根據(jù)ASML財(cái)報(bào)顯示， 2018年Q4季EUV光刻機(jī)設(shè)備完成5臺(tái)交付，全年EUV光刻機(jī)設(shè)備總銷量達(dá)到18臺(tái)，并計(jì)劃2019年將完成30臺(tái)的交付量。 圖1：ASML 2014~2018財(cái)年?duì)I收對(duì)照分析
2019-01-25 14:50:50
10824 10月15日，據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道，目前全球頂尖的光刻機(jī)生產(chǎn)商ASML正在研發(fā)第三款EUV光刻機(jī)，并計(jì)劃于明年年中出貨。 從其所公布的信息來(lái)看，新款光刻機(jī)型號(hào)命名為TWINSCAN NXE:3600D
2020-10-17 05:02:003456 對(duì)于如今的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)而言，EUV光刻機(jī)是打造下一代邏輯和DRAM工藝技術(shù)的關(guān)鍵所在，為了在未來(lái)的工藝軍備競(jìng)賽中保持優(yōu)勢(shì)，臺(tái)積電、三星和英特爾等廠商紛紛花重金購(gòu)置EUV光刻機(jī)。 ? 然而，當(dāng)這些來(lái)自
2022-07-22 07:49:002403 EUV 作為現(xiàn)在最先進(jìn)的光刻機(jī)，是唯一能夠生產(chǎn) 7nm 以下制程的設(shè)備，因?yàn)樗l(fā)射的光線波長(zhǎng)僅為現(xiàn)有設(shè)備的十五分之一，能夠蝕刻更加精細(xì)的半導(dǎo)體電路，所以 EUV 也被成為“突破摩爾定律的救星
2018-05-17 09:22:2010936 他們正在研發(fā)下一代極紫外光刻機(jī)的，計(jì)劃在2022年年初開始出貨，2024/2025年大規(guī)模生產(chǎn)。 在EUV光刻機(jī)方面，荷蘭ASML（阿斯麥）公司壟斷了目前的EUV光刻機(jī)，去年出貨26臺(tái)，創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報(bào)道，ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)，預(yù)計(jì)在2022年開始出貨。根據(jù)
2020-03-18 09:16:392659 根據(jù)最新數(shù)據(jù)顯示，ASML在12月中完成了第100臺(tái)EUV光刻機(jī)的出貨。更加利好的消息是，業(yè)內(nèi)預(yù)估ASML今年（2021年）的EUV光刻機(jī)產(chǎn)能將達(dá)到45~50臺(tái)的規(guī)模。
2021-01-03 00:28:004735 作為近乎壟斷的光刻機(jī)巨頭，ASML的EUV光刻機(jī)已經(jīng)在全球頂尖的晶圓廠中獲得了使用。無(wú)論是英特爾、臺(tái)積電還是三星，EUV光刻機(jī)的購(gòu)置已經(jīng)是生產(chǎn)支出中很大的一筆，也成了7nm之下不可或缺的制造設(shè)備
2021-12-01 10:07:4110988 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/周凱揚(yáng)）到了3nm這個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)之后，單靠現(xiàn)有的0.33NA EUV光刻機(jī)就很難維系下去了。為了實(shí)現(xiàn)2nm乃至未來(lái)的埃米級(jí)工藝，將晶體管密度推向1000MTr/mm2，全面
2022-12-07 01:48:002199 ofweek電子工程網(wǎng)訊 國(guó)際半導(dǎo)體制造龍頭三星、臺(tái)積電先后宣布將于2018年量產(chǎn)7納米晶圓制造工藝。這一消息使得業(yè)界對(duì)半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵設(shè)備之一極紫外光刻機(jī)（EUV）的關(guān)注度大幅提升。此后又有媒體
2017-11-14 16:24:44
。 為什么需要EUV光刻？ EUV的優(yōu)勢(shì)之一是減少了芯片處理步驟，而使用EUV代替?zhèn)鹘y(tǒng)的多重曝光技術(shù)將大大減少沉積、蝕刻和測(cè)量的步驟。目前EUV技術(shù)主要運(yùn)用在邏輯工藝制程中，這導(dǎo)致了2019年訂單
2020-07-07 14:22:55
快照】：極紫外(EUV)光刻技術(shù)一直被認(rèn)為是光學(xué)光刻技術(shù)之后最有前途的光刻技術(shù)之一,國(guó)際上對(duì)EUV光刻技術(shù)已開展了廣泛的研究[1-4]。在EUV光刻技術(shù)中,EUV光源是其面臨的首要技術(shù)難題。實(shí)現(xiàn)EUV
2010-04-22 11:41:29
