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電子發(fā)燒友網(wǎng)>制造/封裝>一文解析壓焊金線工藝技術

一文解析壓焊金線工藝技術

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2010-03-30 16:43:081181

采用SiGe:C BiCMOS工藝技術的射頻/微波產(chǎn)品

采用SiGe:C BiCMOS工藝技術的射頻/微波產(chǎn)品 恩智浦將在2010年底前推出超過50種采用SiGe:C技術的產(chǎn)品,其QUBiC4 SiGe:C工藝技術可提供高功率增益和優(yōu)
2010-05-24 11:06:351367

光刻膠與光刻工藝技術

光刻膠與光刻工藝技術 微電路的制造需要把在數(shù)量上精確控制的雜質(zhì)引入到硅襯底上的微小 區(qū)域內(nèi),然后把這些區(qū)域連起來以形成器件和VLSI電路.確定這些區(qū)域圖形 的工藝是由光刻來完成的,也就是說,首先在硅片上旋轉(zhuǎn)涂覆光刻膠,再將 其曝露于某種光源下,如紫外光,
2011-03-09 16:43:210

3D封裝與硅通孔(TSV)工藝技術

對3D封裝技術結(jié)構(gòu)特點、主流多層基板技術分類及其常見鍵合技術的發(fā)展作了論述,對過去幾年國際上硅通孔( TSV)技術發(fā)展動態(tài)給與了重點的關注。尤其就硅通孔關鍵工藝技術如硅片減薄
2011-12-07 11:00:52149

科銳公司推出兩項新型GaN工藝技術

科銳公司(CREE)宣布推出兩項新型GaN工藝:0.25微米、漏極電壓最高為40V的G40V4和0.4微米、漏極電壓最高為50VG50V3。新的工藝技術增加了工作電壓和無線射頻功率密度,與傳統(tǒng)的技術相比
2012-07-18 14:30:561306

TSMC持續(xù)開發(fā)先進工藝技術節(jié)點 中國IC設計發(fā)展可期

隨著芯片微縮,開發(fā)先進工藝技術的成本也越來越高。TSMC對外發(fā)言人孫又文表示,臺積電會繼續(xù)先進工藝技術節(jié)點的投入和開發(fā),今年年底臺積電將推出20nm工藝
2012-08-30 14:34:301782

MEMS加工工藝技術詳解

本文重點描述運用MEMS微機械加工工藝技術設計、加工、生產(chǎn)胎壓傳感器IC芯片,希望對大家學習MEMS有所幫助
2012-12-11 14:17:267238

半導體工藝技術

半導體的制造流程以及各工位的詳細工藝技術
2016-05-26 11:46:340

PCB測試工藝技術

PCB測試工藝技術,很詳細的
2016-12-16 21:54:480

撓性電路板化學鎳鈀金工藝技術研究

撓性電路板化學鎳鈀金工藝技術研究
2017-01-22 20:56:130

工藝技術的發(fā)展推動蜂窩網(wǎng)絡技術

業(yè)界對哪種半導體工藝最適合某一給定應用存在著廣泛的爭論。雖然某種特殊工藝技術能更好地服務一些應用,但其它工藝技術也有很大的應用空間。像CMOS、BiCMOS、砷化鎵(GaAs)、磷化銦(InP
2019-03-15 11:06:13447

CMOS工藝制程技術的詳細資料說明

本文檔的主要內(nèi)容詳細介紹的是CMOS工藝制程技術的詳細資料說明。主要包括了:1.典型工藝技術:①雙極型工藝技術② PMOS工藝技術③NMOS工藝技術④ CMOS工藝技術2.特殊工藝技術。BiCOMS工藝技術,BCD工藝技術,HV-CMOSI藝技術。
2019-01-08 08:00:0075

PCB多層印制板層壓工藝技術解析

多層印製板的層壓工藝技術按所采用的定位系統(tǒng)的不同,可分爲前定位系統(tǒng)層壓技術(PIN-LAN)和后定位系統(tǒng)層壓技術(MASS-LAM)。前者定位精度高,但效率低、成本高,只適用于高層數(shù)、高精度的多層
2019-07-24 14:54:262987

曝光成像與顯影工藝技術的原理及特點

PCB板上的線路圖形就是PCB線路板廠家采用曝光成像與顯影蝕刻工藝技術來完成的,無論是PCB多層線路板還是柔性線路板在制作線路圖形時都要用到曝光成像與顯影工藝技術。下面來詳細介紹這兩種工藝的加工特點及加工原理。
2019-04-28 15:10:5231336

SONNET中的工藝技術層介紹

在14版本中,SONNET新引入了一種名為工藝技術層的屬性定義層,以實現(xiàn)EDA框架和設計流程的平滑過渡。該工藝技術層實際上是用戶創(chuàng)建的EM工程中 的多個屬性對象的集合體,其中包括了很多基本屬性設置,比如層的命名、物理位置、金屬屬性、網(wǎng)格控制選項等等。
2019-10-08 15:17:412021

CMOS工藝技術的學習課件免費下載

本文檔的主要內(nèi)容詳細介紹的是CMOS工藝技術的學習課件免費下載。
2020-12-09 08:00:000

微間距LED屏工藝技術解析

這幾年來,微間距LED顯示屏的高清顯示、高刷新頻率、無縫拼接、良好的散熱系統(tǒng)、拆裝方便靈活、節(jié)能環(huán)保等特點已經(jīng)被廣大的行業(yè)用戶熟知,但是,再進一步,說到微間距LED屏具體的工藝技術,普通大眾則很少知曉,“只知其一不知其二”,專業(yè)知識的匱乏,直接導致了選購盲點的出現(xiàn)。
2020-12-24 10:14:521903

IBM推出一項微芯片工藝技術中的新改進

IBM日前推出一項微芯片工藝技術中的新改進。該公司表示,這項改進將讓為手機和其它通信設備制造更高速的硅設備
2021-03-26 11:08:541281

多絞屏蔽線處理及焊接工藝技術綜述

多絞屏蔽線處理及焊接工藝技術綜述
2021-07-12 09:45:593

全面解讀電子封裝工藝技術

全面解讀電子封裝工藝技術
2022-10-10 11:00:51876

一文解析壓焊金線工藝技術

  ?第一壓點是首先壓焊在器件上的點,較多的第一壓點是在管芯上,共晶金屬層是在金球和鋁層之間的形成   ?第二焊點是其次壓焊在器件。上的點,普遍的第二壓點是在管腳。上(LeadFinger)
2022-11-18 12:28:57825

2006電子元器件搪錫工藝技術要求

2006電子元器件搪錫工藝技術要求
2023-08-23 16:48:033

電子產(chǎn)品裝聯(lián)工藝技術詳解

電子產(chǎn)品裝聯(lián)工藝技術詳解
2023-10-27 15:28:22373

MEMS封裝中的封帽工藝技術

密性等。本文介紹了五種用于MEMS封裝的封帽工藝技術,即平行縫焊、釬焊、激光焊接、超聲焊接和膠粘封帽。總結(jié)了不同封帽工藝的特點以及不同MEMS器件對封帽工藝的選擇。本文還介紹了幾種常用的吸附劑類型,針對吸附劑易于飽和問題,給出了封帽工藝解決方案,探
2024-02-25 08:39:28171

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