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電子發(fā)燒友網(wǎng)>制造/封裝>淺談EUV光刻的基礎(chǔ)知識(shí) EUV光刻如何制造芯片?

淺談EUV光刻的基礎(chǔ)知識(shí) EUV光刻如何制造芯片?

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ASML明年將發(fā)布新一代EUV光刻機(jī) 三星太子急赴荷蘭

10月15日,據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道,目前全球頂尖的光刻機(jī)生產(chǎn)商ASML正在研發(fā)第三款EUV光刻機(jī),并計(jì)劃于明年年中出貨。 從其所公布的信息來(lái)看,新款光刻機(jī)型號(hào)命名為TWINSCAN NXE:3600D
2020-10-17 05:02:003456

EUV光刻機(jī)就位后仍需解決的材料問(wèn)題

荷蘭造價(jià)上億的龐大機(jī)器到位并組裝好后,并不意味著EUV光刻機(jī)的生產(chǎn)工作完全準(zhǔn)備就緒。隨著先進(jìn)工藝晶圓制造中圖案化策略和分辨率重視程度的攀升,為了滿足這些需求,與EUV光刻技術(shù)相關(guān)的材料同樣需要納入考量,尤其是光刻膠和防護(hù)膜。 ? EUV
2022-07-22 07:49:002403

面對(duì)EUV光刻技術(shù),芯片制造商如何權(quán)衡復(fù)雜分類

除了阻抗,還有其他問(wèn)題,即EUV光掩模基礎(chǔ)設(shè)施。光掩模是給定IC設(shè)計(jì)的主模板。面膜開發(fā)之后,它被運(yùn)到制造廠。將掩模放置在光刻工具中。該工具通過(guò)掩模投射光,這又掩模在晶片上的圖像。
2017-09-29 09:09:1712238

一文看懂EUV光刻

極紫外 (EUV) 光刻系統(tǒng)是當(dāng)今使用的最先進(jìn)的光刻系統(tǒng)。本文將介紹這項(xiàng)重要但復(fù)雜的技術(shù)。
2023-06-06 11:23:54688

ASML計(jì)劃在2018年生產(chǎn)20臺(tái)EUV光刻機(jī)

”。從2019年半導(dǎo)體芯片進(jìn)入 7nm 時(shí)代開始(現(xiàn)在我們處于 10nm 時(shí)代),EUV 光刻機(jī)是絕對(duì)的戰(zhàn)略性設(shè)備,沒有它就會(huì)寸步難行。
2018-05-17 09:22:2010936

ASML完成第100臺(tái)EUV光刻機(jī)出貨

根據(jù)最新數(shù)據(jù)顯示,ASML在12月中完成了第100臺(tái)EUV光刻機(jī)的出貨。更加利好的消息是,業(yè)內(nèi)預(yù)估ASML今年(2021年)的EUV光刻機(jī)產(chǎn)能將達(dá)到45~50臺(tái)的規(guī)模。
2021-01-03 00:28:004735

EUV光刻機(jī)何以造出5nm芯片?

作為近乎壟斷的光刻機(jī)巨頭,ASML的EUV光刻機(jī)已經(jīng)在全球頂尖的晶圓廠中獲得了使用。無(wú)論是英特爾、臺(tái)積電還是三星,EUV光刻機(jī)的購(gòu)置已經(jīng)是生產(chǎn)支出中很大的一筆,也成了7nm之下不可或缺的制造設(shè)備
2021-12-01 10:07:4110988

密度提升近3倍,高NA EUV光刻機(jī)有何玄機(jī)

電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/周凱揚(yáng))到了3nm這個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)之后,單靠現(xiàn)有的0.33NA EUV光刻機(jī)就很難維系下去了。為了實(shí)現(xiàn)2nm乃至未來(lái)的埃米級(jí)工藝,將晶體管密度推向1000MTr/mm2,全面
2022-12-07 01:48:002199

EUV熱潮不斷 中國(guó)如何推進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備產(chǎn)業(yè)發(fā)展?

ofweek電子工程網(wǎng)訊 國(guó)際半導(dǎo)體制造龍頭三星、臺(tái)積電先后宣布將于2018年量產(chǎn)7納米晶圓制造工藝。這一消息使得業(yè)界對(duì)半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵設(shè)備之一極紫外光刻機(jī)(EUV)的關(guān)注度大幅提升。此后又有媒體
2017-11-14 16:24:44

光刻機(jī)工藝的原理及設(shè)備

?! 槭裁葱枰?b class="flag-6" style="color: red">EUV光刻?  EUV的優(yōu)勢(shì)之一是減少了芯片處理步驟,而使用EUV代替?zhèn)鹘y(tǒng)的多重曝光技術(shù)將大大減少沉積、蝕刻和測(cè)量的步驟。目前EUV技術(shù)主要運(yùn)用在邏輯工藝制程中,這導(dǎo)致了2019年訂單
2020-07-07 14:22:55

光刻膠在集成電路制造中的應(yīng)用

時(shí))。EUV光刻和X光光刻則可以達(dá)到更高的分辨率。然而, 它們存在的掩膜制造困難,且掩膜易被強(qiáng)光損傷等缺陷限制了它們的工業(yè)化生產(chǎn)。而電子束光刻膠極有可能在集成電路線寬降至納米級(jí)時(shí)大顯身手,目前國(guó)外電子束膠
2018-08-23 11:56:31

魂遷光刻,夢(mèng)繞芯片,中芯國(guó)際終獲ASML大型光刻機(jī) 精選資料分享

EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造,光刻機(jī)作為集成電路制造中最關(guān)鍵的設(shè)備,對(duì)芯片制作工藝有著決定性的影響,被譽(yù)為“超精密制造技術(shù)皇冠上的明珠”,根據(jù)之前中芯國(guó)際的公報(bào),目...
2021-07-29 09:36:46

難住我們的EUV光刻機(jī)#中國(guó)科技#芯片@創(chuàng)作者中心

光刻EUV晶圓制造
小凡發(fā)布于 2022-09-25 13:23:21

芯片制造關(guān)鍵的EUV光刻機(jī)單價(jià)為何能超1億歐元?