據(jù)羊城晚報(bào)報(bào)道，近日中芯國(guó)際從荷蘭進(jìn)口的一臺(tái)大型光刻機(jī)，順利通過(guò)深圳出口加工區(qū)場(chǎng)站兩道閘口進(jìn)入廠區(qū)，中芯國(guó)際發(fā)表公告稱該光刻機(jī)并非此前盛傳的EUV光刻機(jī)，主要用于企業(yè)復(fù)工復(fù)產(chǎn)后的生產(chǎn)線擴(kuò)容。我們知道
2021-07-29 09:36:46
進(jìn)入10nm工藝節(jié)點(diǎn)之后，EUV光刻機(jī)越來(lái)越重要，全球能產(chǎn)EUV光刻機(jī)的就是荷蘭ASML公司了，他們總共賣出18臺(tái)EUV光刻機(jī)，總價(jià)值超過(guò)20億歐元，折合每套系統(tǒng)售價(jià)超過(guò)1億歐元，可謂價(jià)值連城。
2017-01-19 18:22:593470 EUV光刻機(jī)的唯一供應(yīng)商ASML在2017年度Semicon West半導(dǎo)體設(shè)備展上也表示，250瓦的EUV光源也萬(wàn)事俱備。公司2017年財(cái)報(bào)中也強(qiáng)調(diào)，其EUV光刻機(jī)滿足了125WPH（每小時(shí)生產(chǎn)
2018-01-23 14:51:008018 
隨機(jī)變化需要新方法、新工具，以及不同公司之間的合作。 極紫外（EUV）光刻技術(shù)正在接近生產(chǎn)，但是隨機(jī)性變化又稱為隨機(jī)效應(yīng)正在重新浮出水面，并為這項(xiàng)期待已久的技術(shù)帶來(lái)了更多的挑戰(zhàn)
2018-03-31 11:52:005861 臺(tái)積電前不久試產(chǎn)了7nm EUV工藝，預(yù)計(jì)明年大規(guī)模量產(chǎn)，三星今天宣布量產(chǎn)7nm EUV工藝，這意味著EUV工藝就要正式商業(yè)化了，而全球最大的光刻機(jī)公司荷蘭ASML為這一天可是拼了20多年。
2018-10-19 10:49:293306 隨著三星宣布7nm EUV工藝的量產(chǎn)，2018年EUV光刻工藝終于商業(yè)化了，這是EUV工藝研發(fā)三十年來(lái)的一個(gè)里程碑。不過(guò)EUV工藝要想大規(guī)模量產(chǎn)還有很多技術(shù)挑戰(zhàn)，目前的光源功率以及晶圓產(chǎn)能輸出還沒(méi)有
2018-10-30 16:28:403376 年代的投影式光刻機(jī)，1980年代的步進(jìn)式光刻機(jī)，到步進(jìn)式掃描光刻機(jī)，到浸入式光刻機(jī)和現(xiàn)在的EUV光刻機(jī)，設(shè)備性能不斷提高，推動(dòng)集成電路按照摩爾定律往前發(fā)展?！ ?b class="flag-6" style="color: red">EUV作為下一代技術(shù)的代表，不需要多重曝光
2018-11-02 10:14:19834 ASML副總裁Anthony Yen表示，ASML已開始開發(fā)極紫外（EUV）光刻機(jī)，其公司認(rèn)為，一旦當(dāng)今的系統(tǒng)達(dá)到它們的極限，就將需要使用極紫外光刻機(jī)來(lái)繼續(xù)縮小硅芯片的特征尺寸。
2018-12-09 10:35:077142 由于三星去年就小規(guī)模投產(chǎn)了7nm EUV，同時(shí)ASML（荷蘭阿斯麥）將EUV光刻機(jī)的年出貨量從18臺(tái)提升到今年的預(yù)計(jì)30臺(tái)，顯然促使臺(tái)積電不得不加快腳步。
2019-04-30 17:30:037913 隨著半導(dǎo)體行業(yè)持續(xù)突破設(shè)計(jì)尺寸不斷縮小的極限，極紫外 （EUV） 光刻技術(shù)的運(yùn)用逐漸擴(kuò)展到大規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境中。對(duì)于 7 納米及更小的高級(jí)節(jié)點(diǎn)，EUV 光刻技術(shù)是一種能夠簡(jiǎn)化圖案形成工藝的支持技術(shù)。要在如此精細(xì)的尺寸下進(jìn)行可靠制模，超凈的掩模必不可少。
2019-07-03 15:32:371712 
掌握全球唯一EUV光刻機(jī)研發(fā)、生產(chǎn)的荷蘭ASML（阿斯麥）公司今天發(fā)布了2019年Q2季度財(cái)報(bào)，當(dāng)季營(yíng)收25.68億歐元，其中凈設(shè)備銷售額18.51億歐元，總計(jì)出貨了41臺(tái)光刻機(jī)，其中EUV光刻機(jī)7臺(tái)。
2019-07-18 16:02:003147 
掌握全球唯一EUV光刻機(jī)研發(fā)、生產(chǎn)的荷蘭ASML（阿斯麥）公司今天發(fā)布了2019年Q2季度財(cái)報(bào)，當(dāng)季營(yíng)收25.68億歐元，其中凈設(shè)備銷售額18.51億歐元，總計(jì)出貨了41臺(tái)光刻機(jī)，其中EUV光刻機(jī)7臺(tái)。
2019-07-23 10:47:213102 
