光刻機(jī)是集成電路制造的關(guān)鍵核心設(shè)備，為了在更小的物理空間集成更多的電子元件，單個(gè)電路的物理尺寸越來(lái)越小，主流光刻機(jī)在硅片上投射的光刻電路分辨率達(dá)到50-90nm。
2016-12-13 02:04:11
12251 傳統(tǒng)的光刻工藝是相對(duì)目前已經(jīng)或尚未應(yīng)用于集成電路產(chǎn)業(yè)的先進(jìn)光刻工藝而言的，普遍認(rèn)為 193nm 波長(zhǎng)的 ArF 深紫外光刻工藝是分水嶺（見下表）。這是因?yàn)?193nm 的光刻依靠浸沒式和多重曝光技術(shù)的支撐，可以滿足從 0.13um至7nm 共9個(gè)技術(shù)節(jié)點(diǎn)的光刻需要。
2022-10-18 11:20:2913995 翁壽松(無(wú)錫市羅特電子有限公司，江蘇無(wú)錫214001)1 32 nm/22 nm工藝進(jìn)展2006年1月英特爾推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特爾將投資90億美元在以下4座
2019-07-01 07:22:23
隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個(gè)數(shù)量級(jí)（從毫米級(jí)到亞微米級(jí)），已從常規(guī)光學(xué)技術(shù)發(fā)展到應(yīng)用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術(shù)；使用波長(zhǎng)已從4000埃擴(kuò)展到 0.1埃
2012-01-12 10:51:59
300~500nmKrF：波長(zhǎng)248.8nmArF：波長(zhǎng)193nm衍射效應(yīng)對(duì)光刻圖案的影響左圖是理想的光強(qiáng)分布，由于光的衍射效應(yīng)，實(shí)際的光強(qiáng)分布如右圖所示。當(dāng)光的波長(zhǎng)與mask的特征尺寸可比時(shí)，會(huì)產(chǎn)生明顯的衍射效應(yīng)。如上圖所示，透過mask的光相互疊加，使得不該受到光照的區(qū)域被曝光。
2014-09-26 10:35:02
一、光刻膠的選擇光刻膠包括兩種基本的類型：正性光刻和負(fù)性光刻，區(qū)別如下
2021-01-12 10:17:47
?！ 槭裁葱枰狤UV光刻？ EUV的優(yōu)勢(shì)之一是減少了芯片處理步驟，而使用EUV代替?zhèn)鹘y(tǒng)的多重曝光技術(shù)將大大減少沉積、蝕刻和測(cè)量的步驟。目前EUV技術(shù)主要運(yùn)用在邏輯工藝制程中，這導(dǎo)致了2019年訂單
2020-07-07 14:22:55
芯片制造流程其實(shí)是多道工序?qū)⒏鞣N特性的材料打磨成形，經(jīng)循環(huán)往復(fù)百次后，在晶圓上“刻”出各種電子特性的區(qū)域，最后形成數(shù)十億個(gè)晶體管并被組合成電子元件。那光刻，整個(gè)流程中的一個(gè)重要步驟，其實(shí)并沒有
2020-09-02 17:38:07
、SU-8光刻膠在近紫外光(365nm- 400nm)范圍內(nèi)光吸收度很低，且整個(gè)光刻膠層所獲得的曝光量均勻一致，可得到具有垂直側(cè)壁和高深寬比的厚膜圖形；2、SU-8光刻膠具有良好的力學(xué)性能、抗化學(xué)腐蝕性
2018-07-12 11:57:08
光刻膠也稱為光致抗蝕劑，是一種光敏材料，它受到光照后特性會(huì)發(fā)生改變。光刻膠主要用來(lái)將光刻掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上。光刻膠有正膠和負(fù)膠之分。正膠經(jīng)過曝光后，受到光照的部分變得容易溶解，經(jīng)過顯影后被
2019-11-07 09:00:18
提高，才能符合集成工藝制程的要求 [3]。以下幾點(diǎn)為光刻膠制造中的關(guān)鍵技術(shù)：配方技術(shù)、超潔凈技術(shù)、超微量分析技術(shù)及應(yīng)用檢測(cè)能力。 制程特性要求有：涂布均勻性、靈敏度、分辨率及制程寬容度。2 光刻膠的反應(yīng)
2018-08-23 11:56:31
Futurrex,成立于1985年，位總部設(shè)在美國(guó)新澤西州，富蘭克林市。 公司業(yè)務(wù)范圍覆蓋北美、亞太以及歐洲。Futurrex在開發(fā)最高端產(chǎn)品方面已經(jīng)有很長(zhǎng)的歷史，尤其是其光刻
2010-04-21 10:57:46
今日（5月6日）消息，IBM宣布造出了全球第一顆2nm工藝的半導(dǎo)體芯片。核心指標(biāo)方面，IBM稱該2nm芯片的晶體管密度（MTr/mm2，每平方...