進(jìn)入10nm工藝節(jié)點(diǎn)之后,EUV光刻機(jī)越來(lái)越重要,全球能產(chǎn)EUV光刻機(jī)的就是荷蘭ASML公司了,他們總共賣出18臺(tái)EUV光刻機(jī),總價(jià)值超過(guò)20億歐元,折合每套系統(tǒng)售價(jià)超過(guò)1億歐元,可謂價(jià)值連城。
2017-01-19 18:22:593470

EUV光刻機(jī)被已經(jīng)準(zhǔn)備好了,各大企業(yè)的爭(zhēng)奪戰(zhàn)開始打響

EUV光刻機(jī)的唯一供應(yīng)商ASML在2017年度Semicon West半導(dǎo)體設(shè)備展上也表示,250瓦的EUV光源也萬(wàn)事俱備。公司2017年財(cái)報(bào)中也強(qiáng)調(diào),其EUV光刻機(jī)滿足了125WPH(每小時(shí)生產(chǎn)
2018-01-23 14:51:008018

極紫外(EUV光刻新挑戰(zhàn),除了光刻膠還有啥?

。 GlobalFoundries、英特爾、三星和臺(tái)積電希望將EUV光刻技術(shù)加入到7nm和5nm生產(chǎn)中。但就像以前一樣,EUV由幾部分組件組成,在芯片制造商能夠引入之前,它們必須整合在一起。
2018-03-31 11:52:005861

美光表示:EUV光刻機(jī)在DRAM芯片制造上不是必須的,直到1α及1β工藝上都也不會(huì)用到它

今年臺(tái)積電、三星及Globalfoundries等公司都會(huì)量產(chǎn)7nm工藝,第一代7nm工藝將使用傳統(tǒng)的DUV光刻工藝,二代7nm才會(huì)上EUV光刻工藝,預(yù)計(jì)明年量產(chǎn)。那么存儲(chǔ)芯片行業(yè)何時(shí)會(huì)用上EUV
2018-06-07 14:49:006059

存儲(chǔ)芯片行業(yè)何時(shí)會(huì)用上EUV工藝?

美光CEO Sanjay Mehrotra日前在參加伯恩斯坦年度戰(zhàn)略決策會(huì)上回答了有關(guān)的工藝問(wèn)題,在EUV光刻工藝上,他認(rèn)為EUV光刻機(jī)在DRAM芯片制造上不是必須的,直到1α及1β工藝上都也不會(huì)用到它。
2018-06-08 14:29:075468

中芯1.2億美元下單最先進(jìn)EUV光刻機(jī)

據(jù)《日經(jīng)亞洲評(píng)論》(Nikkei Asian Review)援引消息人士的話稱,中國(guó)芯片加工企業(yè)中芯國(guó)際(SMIC)今年5月向全球最大的芯片設(shè)備制造商——荷蘭ASML訂購(gòu)了首臺(tái)最先進(jìn)的EUV
2018-09-05 15:24:1914570

EUV光刻工藝終于商業(yè)化 新一代EUV光刻工藝正在籌備

達(dá)到理想狀態(tài),EUV工藝還有很長(zhǎng)的路要走。在現(xiàn)有的EUV之外,ASML與IMEC比利時(shí)微電子中心還達(dá)成了新的合作協(xié)議,雙方將共同研發(fā)新一代EUV光刻機(jī),NA數(shù)值孔徑從現(xiàn)有的0.33提高到0.5,可以進(jìn)一步提升光刻工藝的微縮水平,制造出更小的晶體管。
2018-10-30 16:28:403376

EUV光刻機(jī)對(duì)半導(dǎo)體制程的重要性

集成電路制造中最精密復(fù)雜、難度最高、價(jià)格最昂貴的設(shè)備,用于在芯片制造過(guò)程中的掩膜圖形到硅襯底圖形之間的轉(zhuǎn)移?! ?b class="flag-6" style="color: red">光刻機(jī)的發(fā)展經(jīng)過(guò)了一個(gè)漫長(zhǎng)的過(guò)程,1960年代的接觸式光刻機(jī)、接近式光刻機(jī),到1970
2018-11-02 10:14:19834

ASML正在著手開發(fā)新一代極紫外(EUV光刻機(jī)

ASML副總裁Anthony Yen表示,ASML已開始開發(fā)極紫外(EUV光刻機(jī),其公司認(rèn)為,一旦當(dāng)今的系統(tǒng)達(dá)到它們的極限,就將需要使用極紫外光刻機(jī)來(lái)繼續(xù)縮小硅芯片的特征尺寸。
2018-12-09 10:35:077142

臺(tái)積電將包攬ASML這批EUV光刻機(jī)中的18臺(tái)

由于三星去年就小規(guī)模投產(chǎn)了7nm EUV,同時(shí)ASML(荷蘭阿斯麥)將EUV光刻機(jī)的年出貨量從18臺(tái)提升到今年的預(yù)計(jì)30臺(tái),顯然促使臺(tái)積電不得不加快腳步。
2019-04-30 17:30:037913

ASML發(fā)布2019年Q2季度財(cái)報(bào) EUV光刻機(jī)最主要的問(wèn)題還是產(chǎn)能不足

掌握全球唯一EUV光刻機(jī)研發(fā)、生產(chǎn)的荷蘭ASML(阿斯麥)公司今天發(fā)布了2019年Q2季度財(cái)報(bào),當(dāng)季營(yíng)收25.68億歐元,其中凈設(shè)備銷售額18.51億歐元,總計(jì)出貨了41臺(tái)光刻機(jī),其中EUV光刻機(jī)7臺(tái)。
2019-07-18 16:02:003147