格芯首席技術(shù)官Gary Patton表示，如果在5nm的時(shí)候沒(méi)有使用EUV光刻機(jī)，那么光刻的步驟將會(huì)超過(guò)100步，這會(huì)讓人瘋狂。所以所EUV光刻機(jī)無(wú)疑是未來(lái)5nm和3nm芯片的最重要生產(chǎn)工具，未來(lái)圍繞EUV光刻機(jī)的爭(zhēng)奪戰(zhàn)將會(huì)變得異常激烈。因?yàn)檫@是決定這些廠商未來(lái)在先進(jìn)工藝市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)的關(guān)鍵。
2019-09-03 17:18:1812845 
據(jù)韓媒報(bào)道稱，ASML正積極投資研發(fā)下一代EUV光刻機(jī)，與現(xiàn)有光刻機(jī)相比，二代EUV光刻機(jī)最大的變化就是High NA透鏡，通過(guò)提升透鏡規(guī)格使得新一代光刻機(jī)的微縮分辨率、套準(zhǔn)精度兩大光刻機(jī)核心指標(biāo)提升70%，達(dá)到業(yè)界對(duì)幾何式芯片微縮的要求。
2019-08-07 11:24:395849 近些年來(lái)EUV光刻這個(gè)詞大家應(yīng)該聽(tīng)得越來(lái)越多，三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片，臺(tái)積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝，蘋果的A13
2020-02-29 10:58:473149 2月28日，美國(guó)泛林公司宣布與ASML阿斯麥、IMEC比利時(shí)微電子中心合作開發(fā)了新的EUV光刻技術(shù)，不僅提高了EUV光刻的良率、分辨率及產(chǎn)能，還將光刻膠的用量最多降至原來(lái)的1/10，大幅降低了成本。
2020-02-29 11:20:583228 近些年來(lái)EUV光刻這個(gè)詞大家應(yīng)該聽(tīng)得越來(lái)越多，三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片，臺(tái)積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝，蘋果的A13
2020-02-29 11:42:4529308 據(jù)中國(guó)證券報(bào)報(bào)道，3月6日下午從中芯國(guó)際獲悉，日前中芯國(guó)際深圳工廠從荷蘭進(jìn)口了一臺(tái)大型光刻機(jī)，但這是設(shè)備正常導(dǎo)入，用于產(chǎn)能擴(kuò)充，并非外界所稱的EUV光刻機(jī)。
2020-03-07 10:55:144167 在EUV光刻機(jī)方面，荷蘭ASML（阿斯麥）公司壟斷了目前的EUV光刻機(jī)，去年出貨26臺(tái)，創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報(bào)道，ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)，預(yù)計(jì)在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:13:482863 在EUV光刻機(jī)方面，荷蘭ASML（阿斯麥）公司壟斷了目前的EUV光刻機(jī)，去年出貨26臺(tái)，創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報(bào)道，ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)，預(yù)計(jì)在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:21:194670 2020年3月25日，三星電子（Samsung Electronics）公開透露，在半導(dǎo)體生產(chǎn)的主要工序中首次采用了新一代“EUV（極紫外線）”光刻設(shè)備的量產(chǎn)線。成為在半導(dǎo)體存儲(chǔ)芯片領(lǐng)域，全球首家使用EUV光刻設(shè)備。
2020-03-30 15:40:133189 與此同時(shí)， 他指出，EUV繼續(xù)為ASML的客戶提高產(chǎn)量，迄今為止，他們的客戶已經(jīng)使用EUV光刻機(jī)曝光了超過(guò)1100萬(wàn)個(gè)EUV晶圓，并交付了57個(gè)3400x EUV系統(tǒng)（3400平臺(tái)是EUV生產(chǎn)平臺(tái)）。
2020-08-14 11:20:552048 
ASML的EUV光刻機(jī)是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產(chǎn)的設(shè)備，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻機(jī)必不可缺。一臺(tái)EUV光刻機(jī)的售價(jià)為1.48億歐元，折合人民幣高達(dá)11.74億元
2020-10-19 12:02:499647 
臺(tái)積電是第一家將EUV（極紫外）光刻工藝商用到晶圓代工的企業(yè)，目前投產(chǎn)的工藝包括N7+、N6和N5三代。