2021-07-20 06:51:04
、芯片封裝和微加工等領(lǐng)域。目前，直接采用 SU- 8 光刻膠來(lái)制備深寬比高的微結(jié)構(gòu)與微零件已經(jīng)成為微加工領(lǐng)域的一項(xiàng)新技術(shù)。SU 8光刻膠光刻前清洗工藝：為了獲得更好的光刻效果，在進(jìn)行光刻膠旋涂之前，需要
2018-07-04 14:42:34
在智能手機(jī)等眾多數(shù)碼產(chǎn)品的更新迭代中，科技的改變悄然發(fā)生。蘋果A15仿生芯片等尖端芯片正使得更多革新技術(shù)成為可能。這些芯片是如何被制造出來(lái)的，其中又有哪些關(guān)鍵步驟呢？智能手機(jī)、個(gè)人電腦、游戲機(jī)這類
2022-04-08 15:12:41
就可能在掩膜版上造成損傷,這樣在今后所有利用這塊掩膜版進(jìn)行暴光的硅片上都會(huì)出現(xiàn)這個(gè)缺陷.因此,采用接觸式光刻很難得到?jīng)]有缺陷的超大規(guī)模集成電路芯片,所以接觸式光刻技術(shù)一般只適用于中小規(guī)模集成電路。
2012-01-12 10:56:23
半導(dǎo)體制造設(shè)備，涉及的廠商主要有ASML、KLA、應(yīng)用材料、中微半導(dǎo)體等，他們供應(yīng)的光刻機(jī)、蝕刻機(jī)等都是制造芯片的重要設(shè)備。2019年1-11月，臺(tái)積電的半導(dǎo)體制造設(shè)備采購(gòu)金額達(dá)105億美元，同比
2020-03-09 10:13:54
，小米9pro，oppo Reno3以及vivo X30）分別采用了什么芯片？ 3協(xié)同通信的方式有哪些？ 4大數(shù)據(jù)及認(rèn)知無(wú)線電（名詞解釋） 4半導(dǎo)體工藝的4個(gè)主要步驟： 4簡(jiǎn)敘半導(dǎo)體光刻技術(shù)基本原理 4給出4個(gè)全球著名的半導(dǎo)體設(shè)備制造商并指出其生產(chǎn)的設(shè)備核心技術(shù)： 5衛(wèi)
2021-07-26 08:31:09
的韋亞一研究員及其團(tuán)隊(duì)具有多年的學(xué)術(shù)界及工業(yè)界的光刻技術(shù)經(jīng)驗(yàn)積累，并出版有多本專著，其中《計(jì)算光刻與版圖優(yōu)化》一書更是列入中國(guó)科學(xué)院大學(xué)研究生教學(xué)輔導(dǎo)書系列。本號(hào)獲授權(quán)將陸續(xù)介紹《集成電路先進(jìn)光刻技術(shù)
2021-10-14 09:58:07
`一、照明用LED光源照亮未來(lái) 隨著市場(chǎng)的持續(xù)增長(zhǎng)，LED制造業(yè)對(duì)于產(chǎn)能和成品率的要求變得越來(lái)越高。激光加工技術(shù)迅速成為L(zhǎng)ED制造業(yè)普遍的工具，甚者成為了高亮度LED晶圓加工的工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)?！ 〖?b class="flag-6" style="color: red">光刻
2011-12-01 11:48:46
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻機(jī)作為集成電路制造中最關(guān)鍵的設(shè)備，對(duì)芯片制作工藝有著決定性的影響，被譽(yù)為“超精密制造技術(shù)皇冠上的明珠”，根據(jù)之前中芯國(guó)際的公報(bào)，目...