動(dòng)態(tài) | 阿斯麥發(fā)布Q2財(cái)報(bào):EUV光刻機(jī)產(chǎn)能大增

掌握全球唯一EUV光刻機(jī)研發(fā)、生產(chǎn)的荷蘭ASML(阿斯麥)公司今天發(fā)布了2019年Q2季度財(cái)報(bào),當(dāng)季營(yíng)收25.68億歐元,其中凈設(shè)備銷售額18.51億歐元,總計(jì)出貨了41臺(tái)光刻機(jī),其中EUV光刻機(jī)7臺(tái)。
2019-07-23 10:47:213102

關(guān)于EUV光刻機(jī)的分析介紹

格芯首席技術(shù)官Gary Patton表示,如果在5nm的時(shí)候沒有使用EUV光刻機(jī),那么光刻的步驟將會(huì)超過(guò)100步,這會(huì)讓人瘋狂。所以所EUV光刻機(jī)無(wú)疑是未來(lái)5nm和3nm芯片的最重要生產(chǎn)工具,未來(lái)圍繞EUV光刻機(jī)的爭(zhēng)奪戰(zhàn)將會(huì)變得異常激烈。因?yàn)檫@是決定這些廠商未來(lái)在先進(jìn)工藝市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)的關(guān)鍵。
2019-09-03 17:18:1812845

ASML研發(fā)第二代EUV光刻機(jī)的微縮分辨率、套準(zhǔn)精度提升了70%

據(jù)韓媒報(bào)道稱,ASML正積極投資研發(fā)下一代EUV光刻機(jī),與現(xiàn)有光刻機(jī)相比,二代EUV光刻機(jī)最大的變化就是High NA透鏡,通過(guò)提升透鏡規(guī)格使得新一代光刻機(jī)的微縮分辨率、套準(zhǔn)精度兩大光刻機(jī)核心指標(biāo)提升70%,達(dá)到業(yè)界對(duì)幾何式芯片微縮的要求。
2019-08-07 11:24:395849

EUV光刻設(shè)備很好賣

11月25日,市場(chǎng)研究公司總裁羅伯特·卡斯特拉諾(Robert Castellano)表示:“過(guò)去三年來(lái),應(yīng)用材料一直在晶圓制造前段工序(WFE)的設(shè)備市場(chǎng)上失去市場(chǎng)份額,而 ASML卻將憑借其價(jià)格高昂的EUV光刻設(shè)備大批出貨實(shí)現(xiàn)超越,取代應(yīng)用材料成為最大的半導(dǎo)體設(shè)備公司。”
2019-11-26 15:06:442093

ASML下一代EUV光刻機(jī)堪稱史上最貴半導(dǎo)體設(shè)備 一臺(tái)就是12億元人民幣

截至目前,華為麒麟990 5G是唯一應(yīng)用了EUV極紫外光刻的商用芯片,臺(tái)積電7nm EUV工藝制造,而高通剛發(fā)布的驍龍765/驍龍765G則使用了三星的7nm EUV工藝。
2019-12-18 09:20:0315995

半導(dǎo)體巨頭為什么追捧EUV光刻機(jī)

近些年來(lái)EUV光刻這個(gè)詞大家應(yīng)該聽得越來(lái)越多,三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片,臺(tái)積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝,蘋果的A13
2020-02-29 10:58:473149

美國(guó)泛林宣布與ASML、IMEC合作開發(fā)出新的EUV光刻技術(shù) 成本大幅降低

2月28日,美國(guó)泛林公司宣布與ASML阿斯麥、IMEC比利時(shí)微電子中心合作開發(fā)了新的EUV光刻技術(shù),不僅提高了EUV光刻的良率、分辨率及產(chǎn)能,還將光刻膠的用量最多降至原來(lái)的1/10,大幅降低了成本。
2020-02-29 11:20:583228

EUV光刻機(jī)到底是什么?為什么這么貴?

近些年來(lái)EUV光刻這個(gè)詞大家應(yīng)該聽得越來(lái)越多,三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片,臺(tái)積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝,蘋果的A13
2020-02-29 11:42:4529308

ASML研發(fā)新一代EUV光刻機(jī) 分辨率能提升70%左右

EUV光刻機(jī)方面,荷蘭ASML(阿斯麥)公司壟斷了目前的EUV光刻機(jī),去年出貨26臺(tái),創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報(bào)道,ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī),預(yù)計(jì)在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:13:482863

曝ASML新一代EUV光刻機(jī)預(yù)計(jì)2022年開始出貨 將進(jìn)一步提升光刻機(jī)的精度

EUV光刻機(jī)方面,荷蘭ASML(阿斯麥)公司壟斷了目前的EUV光刻機(jī),去年出貨26臺(tái),創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報(bào)道,ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī),預(yù)計(jì)在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:21:194670

三星首次實(shí)現(xiàn)EUV光刻設(shè)備量產(chǎn)線進(jìn)行半導(dǎo)體生產(chǎn)

2020年3月25日,三星電子(Samsung Electronics)公開透露,在半導(dǎo)體生產(chǎn)的主要工序中首次采用了新一代“EUV(極紫外線)”光刻設(shè)備的量產(chǎn)線。成為在半導(dǎo)體存儲(chǔ)芯片領(lǐng)域,全球首家使用EUV光刻設(shè)備。
2020-03-30 15:40:133189

EUV光刻機(jī)全球出貨量達(dá)57臺(tái)

與此同時(shí), 他指出,EUV繼續(xù)為ASML的客戶提高產(chǎn)量,迄今為止,他們的客戶已經(jīng)使用EUV光刻機(jī)曝光了超過(guò)1100萬(wàn)個(gè)EUV晶圓,并交付了57個(gè)3400x EUV系統(tǒng)(3400平臺(tái)是EUV生產(chǎn)平臺(tái))。
2020-08-14 11:20:552048

臺(tái)積電狂砸440億購(gòu)買55臺(tái)EUV光刻機(jī),以加快相關(guān)工藝制程發(fā)展

芯片制程已經(jīng)推進(jìn)到了7nm以下,這其中最關(guān)鍵的核心設(shè)備就要數(shù)EUV光刻機(jī)了,目前全世界只有荷蘭ASML(阿斯麥)可以制造。
2020-09-28 16:31:471631

EUV光刻機(jī)還能賣給中國(guó)嗎?