2020-10-22 14:48:561425 根據(jù)韓國(guó)媒體《BusinessKorea》的報(bào)道，日前三星電子副董事長(zhǎng)李在镕前往荷蘭拜訪光刻機(jī)大廠ASML，其目的就是希望ASML的高層能答應(yīng)提早交付三星已經(jīng)同意購(gòu)買的極紫外光光刻設(shè)備（EUV）。
2020-10-24 09:37:302866 ASML公司的EUV光刻機(jī)全球獨(dú)一份，現(xiàn)在主要是用在7nm及以下的邏輯工藝上，臺(tái)積電、三星用它生產(chǎn)CPU、GPU等芯片。馬上內(nèi)存芯片也要跟進(jìn)了，SK海力士宣布明年底量產(chǎn)EUV工藝內(nèi)存。
2020-10-30 10:54:211646 據(jù)韓媒報(bào)道，三星副董事長(zhǎng)李在镕在訪問(wèn)荷蘭期間，在會(huì)議上要求ASML在一個(gè)月內(nèi)交付三星已購(gòu)買的9臺(tái)EUV光刻設(shè)備。 報(bào)道稱，ASML正在審查三星的要求，這部分EUV設(shè)備最早可于11月運(yùn)往韓國(guó)。 據(jù)悉
2020-10-30 14:13:081269 11月5日，世界光刻機(jī)巨頭荷蘭阿斯麥ASML亮相第三屆進(jìn)博會(huì)。作為全球唯一能生產(chǎn)EUV（極紫外光）光刻機(jī)的企業(yè)，由于ASML目前仍不能向中國(guó)出口EUV光刻機(jī)，所以此次展示的是其DUV（深紫外光）光刻機(jī)。據(jù)悉，該產(chǎn)品可生產(chǎn)7nm及以上制程芯片。
2020-11-06 11:27:465517 中國(guó)需要光刻機(jī)，尤其是支持先進(jìn)制程的高端光刻機(jī)。具體來(lái)說(shuō)，就是 EUV （極紫外光源）光刻機(jī)。
2020-11-11 10:13:304278 
在半導(dǎo)體工藝進(jìn)入7nm之后，EUV光刻機(jī)就成為兵家必備大殺器了，全球也只有ASML公司能生產(chǎn)，單價(jià)達(dá)到10億人民幣一臺(tái)。不過(guò)在EUV技術(shù)上，ASML還真不一定就是第一，專利比三星還少。
2020-11-17 10:25:182211 據(jù)TOMSHARDWARE報(bào)道，臺(tái)積電表示其部署的極紫外光（EUV）光刻工具已占全球安裝和運(yùn)行總量的50%左右，這意味著其使用的EUV機(jī)器數(shù)量超過(guò)了業(yè)內(nèi)其他任何一家公司。為了保持領(lǐng)先，臺(tái)積電已經(jīng)下單
2020-11-17 16:03:381827 自從芯片工藝進(jìn)入到7nm工藝時(shí)代以后，需要用到一臺(tái)頂尖的EUV光刻機(jī)設(shè)備，才可以制造7nm EUV、5nm等先進(jìn)制程工藝的芯片產(chǎn)品，但就在近日，又有外媒豪言：這種頂尖的EUV極紫外光刻機(jī)，目前全球
2020-12-03 13:46:226379 繼SK海力士日前宣布在M14和建設(shè)中的M16工廠均引入EUV光刻機(jī)后，三星也坐不住了。 按照三星的說(shuō)法，自2014年以來(lái)，EUV光刻參與的晶圓超過(guò)了400萬(wàn)片，公司積累了豐富的經(jīng)驗(yàn)，也比其它廠商掌握
2020-12-04 18:26:542201 據(jù)報(bào)道，業(yè)內(nèi)觀察人士稱，在新任副董事長(zhǎng)蔣尚義的幫助下，中國(guó)芯片巨頭中芯國(guó)際將尋求與荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備公司阿斯麥（ASML）就 EUV 光刻設(shè)備進(jìn)行談判。 報(bào)道稱，中芯國(guó)際一直難以從阿斯麥獲得 EUV
2020-12-19 09:23:002445 之前有消息稱，臺(tái)積電正在籌集更多的資金，為的是向ASML購(gòu)買更多更先進(jìn)制程的EUV光刻機(jī)，而這些都是為了新制程做準(zhǔn)備。
2020-12-29 09:22:482192 EUV光刻（即極紫外光刻）利用波長(zhǎng)非常短的光，在硅片上形成數(shù)十億個(gè)微小結(jié)構(gòu)，構(gòu)成一個(gè)芯片。與老式光刻機(jī)相比，EUV設(shè)備可以生產(chǎn)更小、更快、更強(qiáng)大的芯片。
2020-12-29 16:20:301425 Luc Van den hove表示，IMEC的目標(biāo)是將下一代高分辨率EUV光刻技術(shù)高NA EUV光刻技術(shù)商業(yè)化。由于此前得光刻機(jī)競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手早已經(jīng)陸續(xù)退出市場(chǎng)，目前ASML把握著全球主要的先進(jìn)光刻機(jī)產(chǎn)能，近年來(lái)，IMEC一直在與ASML研究新的EUV光刻機(jī)，目前目標(biāo)是將工藝規(guī)?？s小到1nm及以下。