2021-07-29 09:36:46
在SEMICON West上另一個(gè)熱點(diǎn)是光刻技術(shù)能否達(dá)到15nm的經(jīng)濟(jì)制造?半導(dǎo)體業(yè)是有希望未來(lái)采用EUV技術(shù)。
2011-03-08 10:09:572516 擺脫光刻技術(shù)的沮喪看來(lái)遙遙無(wú)期。今天的193nm浸入式光刻技術(shù)仍然遠(yuǎn)遠(yuǎn)領(lǐng)先。業(yè)界一度認(rèn)為193nm浸入式光刻會(huì)在32nm遭遇極限
2011-03-21 10:00:332507 
光刻技術(shù)是集成電路最重要的加工工藝。在整個(gè)芯片制造工藝中，幾乎每個(gè)工藝的實(shí)施，都離不開光刻技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，占芯片制造成本的35%以上。
2018-04-22 17:54:003147 在集成電路的制造過程中，有一個(gè)重要的環(huán)節(jié)——光刻，正因?yàn)橛辛怂?，我們才能在微小?b class="flag-6" style="color: red">芯片上實(shí)現(xiàn)功能。
2018-12-29 15:32:095670 在集成電路的制造過程中，有一個(gè)重要的環(huán)節(jié)——光刻，正因?yàn)橛辛怂?，我們才能在微小?b class="flag-6" style="color: red">芯片上實(shí)現(xiàn)功能。
2019-01-03 15:31:596279 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個(gè)芯片制造工藝中，幾乎每個(gè)工藝的實(shí)施，都離不開光刻的技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會(huì)發(fā)展中，光刻技術(shù)的增長(zhǎng)，直接關(guān)系到大型計(jì)算機(jī)的運(yùn)作等高科技領(lǐng)域。
2019-02-25 10:07:535812 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個(gè)芯片制造工藝中，幾乎每個(gè)工藝的實(shí)施，都離不開光刻的技術(shù)。
2019-03-02 09:41:2911136 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個(gè)芯片制造工藝中，幾乎每個(gè)工藝的實(shí)施，都離不開光刻的技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會(huì)發(fā)展中，光刻技術(shù)的增長(zhǎng)，直接關(guān)系到大型計(jì)算機(jī)的運(yùn)作等高科技領(lǐng)域。
2019-03-03 10:00:314088 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。光刻是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，在整個(gè)芯片制造工藝中，幾乎每個(gè)工藝的實(shí)施，都離不開光刻的技術(shù)。
2019-11-23 10:45:54158604 光刻機(jī)是芯片制造最為重要的設(shè)備之一。目前，ASML壟斷了全世界的高端光刻機(jī)。中國(guó)一直以來(lái)都想掌握光刻機(jī)技術(shù)，但是上海微電子經(jīng)過17年的努力，才造出90nm的光刻機(jī)，這已經(jīng)十分不容易了，這可是0的突破。那么為什么光刻機(jī)這么難造呢？
2020-01-29 11:07:007799 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個(gè)芯片制造工藝中，幾乎每個(gè)工藝的實(shí)施，都離不開光刻的技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會(huì)發(fā)展中，光刻技術(shù)的增長(zhǎng)，直接關(guān)系到大型計(jì)算機(jī)的運(yùn)作等高科技領(lǐng)域。
2019-12-21 09:58:4020182 據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道，在芯片的制造過程中，光刻機(jī)是必不可少的設(shè)備，在芯片工藝提升到7nm EUV、5nm之后，極紫外光刻機(jī)也就至關(guān)重要。
2020-03-07 14:39:545045 光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一，作為目前世界上最復(fù)雜的精密設(shè)備之一，其實(shí)光刻機(jī)除了能用于生產(chǎn)芯片之外，還有用于封裝的光刻機(jī)，或者是用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)。目前，我國(guó)高端的光刻機(jī)，基本上是從荷蘭ASML進(jìn)口的。