ASML的EUV光刻機(jī)是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產(chǎn)的設(shè)備,其中10nm及以下的芯片制造EUV光刻機(jī)必不可缺。一臺(tái)EUV光刻機(jī)的售價(jià)為1.48億歐元,折合人民幣高達(dá)11.74億元
2020-10-19 12:02:499647

ASML的EUV光刻機(jī)已成臺(tái)積電未來(lái)發(fā)展的“逆鱗”

臺(tái)積電是第一家將EUV(極紫外)光刻工藝商用到晶圓代工的企業(yè),目前投產(chǎn)的工藝包括N7+、N6和N5三代。
2020-10-22 14:48:561425

EUV光刻機(jī)加持,SK海力士宣布明年量產(chǎn)EUV工藝內(nèi)存

ASML公司的EUV光刻機(jī)全球獨(dú)一份,現(xiàn)在主要是用在7nm及以下的邏輯工藝上,臺(tái)積電、三星用它生產(chǎn)CPU、GPU等芯片。馬上內(nèi)存芯片也要跟進(jìn)了,SK海力士宣布明年底量產(chǎn)EUV工藝內(nèi)存。
2020-10-30 10:54:211646

目前全球只有荷蘭ASML有能力生產(chǎn)EUV光刻機(jī)

11月5日,世界光刻機(jī)巨頭荷蘭阿斯麥ASML亮相第三屆進(jìn)博會(huì)。作為全球唯一能生產(chǎn)EUV(極紫外光)光刻機(jī)的企業(yè),由于ASML目前仍不能向中國(guó)出口EUV光刻機(jī),所以此次展示的是其DUV(深紫外光)光刻機(jī)。據(jù)悉,該產(chǎn)品可生產(chǎn)7nm及以上制程芯片。
2020-11-06 11:27:465517

ASML向中國(guó)出售EUV光刻機(jī),沒那么容易

中國(guó)需要光刻機(jī),尤其是支持先進(jìn)制程的高端光刻機(jī)。具體來(lái)說(shuō),就是 EUV (極紫外光源)光刻機(jī)。
2020-11-11 10:13:304278

全球EUV光刻專利哪家強(qiáng)?卡爾蔡司位居第一

在半導(dǎo)體工藝進(jìn)入7nm之后,EUV光刻機(jī)就成為兵家必備大殺器了,全球也只有ASML公司能生產(chǎn),單價(jià)達(dá)到10億人民幣一臺(tái)。不過(guò)在EUV技術(shù)上,ASML還真不一定就是第一,專利比三星還少。
2020-11-17 10:25:182211

臺(tái)積電為保持業(yè)界領(lǐng)先地位大規(guī)模購(gòu)買EUV光刻機(jī)

機(jī)。 目前,臺(tái)積電使用ASML的Twinscan NXE EUV光刻機(jī)在其N7+以及N5節(jié)點(diǎn)上制造芯片,但在未來(lái)幾個(gè)季度
2020-11-17 16:03:381827

為何只有荷蘭ASML才能制造頂尖EUV光刻機(jī)設(shè)備?

自從芯片工藝進(jìn)入到7nm工藝時(shí)代以后,需要用到一臺(tái)頂尖的EUV光刻機(jī)設(shè)備,才可以制造7nm EUV、5nm等先進(jìn)制程工藝的芯片產(chǎn)品,但就在近日,又有外媒豪言:這種頂尖的EUV極紫外光刻機(jī),目前全球
2020-12-03 13:46:226379

三星擴(kuò)大部署EUV光刻工藝

繼SK海力士日前宣布在M14和建設(shè)中的M16工廠均引入EUV光刻機(jī)后,三星也坐不住了。 按照三星的說(shuō)法,自2014年以來(lái),EUV光刻參與的晶圓超過(guò)了400萬(wàn)片,公司積累了豐富的經(jīng)驗(yàn),也比其它廠商掌握
2020-12-04 18:26:542201

中芯國(guó)際將針對(duì) EUV 光刻設(shè)備尋求與ASML進(jìn)行談判

據(jù)報(bào)道,業(yè)內(nèi)觀察人士稱,在新任副董事長(zhǎng)蔣尚義的幫助下,中國(guó)芯片巨頭中芯國(guó)際將尋求與荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備公司阿斯麥(ASML)就 EUV 光刻設(shè)備進(jìn)行談判。 報(bào)道稱,中芯國(guó)際一直難以從阿斯麥獲得 EUV
2020-12-19 09:23:002445

臺(tái)積電為1nm制程狂購(gòu)EUV光刻機(jī)

之前有消息稱,臺(tái)積電正在籌集更多的資金,為的是向ASML購(gòu)買更多更先進(jìn)制程的EUV光刻機(jī),而這些都是為了新制程做準(zhǔn)備。
2020-12-29 09:22:482192

中芯國(guó)際將針對(duì)EUV光刻設(shè)備尋求與阿斯麥進(jìn)行談判

EUV光刻(即極紫外光刻)利用波長(zhǎng)非常短的光,在硅片上形成數(shù)十億個(gè)微小結(jié)構(gòu),構(gòu)成一個(gè)芯片。與老式光刻機(jī)相比,EUV設(shè)備可以生產(chǎn)更小、更快、更強(qiáng)大的芯片
2020-12-29 16:20:301425