2020-12-30 09:23:481673 而2018年中芯與ASML簽訂了一項(xiàng)EUV光刻機(jī)購(gòu)買協(xié)議，以1.2億美元購(gòu)買一臺(tái)光刻機(jī)，但直到現(xiàn)在都沒(méi)有交貨，因?yàn)闆](méi)有拿到出口許可證。
2021-01-08 11:37:512368 EUV（極紫外光）光刻機(jī)，是目前半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)已投入規(guī)模生產(chǎn)使用的最先進(jìn)光刻機(jī)類型。近來(lái)，有不少消息都指出，EUV光刻機(jī)耗電量非常大，甚至它還成為困擾臺(tái)積電的一大難題。 為何EUV光刻機(jī)會(huì)這么耗電
2021-02-14 14:05:003915 近期三星為爭(zhēng)搶EUV設(shè)備，高層頻頻傳出密訪ASML，EUV的重要性早已不言而喻。提到EUV，大家首先想到的就是ASML，ASML并不是一個(gè)家喻戶曉的名字，但他卻是現(xiàn)代技術(shù)的關(guān)鍵。因?yàn)樗峁┝酥圃彀雽?dǎo)體必不可少的“光刻”機(jī)器，在摩爾定律即將發(fā)展到盡頭的現(xiàn)在，可以說(shuō)，得EUV者得先進(jìn)工藝。
2021-01-16 10:32:574386 據(jù)etnews報(bào)道，SK海力士已開始在其位于韓國(guó)利川的M16工廠安裝EUV光刻機(jī)，以量產(chǎn)10nm 1a DRAM。 此前SK海力士宣布將在今年年內(nèi)在M16廠建設(shè)產(chǎn)線以生產(chǎn)下一代DRAM，不過(guò)并未透露
2021-01-20 18:19:202146 目前，還有ASML有能力生產(chǎn)最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，三星、臺(tái)積電都是ASML的客戶。但受《瓦森納協(xié)定》的制約，中國(guó)大陸沒(méi)有從ASML買來(lái)一臺(tái)EUV光刻機(jī)。
2021-01-21 08:56:184078 在四季度財(cái)報(bào)會(huì)議上，荷蘭ASML（阿斯麥）表示，預(yù)計(jì)今年將出貨交付40臺(tái)EUV光刻機(jī)，比去年多9臺(tái)。 CEO Peter Wennink估算今年EUV光刻機(jī)系統(tǒng)的銷售收入在58億歐元左右。四季度
2021-01-21 15:30:221874 在四季度財(cái)報(bào)會(huì)議上，荷蘭ASML（阿斯麥）表示，預(yù)計(jì)今年將出貨交付40臺(tái)EUV光刻機(jī)，比去年多9臺(tái)。
2021-01-21 15:16:431369 %，凈利潤(rùn)達(dá)到36億歐元。全球光刻機(jī)主要玩家有ASML、尼康和佳能三家，他們占到了全球市場(chǎng)90%。 ASML由于技術(shù)領(lǐng)先，一家壟斷了第五代光刻機(jī)EUV光刻機(jī)，這類光刻機(jī)用于制造7nm以下先進(jìn)制程的芯片。 2020年ASML對(duì)外銷售了31臺(tái)EUV光刻機(jī)，帶來(lái)了45億歐元（折合352.52億
2021-01-22 10:38:164677 
ASML公司前兩天發(fā)布了財(cái)報(bào)，全年凈銷售額140億歐元，EUV光刻機(jī)出貨31臺(tái)，帶來(lái)了45億歐元的營(yíng)收，單價(jià)差不多11.4億歐元了。 雖然業(yè)績(jī)?cè)鲩L(zhǎng)很亮眼，但是ASML也有隱憂，實(shí)際上EUV光刻
2021-01-22 17:55:242639 2019 年底在舊金山舉辦的年度國(guó)際電子元件會(huì)議（IEDM）上，臺(tái)積電公布的兩個(gè)報(bào)告標(biāo)志著集成電路制造邁入了EUV 光刻時(shí)代。第一個(gè)報(bào)告宣布了應(yīng)用EUV 光刻技術(shù)的7 納米世代的改良版芯片已經(jīng)
2021-02-19 09:18:203017 
隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)以下，EUV光刻機(jī)成為制高點(diǎn)，之前臺(tái)積電搶購(gòu)了全球多數(shù)的EUV光刻機(jī)，率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝，現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場(chǎng)了，SK海力士豪擲4.8萬(wàn)億韓元搶購(gòu)EUV光刻機(jī)。
2021-02-25 09:28:551644 隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)以下，EUV光刻機(jī)成為制高點(diǎn)，之前臺(tái)積電搶購(gòu)了全球多數(shù)的EUV光刻機(jī)，率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝，現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場(chǎng)了，SK海力士豪擲4.8萬(wàn)億韓元搶購(gòu)EUV光刻
