門的關鍵詞，也是光刻技術。為了更好地理解 EUV 是什么，讓我們仔細看看光刻技術。
2022-10-18 12:54:053180 該照明系統(tǒng)3包括視場復眼鏡31(field flyeye mirror，F(xiàn)FM)、光闌復眼鏡 32(diaphragm flyeye mirror，PFM)、中繼鏡組33；其中，中繼鏡組33通?？梢园▋蓚€或者兩個以上的中繼鏡。
2022-11-21 11:09:39689 申請?zhí)枮?CN202110524685.X。這能解決相干光因形成固定的干涉圖樣而無法勻光的問題，這個也是 EUV 光刻常見問題。 從介紹中可以看出，該專利提供了一種光刻裝置，通過不斷改變相干光形成的干涉圖樣，使得照明視場在曝光時間內(nèi)的積累光強均勻化，從而達到勻光的目的，繼而
2022-11-21 15:10:072616 
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/ 周凱揚 ）到了3nm這個工藝節(jié)點之后，單靠現(xiàn)有的0.33NA EUV光刻機就很難維系下去了。 為了實現(xiàn)2nm乃至未來的埃米級工藝，將晶體管密度推向1000MTr/mm2，全面
2022-12-07 07:25:02952 過去二十年見證了193 nm以下波長光刻技術的發(fā)展。在使用 F2 準分子激光器開發(fā)基于 157 納米的光刻技術方面付出了一些努力，但主要關注點是使用 13.5 納米軟 X 射線作為光源的極紫外 (EUV) 光刻技術。
2023-02-02 11:49:592234 引言
相干光通信系統(tǒng)具有非常多的優(yōu)點，廣泛運用在長距離光傳送網(wǎng)中。近年來，隨著網(wǎng)絡流量的爆炸式增長，數(shù)據(jù)中心對數(shù)據(jù)傳輸速度也提出了新的要求，相干光通信在數(shù)據(jù)中心短距光互連中也體現(xiàn)出
來了許許多多
2023-05-17 11:14:482 EUV光刻技術仍被認為是實現(xiàn)半導體行業(yè)持續(xù)創(chuàng)新的關鍵途徑。隨著技術的不斷發(fā)展和成熟，預計EUV光刻將在未來繼續(xù)推動芯片制程的進步。
2023-05-18 15:49:041792 
相干下沉是最近幾年相干光通信的一個熱門發(fā)展趨勢。相干光信號采用偏振復用的矢量信號，能在有限的帶寬內(nèi)傳輸更大的數(shù)據(jù)，所以可以用在數(shù)據(jù)中心之間互連的場景中，傳輸距離80-120km，比如常說的400ZR和800ZR。
2023-06-13 10:52:58472 
EUV掩膜，也稱為EUV掩?；?b class="flag-6" style="color: red">EUV光刻掩膜，對于極紫外光刻（EUVL）這種先進光刻技術至關重要。EUV光刻是一種先進技術，用于制造具有更小特征尺寸和增強性能的下一代半導體器件。
2023-08-07 15:55:02399 EUV 光是指用于微芯片光刻的極紫外光，涉及在微芯片晶圓上涂上感光材料并小心地將其曝光。這會將圖案打印到晶圓上，用于微芯片設計過程中的后續(xù)步驟。
2023-10-30 12:22:55615 三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工藝
2023-11-23 18:13:02579 
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