臺(tái)積電向ASML購(gòu)買更多更先進(jìn)制程的EUV光刻機(jī)

Luc Van den hove表示,IMEC的目標(biāo)是將下一代高分辨率EUV光刻技術(shù)高NA EUV光刻技術(shù)商業(yè)化。由于此前得光刻機(jī)競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手早已經(jīng)陸續(xù)退出市場(chǎng),目前ASML把握著全球主要的先進(jìn)光刻機(jī)產(chǎn)能,近年來(lái),IMEC一直在與ASML研究新的EUV光刻機(jī),目前目標(biāo)是將工藝規(guī)??s小到1nm及以下。
2020-12-30 09:23:481673

芯片制造與荷蘭ASML EUV光刻機(jī)息息相關(guān)

荷蘭ASML生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)使用由激光產(chǎn)生,并通過(guò)巨型鏡子聚焦的極紫外(EUV)光束,在硅片上鋪設(shè)非常狹窄的電路。這能讓廠商制造更快、更強(qiáng)大的微處理器、內(nèi)存芯片和其他先進(jìn)元件。這些元件無(wú)論是對(duì)消費(fèi)類電子產(chǎn)品,還是對(duì)軍事應(yīng)用來(lái)說(shuō)都至關(guān)重要。
2021-01-08 10:25:322858

為何EUV光刻機(jī)會(huì)這么耗電呢

EUV(極紫外光)光刻機(jī),是目前半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)已投入規(guī)模生產(chǎn)使用的最先進(jìn)光刻機(jī)類型。近來(lái),有不少消息都指出,EUV光刻機(jī)耗電量非常大,甚至它還成為困擾臺(tái)積電的一大難題。 為何EUV光刻機(jī)會(huì)這么耗電
2021-02-14 14:05:003915

日本在EUV光刻機(jī)部件地位上不可忽略

近期三星為爭(zhēng)搶EUV設(shè)備,高層頻頻傳出密訪ASML,EUV的重要性早已不言而喻。提到EUV,大家首先想到的就是ASML,ASML并不是一個(gè)家喻戶曉的名字,但他卻是現(xiàn)代技術(shù)的關(guān)鍵。因?yàn)樗峁┝?b class="flag-6" style="color: red">制造半導(dǎo)體必不可少的“光刻”機(jī)器,在摩爾定律即將發(fā)展到盡頭的現(xiàn)在,可以說(shuō),得EUV者得先進(jìn)工藝。
2021-01-16 10:32:574386

為什么都搶著買價(jià)格更昂貴的EUV光刻機(jī)?

目前,還有ASML有能力生產(chǎn)最先進(jìn)的EUV光刻機(jī),三星、臺(tái)積電都是ASML的客戶。但受《瓦森納協(xié)定》的制約,中國(guó)大陸沒有從ASML買來(lái)一臺(tái)EUV光刻機(jī)。
2021-01-21 08:56:184078

ASML今年將出貨交付40臺(tái)EUV光刻機(jī)

在四季度財(cái)報(bào)會(huì)議上,荷蘭ASML(阿斯麥)表示,預(yù)計(jì)今年將出貨交付40臺(tái)EUV光刻機(jī),比去年多9臺(tái)。
2021-01-21 15:16:431369

ASML壟斷第五代光刻機(jī)EUV光刻機(jī):一臺(tái)利潤(rùn)近6億

%,凈利潤(rùn)達(dá)到36億歐元。全球光刻機(jī)主要玩家有ASML、尼康和佳能三家,他們占到了全球市場(chǎng)90%。 ASML由于技術(shù)領(lǐng)先,一家壟斷了第五代光刻機(jī)EUV光刻機(jī),這類光刻機(jī)用于制造7nm以下先進(jìn)制程的芯片。 2020年ASML對(duì)外銷售了31臺(tái)EUV光刻機(jī),帶來(lái)了45億歐元(折合352.52億
2021-01-22 10:38:164677

ASML下一代EUV光刻機(jī)延期:至少2025年

ASML公司前兩天發(fā)布了財(cái)報(bào),全年凈銷售額140億歐元,EUV光刻機(jī)出貨31臺(tái),帶來(lái)了45億歐元的營(yíng)收,單價(jià)差不多11.4億歐元了。 雖然業(yè)績(jī)?cè)鲩L(zhǎng)很亮眼,但是ASML也有隱憂,實(shí)際上EUV光刻
2021-01-22 17:55:242639

20年EUV光刻機(jī)量產(chǎn)歷程挽救摩爾定律

2019 年底在舊金山舉辦的年度國(guó)際電子元件會(huì)議(IEDM)上,臺(tái)積電公布的兩個(gè)報(bào)告標(biāo)志著集成電路制造邁入了EUV 光刻時(shí)代。第一個(gè)報(bào)告宣布了應(yīng)用EUV 光刻技術(shù)的7 納米世代的改良版芯片已經(jīng)
2021-02-19 09:18:203017

SK海力士豪擲4.8萬(wàn)億韓元搶購(gòu)EUV光刻機(jī)

隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)以下,EUV光刻機(jī)成為制高點(diǎn),之前臺(tái)積電搶購(gòu)了全球多數(shù)的EUV光刻機(jī),率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝,現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場(chǎng)了,SK海力士豪擲4.8萬(wàn)億韓元搶購(gòu)EUV光刻機(jī)。
2021-02-25 09:28:551644

SK海力士與ASML簽合同:SK海力士豪擲4.8萬(wàn)億韓元搶購(gòu)EUV光刻機(jī)