2021-02-25 09:30:232047 隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)以下，EUV光刻機(jī)成為制高點(diǎn)，之前臺(tái)積電搶購(gòu)了全球多數(shù)的EUV光刻機(jī)，率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝，現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場(chǎng)了，SK海力士豪擲4.8萬(wàn)億韓元搶購(gòu)EUV光刻機(jī)。
2021-02-25 11:39:091844 三星一方面在積極向唯一的EUV光刻機(jī)廠商ASML爭(zhēng)取訂單，另外一方面也在增資為EUV產(chǎn)業(yè)鏈輸血。
2021-03-04 09:52:411757 日前，ASML產(chǎn)品營(yíng)銷總監(jiān)Mike Lercel向媒體分享了EUV（極紫外）光刻機(jī)的最新進(jìn)展。
2021-03-19 09:39:404630 第二代EUV光刻機(jī)原本預(yù)計(jì)最快可以2023年問(wèn)世，但最新傳聞稱NXE:5000系列跳票，而且一下子就跳票三年，要到2025-2026年才有可能問(wèn)世了。 要知道，ASML是全球唯一一家量產(chǎn)EUV光刻
2021-06-26 16:55:281203 美國(guó)媒體7月19日?qǐng)?bào)道，美國(guó)政府正在努力阻止荷蘭ASML EUV光刻機(jī)（極紫外光刻機(jī)）進(jìn)入中國(guó)大陸。 報(bào)道稱，中國(guó)政府此前與荷蘭政府協(xié)商，要求允許中國(guó)公司購(gòu)買ASML生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)設(shè)備（極紫外光刻
2021-07-21 16:52:252126 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/周凱揚(yáng)）作為近乎壟斷的光刻機(jī)巨頭，ASML的EUV光刻機(jī)已經(jīng)在全球頂尖的晶圓廠中獲得了使用。無(wú)論是英特爾、臺(tái)積電還是三星，EUV光刻機(jī)的購(gòu)置已經(jīng)是生產(chǎn)支出中很大的一筆，也成了
2021-12-07 14:01:1010742 EUV光刻技術(shù)為半導(dǎo)體制造商提供一個(gè)前所未有的速度開發(fā)最強(qiáng)大芯片的機(jī)會(huì)。
2022-04-07 14:49:33488 臺(tái)積電和三星從7nm工藝節(jié)點(diǎn)就開始應(yīng)用EUV光刻層了，并且在隨后的工藝迭代中，逐步增加半導(dǎo)體制造過(guò)程中的EUV光刻層數(shù)。
2022-05-13 14:43:202077 
HVM中的EUV光刻
?背景和歷史
?使用NXE的EUV光刻：3400B
?EUV生成原理
?EUV來(lái)源：架構(gòu)
?現(xiàn)場(chǎng)EUV源
?電源展望
?總結(jié)
2022-06-13 14:45:45
0 日前，在臺(tái)積電召開的會(huì)議上，有一名高管稱臺(tái)積電將于2024年引進(jìn)ASML正在研發(fā)的最新的High-NA EUV光刻機(jī)。 會(huì)議中，該高管稱：為了滿足客戶所需的相關(guān)基礎(chǔ)設(shè)施的開發(fā)等，臺(tái)積電將于2024
2022-06-17 16:33:276499 在芯片研發(fā)的過(guò)程中，光刻機(jī)是必不可少的部分，而隨著芯片制程工藝的不斷發(fā)展，普通的光刻機(jī)已經(jīng)不能滿足先進(jìn)制程了，必須要用最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)才能完成7nm及其以下的先進(jìn)制程，而目前臺(tái)積電和三星都在攻克
2022-06-28 15:07:126676 中國(guó)芯的進(jìn)步那是有目共睹，我國(guó)在光刻機(jī)，特別是在EUV光刻機(jī)方面，更是不斷尋求填補(bǔ)空白的途徑。
2022-07-05 10:38:3516742 三星電子和ASML就引進(jìn)今年生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)和明年推出高數(shù)值孔徑極紫外光High-NA EUV光刻機(jī)達(dá)成采購(gòu)協(xié)議。
2022-07-05 15:26:155634 光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī)。