2020-03-18 11:12:0244388 對(duì)于芯片制造廠商來(lái)說，光刻機(jī)的重要性不言而喻，尤其是目前芯片制造工藝已經(jīng)提升至5nm和3nm之后，極紫外光刻機(jī)就顯得更為重要。而ASML作為全球唯一有能力制造極紫外光刻機(jī)的廠商，他的一舉一動(dòng)，牽動(dòng)著所有相關(guān)產(chǎn)業(yè)上下游廠商的心。
2020-04-15 09:27:561851 對(duì)于芯片制造廠商來(lái)說，光刻機(jī)的重要性不言而喻，尤其是目前芯片制造工藝已經(jīng)提升至5nm和3nm之后，極紫外光刻機(jī)就顯得更為重要。而ASML作為全球唯一有能力制造極紫外光刻機(jī)的廠商，他的一舉一動(dòng)，牽動(dòng)著所有相關(guān)產(chǎn)業(yè)上下游廠商的心。
2020-04-15 15:44:364093 光刻機(jī)是中國(guó)在半導(dǎo)體設(shè)備制造上的大短板。 生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)又根據(jù)工藝分為High End光刻機(jī)和Medium and low end光刻機(jī)，雖然在High End光刻機(jī)上被荷蘭的阿斯麥所壟斷，但在Medium and low end光刻機(jī)方面中國(guó)的技術(shù)已經(jīng)較為成熟，且不斷在向High End光刻機(jī)突破。
2020-06-15 08:05:54999 （CCL）中。而這其中包括了極紫外線（EUV）掩模的計(jì)算光刻技術(shù)軟件和5nm 生產(chǎn)精加工芯片的技術(shù)，兩條直指了對(duì)芯片的制造的封鎖。 據(jù)了解，目前受到出口管制的新興技術(shù)總數(shù)已經(jīng)達(dá)到了37項(xiàng)。美國(guó)商務(wù)部在官網(wǎng)發(fā)布公告中寫道：此舉是為了支持關(guān)鍵及新
2020-10-27 10:49:102285 在集成電路的制造過程中，有一個(gè)重要的環(huán)節(jié)光刻，正因?yàn)橛辛怂?，我們才能在微小?b class="flag-6" style="color: red">芯片上實(shí)現(xiàn)功能。 根據(jù)維基百科的定義，光刻是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個(gè)重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫
2020-11-11 10:14:2022384 本月中旬，在日本東京舉辦了ITF論壇。 論壇上，與ASML（阿斯麥）合作研發(fā)光刻機(jī)的比利時(shí)半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu)IMEC公布了3nm及以下制程的在微縮層面技術(shù)細(xì)節(jié)。 至少就目前而言，ASML對(duì)于3m、2nm
2020-11-30 15:47:402520 摘要：芯片制造用到的技術(shù)很多，光刻是芯片制造的靈魂技術(shù)，但是開始的時(shí)候，光刻并不是所有技術(shù)中最厲害的?，F(xiàn)在大眾認(rèn)識(shí)到了芯片的重要性，討論芯片產(chǎn)業(yè)的卡脖子問題時(shí)，提到最多的是光刻和光刻機(jī)。那么，光刻
2020-12-04 15:45:285142 5nm光刻技術(shù)與ASML光刻機(jī)有何區(qū)別？ EUV光刻機(jī)產(chǎn)能如何？ 大飛_6g（聽友） 請(qǐng)問謝博士，EUV光刻機(jī)的產(chǎn)能是怎樣的？比如用最先進(jìn)的光刻機(jī)，滿負(fù)荷生產(chǎn)手機(jī)芯片麒麟990，每天能產(chǎn)多少片？中芯國(guó)際有多少臺(tái)投入生產(chǎn)的光刻機(jī)？是1臺(tái)、5臺(tái)還是10臺(tái)呢？謝謝 謝志
2021-03-14 09:46:3023476 據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道，當(dāng)?shù)貢r(shí)間周四，IBM發(fā)布了全球首個(gè)2nm芯片制造技術(shù)。 在當(dāng)前的半導(dǎo)體環(huán)境下，這件事意義確實(shí)重大，因?yàn)樽罱鼛啄觐I(lǐng)導(dǎo)先進(jìn)工藝的是臺(tái)積電，IBM首發(fā)2nm工藝給美國(guó)公司贏回了面子。 性能