機(jī)。 據(jù)報(bào)道,SK海力士與ASML公司簽訂了一個(gè)超級(jí)大單,未來(lái)5年內(nèi)將斥資4.8萬(wàn)億韓元,約合43.4億美元購(gòu)買EUV光刻機(jī)。 SK海力士在一份監(jiān)管文件中稱,這筆交易是為了實(shí)現(xiàn)下一代工藝芯片量產(chǎn)的目標(biāo)。 ASML及SK海力士都沒有透露這么多資金到底購(gòu)買了多少臺(tái)EUV光刻機(jī),不過(guò)從之
2021-02-25 09:30:232047

SK海力士砸4.8萬(wàn)億韓元買EUV光刻機(jī)

隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)以下,EUV光刻機(jī)成為制高點(diǎn),之前臺(tái)積電搶購(gòu)了全球多數(shù)的EUV光刻機(jī),率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝,現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場(chǎng)了,SK海力士豪擲4.8萬(wàn)億韓元搶購(gòu)EUV光刻機(jī)。
2021-02-25 11:39:091844

冰刻技術(shù)能否助力國(guó)產(chǎn)芯片擺脫光刻機(jī)?

光刻機(jī)是我國(guó)芯片制造業(yè)一大痛點(diǎn),目前,在EUV光刻機(jī)賽道中,僅有ASML一個(gè)玩家。
2021-03-02 15:29:139297

三星積極向唯一EUV光刻機(jī)廠商ASML爭(zhēng)取訂單

三星一方面在積極向唯一的EUV光刻機(jī)廠商ASML爭(zhēng)取訂單,另外一方面也在增資為EUV產(chǎn)業(yè)鏈輸血。
2021-03-04 09:52:411757

中科院5nm光刻技術(shù)與ASML光刻機(jī)有何區(qū)別?

以下內(nèi)容由對(duì)話音頻整理 本期話題 ● EUV光刻機(jī)產(chǎn)能如何? ● 晶圓為什么是圓的? ● 不同制程的芯片之間有何區(qū)別? ● 什么是邏輯芯片,邏輯芯片又包括哪些? ● 專用芯片與通用芯片 ● 中科院
2021-03-14 09:46:3023476

ASML分享未來(lái)四代EUV光刻機(jī)的最新進(jìn)展

日前,ASML產(chǎn)品營(yíng)銷總監(jiān)Mike Lercel向媒體分享了EUV(極紫外)光刻機(jī)的最新進(jìn)展。
2021-03-19 09:39:404630

美國(guó)出手阻撓!禁止荷蘭將EUV光刻機(jī)賣給中國(guó)大陸

機(jī)),中方希望將這款價(jià)值1.5億美元的機(jī)器用于大陸芯片制造。 這款180噸重、售價(jià)1.5億美元的設(shè)備是艾司摩爾招牌產(chǎn)品,稱為「極紫外光(EUV)微影系統(tǒng)」,是制造最先進(jìn)微處理器必需。英特爾、三星電子、臺(tái)積電等公司都使用EUV設(shè)備,生產(chǎn)用于智慧手機(jī)、
2021-07-21 16:52:252126

美國(guó)出手阻撓,禁止荷蘭將EUV光刻機(jī)賣給中國(guó)大陸

光刻機(jī)設(shè)備(極紫外光刻機(jī)),中方希望將這款價(jià)值1.5億美元的機(jī)器用于大陸芯片制造。 這款180噸重、售價(jià)1.5億美元的設(shè)備是艾司摩爾招牌產(chǎn)品,稱為「極紫外光(EUV)微影系統(tǒng)」,是制造最先進(jìn)微處理器必需。英特爾、三星電子、臺(tái)積電等公司都使用EUV設(shè)備,生
2021-07-25 17:35:152919

EUV光刻機(jī)何以造出5nm芯片

7nm之下不可或缺的制造設(shè)備,我國(guó)因?yàn)橘Q(mào)易條約被遲遲卡住不放行的也是一臺(tái)EUV光刻機(jī)。 但EUV光刻機(jī)的面世靠的不僅僅是ASML一家的努力,還有蔡司和TRUMPF(通快)兩家歐洲光學(xué)巨頭的合作才得以成功。他們的技術(shù)分別為EUV光刻機(jī)的鏡頭和光源做出了不
2021-12-07 14:01:1010742

EUV光刻技術(shù)助力半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展

EUV光刻技術(shù)為半導(dǎo)體制造商提供一個(gè)前所未有的速度開發(fā)最強(qiáng)大芯片的機(jī)會(huì)。
2022-04-07 14:49:33488

關(guān)于EUV光刻機(jī)的缺貨問(wèn)題

臺(tái)積電和三星從7nm工藝節(jié)點(diǎn)就開始應(yīng)用EUV光刻層了,并且在隨后的工藝迭代中,逐步增加半導(dǎo)體制造過(guò)程中的EUV光刻層數(shù)。
2022-05-13 14:43:202077

三星董事李在镕親自拜訪ASML,只為爭(zhēng)取到EUV光刻機(jī)

媒體稱三星的目的是為了搶到ASML的EUV光刻機(jī)。 目前芯片短缺的現(xiàn)狀大家也都清楚,再加上7nm制程以下的高端芯片只有EUV光刻機(jī)才能打造,而本來(lái)EUV光刻機(jī)就稀少,因此先進(jìn)芯片發(fā)展頻頻受限,并且前段時(shí)間三星才剛剛和Intel洽談完芯片合作的事宜,因
2022-06-07 14:18:041176

EUV照片源

先進(jìn)光刻工藝EUV相關(guān)知識(shí),適合對(duì)半導(dǎo)體工藝有興趣的人員,或者是從事光刻工藝的工程師
2022-06-13 14:48:231