2022-07-06 11:03:077000 如今世界最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，只有asml一家公司可以制造出來(lái)。
2022-07-06 11:19:3850686 EUV光刻機(jī)是在2018年開始出現(xiàn)，并在2019年開始大量交付，而臺(tái)積電也是在2019年推出了7nm EUV工藝。
2022-07-07 09:48:444523 大家都知道，芯片制造的核心設(shè)備之一就是光刻機(jī)了?，F(xiàn)在，全球最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī)，那么euv光刻機(jī)目前幾納米呢？ 到現(xiàn)在，世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)能夠?qū)崿F(xiàn)5nm的加工。也就是荷蘭
2022-07-10 11:17:4242766 說(shuō)到芯片，估計(jì)每個(gè)人都知道它是什么，但說(shuō)到光刻，許多人可能不知道它是什么。光刻機(jī)是制造芯片的機(jī)器和設(shè)備。沒(méi)有光刻機(jī)的話，就無(wú)法生產(chǎn)芯片，因此每個(gè)人都知道光刻機(jī)對(duì)芯片制造業(yè)的重要性。那么euv光刻
2022-07-10 11:42:276977 機(jī)可以生產(chǎn)出納米尺寸更小、功能更強(qiáng)大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。 EUV光刻機(jī)有光源系統(tǒng)、光學(xué)鏡頭、雙工作臺(tái)系統(tǒng)三大核心技術(shù)。 目前，最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML公司的EUV光刻機(jī)。預(yù)計(jì)在光路系統(tǒng)的幫助下，能
2022-07-10 14:35:066173 目前，光刻機(jī)主要分為EUV光刻機(jī)和DUV光刻機(jī)。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù)，EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。EUV為先進(jìn)工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127 euv光刻機(jī)原理是什么 芯片生產(chǎn)的工具就是紫外光刻機(jī)，是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備，對(duì)芯片技術(shù)有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。那么euv光刻機(jī)原理是什么呢？ EUV
2022-07-10 15:28:1015099 光刻機(jī)是當(dāng)前半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的核心設(shè)備，其技術(shù)含量和價(jià)值含量都很高。那么euv光刻機(jī)用途是什么呢？下面我們就一起來(lái)看看吧。 光刻設(shè)備涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)、精密運(yùn)動(dòng)、精密材料傳輸、高精度微環(huán)境控制
2022-07-10 16:34:403116 與此同時(shí)，在ASML看來(lái)，下一代高NA EUV光刻機(jī)為光刻膠再度帶來(lái)了挑戰(zhàn)，更少的隨機(jī)效應(yīng)、更高的分辨率和更薄的厚度。首先傳統(tǒng)的正膠和負(fù)膠肯定是沒(méi)法用了，DUV光刻機(jī)上常用的化學(xué)放大光刻膠（CAR）也開始在5nm之后的分辨率和敏感度上出現(xiàn)瓶頸
2022-07-22 10:40:082010 一臺(tái)EUV光刻機(jī)工作一天大概需要耗電3萬(wàn)度。如果關(guān)閉1臺(tái)EUV光刻機(jī)，一天就能省下3萬(wàn)度電。臺(tái)灣目前工業(yè)用電價(jià)格約為2.45新臺(tái)幣（約合人民幣0.55元），也就是說(shuō)一天能省個(gè)1.65萬(wàn)元人民幣的電費(fèi)。
2022-09-08 10:54:061356 EUV 光刻是以波長(zhǎng)為 10-14nm 的極紫外光作為光源的芯片光刻技術(shù)，簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，就是以極紫外光作“刀”，對(duì)芯片上的晶圓進(jìn)行雕刻，讓芯片上的電路變成人們想要的圖案。
2022-10-10 11:15:024367 光刻是半導(dǎo)體工藝中最關(guān)鍵的步驟之一。EUV是當(dāng)今半導(dǎo)體行業(yè)最熱門的關(guān)鍵詞，也是光刻技術(shù)。為了更好地理解 EUV 是什么，讓我們仔細(xì)看看光刻技術(shù)。