2021-05-10 14:38:142295 光刻機(jī)，是現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花，是半導(dǎo)體行業(yè)中的核心技術(shù)。 ? ? ? ?可能有很多人都無(wú)法切身理解光刻機(jī)的重要地位，光刻機(jī)，是制造芯片的機(jī)器，要是沒有了光刻機(jī)，我們就沒有辦法造出芯片，自然也就
2021-07-07 14:31:18125772 光刻機(jī)原理怎么做芯片 光刻是集成電路中最重要的工藝，光刻機(jī)是制造芯片的核心裝備，在芯片的制作中，幾乎每個(gè)工藝的實(shí)施，都需要用到光刻技術(shù)?？梢哉f，光刻機(jī)是半導(dǎo)體界的一顆明珠。那么光刻機(jī)原理怎么做芯片
2021-08-07 14:54:5412869 光刻機(jī)是芯片制造的重要設(shè)備，內(nèi)部結(jié)構(gòu)精密復(fù)雜，它決定著芯片的制程工藝，是芯片生產(chǎn)中不可少的關(guān)鍵設(shè)備，而且光刻機(jī)的技術(shù)門檻極高，整個(gè)設(shè)備的不同部位采用了世界上最先進(jìn)的技術(shù)
2021-12-30 09:46:534123 光刻機(jī)制作芯片過程非常復(fù)雜，而光刻機(jī)是制造芯片最重要的設(shè)備之一，由于先進(jìn)光刻機(jī)的技術(shù)封鎖，中國(guó)芯片廠商的芯片制作工藝目前比較落后，也沒有優(yōu)秀的國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)來(lái)掌握到最先進(jìn)的光刻技術(shù)。
2021-12-30 11:23:2111145 “厚膜光刻”工藝是一種通過厚膜金屬化技術(shù)（簡(jiǎn)稱“厚膜技術(shù)”）與光刻技術(shù)相結(jié)合，達(dá)到高精度、低成本、高效率、高靈活性，并已開始成熟商用化的新型微納量產(chǎn)制造技術(shù)。
2022-01-17 16:51:091400 
了High-NA光刻技術(shù)，High-NA指的是高數(shù)值孔徑，據(jù)了解，這種High-NA光刻技術(shù)能降低66%的尺寸，也就意味著芯片制程能夠進(jìn)一步得到升級(jí)，芯片也將獲得更高的性能，2nm之后的技術(shù)都得用這種技術(shù)來(lái)實(shí)現(xiàn)。High-NA光刻技術(shù)被認(rèn)為是延續(xù)摩爾定律的關(guān)鍵。 不
2022-05-22 14:40:593085 現(xiàn)在全球芯片行業(yè)都聚焦在了2nm制程上，臺(tái)積電、三星、IBM等芯片巨頭也都相繼宣布了2nm制程技術(shù)的相關(guān)消息，臺(tái)積電和三星已經(jīng)著手3nm制程的量產(chǎn)了，而在中國(guó)大陸，芯片行業(yè)還停留在研發(fā)7nm制程
2022-06-22 10:40:5135066 2nm制程的量產(chǎn)。 目前市面上最先進(jìn)的是EUV光刻機(jī)，而其能夠支持制造的先進(jìn)制程工藝最高為3nm，也就是說，再往后的2nm等工藝就要用更加先進(jìn)的光刻機(jī)來(lái)完成。 ASML為此正在研發(fā)一種特別的EUV光刻機(jī)——High-NA EUV光刻機(jī)。這種光刻機(jī)所采用的技術(shù)能夠
2022-06-22 14:44:161183 2nm芯片是極限嗎 去年IBM公布的2nm芯片一時(shí)轟動(dòng)了世界，而當(dāng)時(shí)的三星和臺(tái)積電還在苦苦研發(fā)3nm技術(shù)。 到了現(xiàn)在，三星和臺(tái)積電的3nm技術(shù)終于要在下半年正式量產(chǎn)，可2nm芯片還要等很久，或許有人
2022-06-23 10:12:374233 去年IBM的2nm芯片橫空出世，并且同年傳出了中科院2nm芯片的新聞，據(jù)觀察，后續(xù)網(wǎng)上出現(xiàn)了類似“2nm芯片沒啥用”這樣的言論，那么IBM和中科院2nm芯片是什么意思呢？為什么會(huì)有人說2nm芯片沒啥
2022-06-23 10:27:2411861 IBM首發(fā)2nm芯片技術(shù)，芯片對(duì)于很多行業(yè)來(lái)說都十分重要，他們將成為世界上第一款采用2nm納米片技術(shù)的芯片，在半導(dǎo)體設(shè)計(jì)和工藝方面取得突破性進(jìn)展，也給芯片制造業(yè)提供了一個(gè)更高的業(yè)界標(biāo)桿。
2022-06-24 09:15:032730 在2022年北美技術(shù)論壇上，臺(tái)積電公布了未來(lái)現(xiàn)金制成的路線和2NM的相關(guān)信息，那么臺(tái)積電的2nm芯片用什么技術(shù)呢？又在哪里建廠生產(chǎn)2nm芯片呢？
2022-06-24 09:53:331510 的重要性，我國(guó)目前最先進(jìn)的制程7nm還正在研發(fā)當(dāng)中，那么2nm芯片與7nm芯片的差距有多大呢？ 拿臺(tái)積電的7nm舉例子，臺(tái)積電最初用DUV光刻機(jī)來(lái)完成7nm工藝，當(dāng)時(shí)臺(tái)積電7nm工藝要比上一代16nm工藝密度高3.3倍，性能提升達(dá)到了35%以上，同樣性能下功耗減少了65%，在當(dāng)時(shí)