HVM中用于光刻EUV源:歷史和前景

HVM中的EUV光刻 ?背景和歷史 ?使用NXE的EUV光刻:3400B ?EUV生成原理 ?EUV來(lái)源:架構(gòu) ?現(xiàn)場(chǎng)EUV源 ?電源展望 ?總結(jié)
2022-06-13 14:45:450

EUV光刻機(jī)售價(jià)超26億,Intel成為首位買家,將于2025年首次交付

芯片研發(fā)的過(guò)程中,光刻機(jī)是必不可少的部分,而隨著芯片制程工藝的不斷發(fā)展,普通的光刻機(jī)已經(jīng)不能滿足先進(jìn)制程了,必須要用最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)才能完成7nm及其以下的先進(jìn)制程,而目前臺(tái)積電和三星都在攻克
2022-06-28 15:07:126676

euv光刻機(jī)三大核心技術(shù) 哪些公司有euv光刻機(jī)

中國(guó)芯的進(jìn)步那是有目共睹,我國(guó)在光刻機(jī),特別是在EUV光刻機(jī)方面,更是不斷尋求填補(bǔ)空白的途徑。
2022-07-05 10:38:3516742

euv光刻機(jī)可以干什么 光刻工藝原理

光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī)。
2022-07-06 11:03:077000

中國(guó)euv光刻機(jī)三大突破 光刻機(jī)的三個(gè)系統(tǒng)

如今世界最先進(jìn)的EUV光刻機(jī),只有asml一家公司可以制造出來(lái)。
2022-07-06 11:19:3850686

euv光刻機(jī)出現(xiàn)時(shí)間 ASML研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)

EUV光刻機(jī)是在2018年開始出現(xiàn),并在2019年開始大量交付,而臺(tái)積電也是在2019年推出了7nm EUV工藝。
2022-07-07 09:48:444523

euv光刻機(jī)目前幾納米 中國(guó)5納米光刻機(jī)突破了嗎

大家都知道,芯片制造的核心設(shè)備之一就是光刻機(jī)了?,F(xiàn)在,全球最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī),那么euv光刻機(jī)目前幾納米呢? 到現(xiàn)在,世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)能夠?qū)崿F(xiàn)5nm的加工。也就是荷蘭
2022-07-10 11:17:4242766

euv光刻機(jī)是哪個(gè)國(guó)家的

說(shuō)到芯片,估計(jì)每個(gè)人都知道它是什么,但說(shuō)到光刻,許多人可能不知道它是什么。光刻機(jī)是制造芯片的機(jī)器和設(shè)備。沒有光刻機(jī)的話,就無(wú)法生產(chǎn)芯片,因此每個(gè)人都知道光刻機(jī)對(duì)芯片制造業(yè)的重要性。那么euv光刻
2022-07-10 11:42:276977

euv光刻機(jī)是干什么的

光刻機(jī)是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備,它能夠制造和維護(hù)需要高水平的光學(xué)和電子產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ),全球只有少數(shù)制造商掌握了這一基礎(chǔ)。 光刻機(jī)的作用是對(duì)芯片晶圓進(jìn)行掃描曝光,對(duì)集成電路進(jìn)行蝕刻。精度更高的光刻
2022-07-10 14:35:066173

duv光刻機(jī)和euv光刻機(jī)區(qū)別是什么

目前,光刻機(jī)主要分為EUV光刻機(jī)和DUV光刻機(jī)。DUV是深紫外線,EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù),EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。EUV為先進(jìn)工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127

euv光刻機(jī)原理是什么

euv光刻機(jī)原理是什么 芯片生產(chǎn)的工具就是紫外光刻機(jī),是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備,對(duì)芯片技術(shù)有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。那么euv光刻機(jī)原理是什么呢? EUV
2022-07-10 15:28:1015099

euv光刻機(jī)用途是什么

光刻機(jī)是當(dāng)前半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的核心設(shè)備,其技術(shù)含量和價(jià)值含量都很高。那么euv光刻機(jī)用途是什么呢?下面我們就一起來(lái)看看吧。 光刻設(shè)備涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)、精密運(yùn)動(dòng)、精密材料傳輸、高精度微環(huán)境控制
2022-07-10 16:34:403116

EUV光刻技術(shù)相關(guān)的材料

與此同時(shí),在ASML看來(lái),下一代高NA EUV光刻機(jī)為光刻膠再度帶來(lái)了挑戰(zhàn),更少的隨機(jī)效應(yīng)、更高的分辨率和更薄的厚度。首先傳統(tǒng)的正膠和負(fù)膠肯定是沒法用了,DUV光刻機(jī)上常用的化學(xué)放大光刻膠(CAR)也開始在5nm之后的分辨率和敏感度上出現(xiàn)瓶頸
2022-07-22 10:40:082010

看一下EUV光刻的整個(gè)過(guò)程

EUV 光刻是以波長(zhǎng)為 10-14nm 的極紫外光作為光源的芯片光刻技術(shù),簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō),就是以極紫外光作“刀”,對(duì)芯片上的晶圓進(jìn)行雕刻,讓芯片上的電路變成人們想要的圖案。
2022-10-10 11:15:024367

深度解析EUV光刻工藝技術(shù)

光刻是半導(dǎo)體工藝中最關(guān)鍵的步驟之一。EUV是當(dāng)今半導(dǎo)體行業(yè)最熱門的關(guān)鍵詞,也是光刻技術(shù)。為了更好地理解 EUV 是什么,讓我們仔細(xì)看看光刻技術(shù)。
2022-10-18 12:54:053180

密度提升近3倍,高NA EUV光刻機(jī)有何玄機(jī)

投入使用高NA EUV光刻機(jī)已經(jīng)勢(shì)在必行了。 據(jù)了解,一臺(tái)高NA EUV光刻機(jī)成本就可能達(dá)到3.2億美元,這樣一個(gè)天價(jià)的光刻系統(tǒng)究竟能帶來(lái)哪些優(yōu)勢(shì),又存在哪些挑戰(zhàn)呢? 規(guī)模和密度的平衡,我們?yōu)槭裁葱枰逳A光刻機(jī)? 從今年發(fā)布的不少新品來(lái)看,即便工藝沒有太大的變化,芯片
2022-12-07 07:25:02952

EUV光刻的兩大挑戰(zhàn)者,誰(shuí)扛大旗?