2022-10-18 12:54:053180 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/ 周凱揚(yáng) ）到了3nm這個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)之后，單靠現(xiàn)有的0.33NA EUV光刻機(jī)就很難維系下去了。 為了實(shí)現(xiàn)2nm乃至未來(lái)的埃米級(jí)工藝，將晶體管密度推向1000MTr/mm2，全面
2022-12-07 07:25:02952 過(guò)去二十年見(jiàn)證了193 nm以下波長(zhǎng)光刻技術(shù)的發(fā)展。在使用 F2 準(zhǔn)分子激光器開發(fā)基于 157 納米的光刻技術(shù)方面付出了一些努力，但主要關(guān)注點(diǎn)是使用 13.5 納米軟 X 射線作為光源的極紫外 (EUV) 光刻技術(shù)。
2023-02-02 11:49:592234 挑戰(zhàn)性。制造商正在關(guān)注稱為極紫
外(EUV) 光刻的先進(jìn)制造技術(shù)。
EUV光刻可用于制造比以前更小規(guī)模的芯片。該技術(shù)可以導(dǎo)致微處理器的發(fā)展，其速度比目前最強(qiáng)大的芯片快十倍。EUV光刻
的本質(zhì)也可以歸因于當(dāng)前芯片印刷技術(shù)的物理限制。
2023-02-15 15:55:294 其全流程涉及了從 EUV 光源到反射鏡系統(tǒng)，再到光掩模，再到對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，再到晶圓載物臺(tái)，再到光刻膠化學(xué)成分，再到鍍膜機(jī)和顯影劑，再到計(jì)量學(xué)，再到單個(gè)晶圓。
2023-03-07 10:41:581134 新的High NA EUV 光刻膠不能在封閉的研究環(huán)境中開發(fā)，必須通過(guò)精心設(shè)計(jì)的底層、新型硬掩模和高選擇性蝕刻工藝進(jìn)行優(yōu)化以獲得最佳性能。為了迎接這一挑戰(zhàn)，imec 最近開發(fā)了一個(gè)新的工具箱來(lái)匹配光刻膠和底層的屬性。
2023-04-13 11:52:121165 EUV光刻技術(shù)仍被認(rèn)為是實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體行業(yè)持續(xù)創(chuàng)新的關(guān)鍵途徑。隨著技術(shù)的不斷發(fā)展和成熟，預(yù)計(jì)EUV光刻將在未來(lái)繼續(xù)推動(dòng)芯片制程的進(jìn)步。
2023-05-18 15:49:041792 
需要明確什么是EUV光刻機(jī)。它是一種采用極紫外線光源進(jìn)行曝光的設(shè)備。與傳統(tǒng)的ArF光刻機(jī)相比，EUV光刻機(jī)可以將曝光分辨率提高到7納米以下的超高級(jí)別，從而實(shí)現(xiàn)更高清晰度和更高性能的芯片制造。
2023-05-22 12:48:373985 EUV掩膜，也稱為EUV掩?；?b class="flag-6" style="color: red">EUV光刻掩膜，對(duì)于極紫外光刻（EUVL）這種先進(jìn)光刻技術(shù)至關(guān)重要。EUV光刻是一種先進(jìn)技術(shù)，用于制造具有更小特征尺寸和增強(qiáng)性能的下一代半導(dǎo)體器件。
2023-08-07 15:55:02399 EUV光刻膠材料是光敏物質(zhì)，當(dāng)受到EUV光子照射時(shí)會(huì)發(fā)生化學(xué)變化。這些材料在解決半導(dǎo)體制造中的各種挑戰(zhàn)方面發(fā)揮著關(guān)鍵作用，包括提高靈敏度、控制分辨率、減少線邊緣粗糙度（LER）、降低釋氣和提高熱穩(wěn)定性。
2023-09-11 11:58:42349 
近20年來(lái)，EUV光源、EUV掩模和EUV光刻膠一直是EUV光刻的三大技術(shù)挑戰(zhàn)。
2023-09-14 09:45:12563 
EUV 光是指用于微芯片光刻的極紫外光，涉及在微芯片晶圓上涂上感光材料并小心地將其曝光。這會(huì)將圖案打印到晶圓上，用于微芯片設(shè)計(jì)過(guò)程中的后續(xù)步驟。
2023-10-30 12:22:55615 三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工藝
2023-11-23 18:13:02579 
了。 ? 芯片制造離不開光刻機(jī)，特別是在先進(jìn)制程上，EUV光刻機(jī)由來(lái)自荷蘭的ASML所壟斷。同時(shí)，盡管目前市面上，EUV光刻機(jī)客戶僅有三家，但需求不斷增加的情況底下，EUV光刻機(jī)依然供不應(yīng)求。 ? 針對(duì)后3nm時(shí)代的芯片制造工藝，High-NA（高數(shù)值孔徑）EUV光刻機(jī)
2022-06-29 08:32:004635
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