2022-06-24 10:31:303662 早在2021年5月份美國(guó)的IBM公司就成功研制出2nm芯片的制造技術(shù)，2nm芯片的產(chǎn)生也預(yù)示著半導(dǎo)體行業(yè)朝著一個(gè)更高的水平發(fā)展。
2022-06-24 11:59:421728 知名IT巨頭IBM制造全球第一顆基于GAA的2nm芯片，在半導(dǎo)體設(shè)計(jì)上實(shí)現(xiàn)了突破。與主流7nm芯片相比，預(yù)計(jì)2nm芯片將實(shí)現(xiàn)性能提高45%或降低75%的功耗。
2022-06-27 09:25:351445 IBM突破了2nm的芯片研發(fā)技術(shù)，憑借2nm芯片的技術(shù)表現(xiàn)，將會(huì)在運(yùn)算速度和應(yīng)用前景得到質(zhì)的飛躍，也將為摩爾定律的延續(xù)提供了新的方向。
2022-06-27 09:45:12971 業(yè)界對(duì)IBM制造出2nm芯片表現(xiàn)出極大興趣，很大程度在于2nm芯片意味著芯片性能的極大提升。
2022-06-27 10:18:471194 現(xiàn)階段全球芯片行業(yè)都聚焦在了2nm工藝制程上，臺(tái)積電、IBM等芯片巨頭也都相繼宣布了2nm制程技術(shù)的相關(guān)消息。
2022-06-27 16:55:3811543 在2021年5月份，IBM發(fā)布全球首個(gè)2nm制程芯片制造技術(shù)，全球首顆2nm芯片正式問世。近期，臺(tái)積電正式宣布用于生產(chǎn)納米片晶體管架構(gòu)的2nm芯片，預(yù)計(jì)在2025年量產(chǎn)，三星電子也已經(jīng)開始大規(guī)模生產(chǎn)3nm芯片，2nm將于2025年量產(chǎn)。
2022-06-29 09:38:042826 除了需要依靠尖端的EUV光刻機(jī)之外，芯片廠商本身也需要很深的技術(shù)底蘊(yùn)，臺(tái)積電對(duì)于技術(shù)的研發(fā)向來(lái)肯砸錢，無(wú)數(shù)的資金和資源涌入，也讓臺(tái)積電持續(xù)站在了巔峰，在制程工藝上的絕對(duì)領(lǐng)先優(yōu)勢(shì)，也保證了其源源不斷的訂單，最終也很好的確定了關(guān)于2nm芯片的方向。
2022-06-29 11:15:071451 隨著 0.55 NA EUV 光刻機(jī)量產(chǎn)提上日程，芯片廠商的“2nm 工藝戰(zhàn)”也將徹底打響。
2022-06-29 15:59:111297 IBM的2nm制程芯片采用的是什么技術(shù)？IBM 2nm制程芯片采用GAA環(huán)繞柵極晶體管技術(shù)，晶體管密度可達(dá)5nm兩倍，每平方毫米容納3.3億個(gè)晶體管，2nm芯片將計(jì)算速度要提高45%，能源效率更是提高75%，電池續(xù)航時(shí)間提升至之前的4倍。
2022-06-29 17:43:08885 就在我們?cè)谧约貉兄?b class="flag-6" style="color: red">芯片得不到進(jìn)展，國(guó)外的芯片被斷供的困局中，中科院傳來(lái)了一則振奮人心的消息：中科院的研究人員表示已經(jīng)突破了設(shè)計(jì)2nm芯片的瓶頸，成功地掌握了設(shè)計(jì)2nm芯片的技術(shù)，只要機(jī)器到位，就能實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。
2022-06-30 09:27:42238076 光刻機(jī)是制作芯片的關(guān)鍵設(shè)備，利用光刻機(jī)發(fā)出的紫外光源通過具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的硅片曝光，使光刻膠性質(zhì)變化、達(dá)到圖形刻印在硅片上形成電子線路圖。我國(guó)目前還是采用什深紫外光的193nm制程工藝，如上海微電子裝備公司（CMEE）制程90nm工藝的光刻機(jī)，那么90nm光刻機(jī)能生產(chǎn)什么芯片呢？
2022-06-30 09:46:2131257 近日，臺(tái)積電在北美技術(shù)論壇上首次宣布，將推出下一代先進(jìn)工藝制程2nm芯片，將采用GAAFET全環(huán)繞柵極晶體管技術(shù)，2nm工藝全球即將首發(fā)，臺(tái)積電公開承諾到2025年生產(chǎn)先進(jìn)的2nm芯片。
2022-07-01 09:36:581660 什么叫2nm芯片 芯片這種東西大家都知道，無(wú)非是電子設(shè)備中的關(guān)鍵元器件，在之前IBM公司發(fā)布了轟動(dòng)全球的2nm芯片，那么大家知道什么叫2nm芯片嗎？ 2nm芯片指的是采用了2nm制程工藝所制造