過(guò)去二十年見證了193 nm以下波長(zhǎng)光刻技術(shù)的發(fā)展。在使用 F2 準(zhǔn)分子激光器開發(fā)基于 157 納米的光刻技術(shù)方面付出了一些努力,但主要關(guān)注點(diǎn)是使用 13.5 納米軟 X 射線作為光源的極紫外 (EUV) 光刻技術(shù)。
2023-02-02 11:49:592234

EUV光刻技術(shù)如何為功率半導(dǎo)體提供動(dòng)力

挑戰(zhàn)性。制造商正在關(guān)注稱為極紫 外(EUV) 光刻的先進(jìn)制造技術(shù)。 EUV光刻可用于制造比以前更小規(guī)模的芯片。該技術(shù)可以導(dǎo)致微處理器的發(fā)展,其速度比目前最強(qiáng)大的芯片快十倍。EUV光刻 的本質(zhì)也可以歸因于當(dāng)前芯片印刷技術(shù)的物理限制。
2023-02-15 15:55:294

EUV 光刻制造全流程設(shè)計(jì)解析

其全流程涉及了從 EUV 光源到反射鏡系統(tǒng),再到光掩模,再到對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),再到晶圓載物臺(tái),再到光刻膠化學(xué)成分,再到鍍膜機(jī)和顯影劑,再到計(jì)量學(xué),再到單個(gè)晶圓。
2023-03-07 10:41:581134

淺談EUV光刻中的光刻膠和掩模等材料挑戰(zhàn)

新的High NA EUV 光刻膠不能在封閉的研究環(huán)境中開發(fā),必須通過(guò)精心設(shè)計(jì)的底層、新型硬掩模和高選擇性蝕刻工藝進(jìn)行優(yōu)化以獲得最佳性能。為了迎接這一挑戰(zhàn),imec 最近開發(fā)了一個(gè)新的工具箱來(lái)匹配光刻膠和底層的屬性。
2023-04-13 11:52:121165

EUV光刻技術(shù)優(yōu)勢(shì)及挑戰(zhàn)

EUV光刻技術(shù)仍被認(rèn)為是實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體行業(yè)持續(xù)創(chuàng)新的關(guān)鍵途徑。隨著技術(shù)的不斷發(fā)展和成熟,預(yù)計(jì)EUV光刻將在未來(lái)繼續(xù)推動(dòng)芯片制程的進(jìn)步。
2023-05-18 15:49:041792

什么是EUV***?

需要明確什么是EUV光刻機(jī)。它是一種采用極紫外線光源進(jìn)行曝光的設(shè)備。與傳統(tǒng)的ArF光刻機(jī)相比,EUV光刻機(jī)可以將曝光分辨率提高到7納米以下的超高級(jí)別,從而實(shí)現(xiàn)更高清晰度和更高性能的芯片制造。
2023-05-22 12:48:373985

EUV光刻市場(chǎng)高速增長(zhǎng),復(fù)合年增長(zhǎng)率21.8%

EUV掩膜,也稱為EUV掩?;?b class="flag-6" style="color: red">EUV光刻掩膜,對(duì)于極紫外光刻(EUVL)這種先進(jìn)光刻技術(shù)至關(guān)重要。EUV光刻是一種先進(jìn)技術(shù),用于制造具有更小特征尺寸和增強(qiáng)性能的下一代半導(dǎo)體器件。
2023-08-07 15:55:02399

EUV光刻膠開發(fā)面臨哪些挑戰(zhàn)?

EUV光刻膠材料是光敏物質(zhì),當(dāng)受到EUV光子照射時(shí)會(huì)發(fā)生化學(xué)變化。這些材料在解決半導(dǎo)體制造中的各種挑戰(zhàn)方面發(fā)揮著關(guān)鍵作用,包括提高靈敏度、控制分辨率、減少線邊緣粗糙度(LER)、降低釋氣和提高熱穩(wěn)定性。
2023-09-11 11:58:42349

EUV薄膜容錯(cuò)成本高 成芯片良率的關(guān)鍵

近20年來(lái),EUV光源、EUV掩模和EUV光刻膠一直是EUV光刻的三大技術(shù)挑戰(zhàn)。
2023-09-14 09:45:12563

什么是EUV光刻?EUV與DUV光刻的區(qū)別

EUV 光是指用于微芯片光刻的極紫外光,涉及在微芯片晶圓上涂上感光材料并小心地將其曝光。這會(huì)將圖案打印到晶圓上,用于微芯片設(shè)計(jì)過(guò)程中的后續(xù)步驟。
2023-10-30 12:22:55615

三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工藝

三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工藝
2023-11-23 18:13:02579

押注2nm!英特爾26億搶單下一代 EUV光刻機(jī),臺(tái)積電三星決戰(zhàn)2025!

了。 ? 芯片制造離不開光刻機(jī),特別是在先進(jìn)制程上,EUV光刻機(jī)由來(lái)自荷蘭的ASML所壟斷。同時(shí),盡管目前市面上,EUV光刻機(jī)客戶僅有三家,但需求不斷增加的情況底下,EUV光刻機(jī)依然供不應(yīng)求。 ? 針對(duì)后3nm時(shí)代的芯片制造工藝,High-NA(高數(shù)值孔徑)EUV光刻機(jī)
2022-06-29 08:32:004635

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