2022-07-04 10:08:3512809 IBM已經(jīng)突破了2nm的芯片研發(fā)技術(shù)，2nm芯片最小元件比NDA單鏈還要小，指甲蓋大小的芯片可以容納500億根晶體管，可以在不同的應(yīng)用中提升計(jì)算速度。
2022-07-04 16:15:352113 臺(tái)積電正式公布2nm制造技術(shù)，該工藝廣泛使用EUV光刻技術(shù)，首次采用GAAFET全環(huán)繞柵極晶體管技術(shù)和背面供電技術(shù)，計(jì)劃于2025年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。
2022-07-04 18:09:281281 中國(guó)芯片何時(shí)會(huì)突破2nm？目前，三星和臺(tái)積電的戰(zhàn)場(chǎng)已經(jīng)來(lái)到了2nm，臺(tái)積電已經(jīng)放出消息稱2nm技術(shù)預(yù)計(jì)要到2025年才能夠量產(chǎn)，將購(gòu)入阿斯麥（ASML）最先進(jìn)的高數(shù)值孔徑極紫外光刻機(jī)用來(lái)制造該芯片。
2022-07-05 09:42:125192 去年五月份，IBM公司領(lǐng)先全球制造出了首顆2nm制程工藝芯片，直到前幾天三星才開始首次量產(chǎn)3nm芯片，而IBM在去年就已經(jīng)研制出了2nm芯片，如此先進(jìn)的技術(shù)自然就會(huì)有人疑惑2nm芯片一片
2022-07-05 09:16:132455 前不久，臺(tái)積電、三星電子已經(jīng)爆出公司2nm芯片新進(jìn)展，紛紛的尋求下一代 EUV 光刻機(jī)，今年臺(tái)積電將實(shí)現(xiàn)3nm的量產(chǎn)，再往后就是在2025年量產(chǎn)2nm了，這也意味著現(xiàn)在2nm 技術(shù)戰(zhàn)已經(jīng)打響。
2022-07-05 10:05:352219 1、IBM的2nm芯片，所有關(guān)鍵功能都是使用EUV光刻機(jī)進(jìn)行刻蝕。而7nm芯片只有在芯片生產(chǎn)的中間和后端環(huán)節(jié)使用EUV光刻機(jī)，意味著2nm工藝對(duì)EUV光刻機(jī)擁有更高的依賴性。
2022-07-05 17:26:497169 光刻機(jī)是制作芯片并不可少的重要工具，大家都知道，光刻機(jī)技術(shù)幾乎被荷蘭ASML所壟斷，那么全球最先進(jìn)的光刻機(jī)是多少nm的？中國(guó)現(xiàn)在又能夠做出幾nm的芯片呢？
2022-07-06 10:07:15247354 如今芯片領(lǐng)域，2nm制程工藝已經(jīng)成為了一個(gè)浪潮，各大芯片廠商紛紛投入了大量資金到2nm的研發(fā)當(dāng)中去，誰(shuí)能搶先完成2nm芯片的量產(chǎn)，誰(shuí)就能在芯片領(lǐng)域獲取壓倒性的優(yōu)勢(shì)，從而占據(jù)龐大的市場(chǎng)。 雖然IBM
2022-07-06 10:28:0718139 說到芯片，估計(jì)每個(gè)人都知道它是什么，但說到光刻，許多人可能不知道它是什么。光刻機(jī)是制造芯片的機(jī)器和設(shè)備。沒有光刻機(jī)的話，就無(wú)法生產(chǎn)芯片，因此每個(gè)人都知道光刻機(jī)對(duì)芯片制造業(yè)的重要性。那么euv光刻
2022-07-10 11:42:276977 目前，光刻機(jī)主要分為EUV光刻機(jī)和DUV光刻機(jī)。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù)，EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。EUV為先進(jìn)工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127 計(jì)算光刻 (Computational Lithography)技術(shù)是指利用計(jì)算機(jī)輔助技術(shù)來(lái)增強(qiáng)光刻工藝中圖形轉(zhuǎn)移保真度的一種方法，它是分辦率增強(qiáng)技術(shù)(ResolutionEnhancement
2022-10-26 15:46:222274 領(lǐng)域的突破成果.NVIDIA宣布推出一項(xiàng)將加速計(jì)算引入計(jì)算光刻技術(shù)領(lǐng)域的突破性成果。在當(dāng)前生產(chǎn)工藝接近物理極限的情況下，這項(xiàng)突破使ASML、TSMC和Synopsys等半導(dǎo)體行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)者能夠加快新一代芯片的設(shè)計(jì)和制造。 官網(wǎng)直播截圖 在2023GTC大會(huì)上黃仁勛表示：“芯片行業(yè)是全球幾乎所有其
2023-03-22 19:29:3110234 
為2nm及更先進(jìn)芯片的生產(chǎn)提供更強(qiáng)大的助力。 計(jì)算光刻是芯片設(shè)計(jì)和制造領(lǐng)域中最大的計(jì)算工作負(fù)載，每年消耗數(shù)百億CPU小時(shí)。而NVIDIA cuLitho計(jì)算光刻庫(kù)利用GPU技術(shù)實(shí)現(xiàn)計(jì)算光刻，可以極大的降低功耗、節(jié)省時(shí)間。 目前臺(tái)積電、光刻機(jī)制造商阿斯麥，以及EDA巨頭新思科技都已經(jīng)導(dǎo)入
2023-03-23 18:55:377489 
數(shù)十年來(lái)，為制造工藝制作掩模一直是半導(dǎo)體制造中的重要環(huán)節(jié)。隨著我們轉(zhuǎn)向采用5nm、3nm甚至2nm等更先進(jìn)的工藝節(jié)點(diǎn)，縮短計(jì)算光刻耗時(shí)可幫助半導(dǎo)體制造公司高效地制造芯片。作為該領(lǐng)域的先鋒企業(yè)，新思科
2023-03-25 16:40:01496 光刻技術(shù)簡(jiǎn)單來(lái)講，就是將掩膜版圖形曝光至硅片的過程，是大規(guī)模集成電路的基礎(chǔ)。目前市場(chǎng)上主流技術(shù)是193nm沉浸式光刻技術(shù)，CPU所謂30nm工藝或者22nm工藝指的就是采用該技術(shù)獲得的電路尺寸。
2023-04-25 11:02:322261 
在整個(gè)芯片制造過程中，幾乎每一道工序的實(shí)施都離不開光刻技術(shù)。光刻技術(shù)也是制造芯片最關(guān)鍵的技術(shù)，占芯片制造成本的35%以上。
2023-04-26 08:57:031033 現(xiàn)代工藝技術(shù)將晶圓廠設(shè)備要求推向極限，需要實(shí)現(xiàn)突破其物理極限的高分辨率，這正是計(jì)算光刻技術(shù)發(fā)揮作用的地方。計(jì)算光刻就是為芯片生產(chǎn)制作光掩模的技術(shù)，它結(jié)合來(lái)自ASML設(shè)備和測(cè)試晶圓的關(guān)鍵數(shù)據(jù)，是一個(gè)模擬生產(chǎn)過程的算法。
2023-04-26 10:05:29918 使用尖端工藝技術(shù)生產(chǎn)芯片需要比以往更強(qiáng)大的計(jì)算能力。為了滿足2nm及更先進(jìn)制程的需求，NVIDIA正在推出其cuLitho軟件庫(kù)
2023-04-26 10:06:52596 芯片前道制造可以劃分為七個(gè)環(huán)節(jié)，即沉積、涂膠、光刻、去膠、烘烤、刻蝕、離子注入。
2023-06-08 10:57:093765 
光刻機(jī)可分為前道光刻機(jī)和后道光刻機(jī)。光刻機(jī)既可以用在前道工藝，也可以用在后道工藝，前道光刻機(jī)用于芯片的制造，曝光工藝極其復(fù)雜，后道光刻機(jī)主要用于封裝測(cè)試，實(shí)現(xiàn)高性能的先進(jìn)封裝，技術(shù)難度相對(duì)較小。
2023-06-09 10:49:205860 
當(dāng)制程節(jié)點(diǎn)演進(jìn)到5nm時(shí)，DUV和多重曝光技術(shù)的組合也難以滿足量產(chǎn)需求了，EUV光刻機(jī)就成為前道工序的必需品了，沒有它，很難制造出符合應(yīng)用需求的5nm芯片，即使不用EUV能制造出一些5nm芯片，其整個(gè)生產(chǎn)線的良率也非常低，無(wú)法形成大規(guī)模的商業(yè)化生產(chǎn)。
2023-10-13 14:45:03842 
2nm芯片是什么意思 2nm芯片指的是采用了2nm制程工藝所制造出來(lái)的芯片，制程工藝的節(jié)點(diǎn)尺寸表示芯片上元件的最小尺寸。這意味著芯片上的晶體管和其他電子元件的尺寸可以達(dá)到2納米級(jí)別。 更小的節(jié)點(diǎn)尺寸
2023-10-19 16:59:161958 N2，也就是2nm，將采用GAAFET全環(huán)繞柵極晶體管技術(shù)，預(yù)計(jì)2025年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。 2nm芯片是指采用了2nm制程工藝所制造出來(lái)的芯片，制程工藝的節(jié)點(diǎn)尺寸表示芯片上元件的最小尺寸。這意味著芯片上的晶體管和其他電子元件的尺寸可以達(dá)到2納米級(jí)別。 2nm芯片手機(jī)
2023-10-19 17:06:18799 了。 ? 芯片制造離不開光刻機(jī)，特別是在先進(jìn)制程上，EUV光刻機(jī)由來(lái)自荷蘭的ASML所壟斷。同時(shí)，盡管目前市面上，EUV光刻機(jī)客戶僅有三家，但需求不斷增加的情況底下，EUV光刻機(jī)依然供不應(yīng)求。 ? 針對(duì)后3nm時(shí)代的芯片制造工藝，High-NA（高數(shù)值孔徑）EUV光刻機(jī)
2022-06-29 08:32:004635
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