暗房操作工藝指導書

三.設(shè)備:

RISTON干膜貼膜機:

志圣干膜貼膜機:由熱輥貼膜機HRL LAMINATIOR+LC 2400清潔器組成

DCM-2650 板面清潔機

四.材料：

RISTON干膜 9415，旭化成YQ－40PN，長興HT－115T、美工刀、已刷板的內(nèi)層板、已刷板的孔化的線路板。

五.工藝操作：

5.1開機前:

檢查排風系統(tǒng)

檢查清潔干膜壓輥

5.2開機：

啟動電源開關(guān)(MAIN POWER)

啟動電源開關(guān)(POWER)和加熱器開關(guān)(HEATERS)

檢查是否有壓縮空氣

溫度調(diào)節(jié):按下溫度顯示按鈕,用螺絲刀調(diào)節(jié)溫度調(diào)節(jié)鈕,將溫度設(shè)置在100度－110度（實際具體需要根據(jù)不同品牌的干膜特性設(shè)置）

速度調(diào)節(jié):按下滾動按鈕,按下速度顯示鍵,調(diào)節(jié)調(diào)速旋鈕,將滾動速度設(shè)置在1.6～2.0M/MIN

5.3貼膜操作：

在貼膜前,首先檢查板面情況.(刷板和貼膜最好是連續(xù)進行,以防止板面氧化)板下滾動壓力把手,給滾筒加壓,讓干膜空走約45厘米,觀察干膜表面是否有皺紋，到消失為止。

調(diào)節(jié)板子進口位置限位,板距為10MM,將板子小心推入。

用割刀在貼膜機的出板口割斷干膜,切割時注意保持板邊干膜整齊和光滑。

貼膜后板子必須以垂直方向放在槽板車上，不準重疊放置。

貼膜完畢后,停止?jié)L動鍵,釋放滾筒壓力, 然后到清潔機清潔板面，速度設(shè)置為30，并每天剝掉一層膠帶，貼膜板需放置15分鐘才能進行曝光,存放時間不要超過24小時。

5.3.2工藝參數(shù)：

貼膜輥溫度:100 度－110 度

貼膜機速度:1.6-2.0M/MIN

5.4注意事項:

5.4.1整個貼膜程序必須在暗房中進行。

5.4.2開啟干膜箱必須在暗房中進行,干膜必須儲在暗房中。

5.4.3不合格的貼膜板需去膜刷板后重新貼膜,并在曝光之前放置15分鐘。

5.4.4進入暗房必須穿防塵服,防塵鞋,戴防塵帽。

5.5施工結(jié)束后,須認真填寫施工票,報廢單,返工單。并將干膜的編號填寫在施工票的備注欄內(nèi)。

5.6暗房環(huán)境必須控制在:溫度18-22度,濕 度 45-55%,通風正常。

每班須檢查一次,并填寫環(huán)境條件記錄表,如有偏差立即告知工藝。

六.安全事項：

操作者在工作結(jié)束后洗手，身體部位不能接觸熱壓輥。

七.自檢：

貼膜后的線路板必須平整、無氣泡、分層、起皺等現(xiàn)象。貼膜后板子色澤均勻、無色差。

八.記錄表單：施工票、返工單、報廢單、環(huán)境條件記錄表。

第二節(jié) 干膜曝光工藝

一.目的:本指導書規(guī)定曝光制作工位的工作內(nèi)容及步驟。

二.范圍:本指導書適用于曝光制作工位的工作過程。　

三.設(shè)備:

RISTON PC-130 曝 光 機

ORC HMW-201B-5K -2 曝 光 機

可曝光的線路板尺寸最大為760*610MM

RISTON PC-130曝光機面板操作介紹:

電源開關(guān):用于控制曝光機內(nèi)部電路以及排氣機。

真空表:用于顯示曝光機框內(nèi)的真空度,上表顯示上框,下表顯示下框。

真空度調(diào)節(jié)器:用于調(diào)節(jié)每個曝光框內(nèi)的真空度。

抽真空度開關(guān):用于啟動真空泵,上開關(guān)用于控制上框,下開關(guān)用于控制下框。

曝光機啟動開關(guān):用于啟動曝光機電源,上開關(guān)用于控制上燈,下開關(guān)用于控制下燈。

電源指示開關(guān):用于指示燈電源的通斷。

燈啟動指示開關(guān):用于指示曝光燈電源的通斷。

燈準備指示開關(guān):用于指示曝光燈是否進入準備狀態(tài)。

燈強度選擇開關(guān):用于選擇兩種不同等強度2000W和5000W。

曝光燈計時器:用于顯示上下曝光燈總的曝光時間,不可清零。

曝光計時器:用于記錄曝光次數(shù)。

曝光控制器: 根據(jù)不同的曝光強度和不同框架,自動調(diào)節(jié)曝光時間,用于顯示光通量設(shè)定值,而不是曝光時間。

人工曝光定時器:用于設(shè)定60秒以內(nèi)的曝光時間,定時器外環(huán)用于設(shè)定時間,中間按鈕用于啟動曝光,曝光時, 順時針中間按鈕則停止曝光。

曝光啟動開關(guān):用于啟動正常曝光操作。

機內(nèi)照明開關(guān):用于進行定位照明。

ORC HMW-201B-5K -2曝光機操作說明：

打開主電源：

按屏幕 “CIRCUIT ON”鍵，此時，冷凍水和冷卻風扇運做。這時，屏幕切換到主菜單。

在主菜單選擇“PROGRAMMING ”，并設(shè)定曝光條件。

設(shè)定面板上的曝光條件：光量，真空度。

曝光條件設(shè)定完畢后，回到操作屏幕。

打開一個框架，放入板子。

合上框架，按抽真空鍵。

檢查真空度，達到要求后，按框架移動鈕。換另一個框。

重復6-8繼續(xù)操作。

四.材料:

4.1 生產(chǎn)材料

完成貼膜的印制板,及完 成 貼 膜 的 內(nèi) 層 板(在貼膜后需放置15分鐘以上, 最多不超過24小時)

顯影后的重氮工作底片: 正片KA焊接面KB,KC多層板的內(nèi)層KK元件面。

酒精(工業(yè)用)。

膠帶。

五. 工藝操作：

5.1.1曝外層板:曝光前定位自檢底片, 根據(jù)施工單檢查底片的正確性。第一次曝光時,抽真空以后曝光以前要用放大鏡檢查板子的定位精度,如有偏差,及時修正。每定位做一定批量板子檢查底片。

5.1.2曝內(nèi)層板: 先用放大鏡檢查上下底片的定位精度,如有偏差,調(diào)換底片,每曝光一定批量板子以后檢查底片,如再有偏差,及時通知相關(guān)人員。

5.2啟動曝光機

5.2.1開機前檢查:

曝光框架的清潔:曝光框架玻璃及聚酯薄膜應保持清潔。

曝光框架的兩個框架聚酯薄膜的狀況：應無孔、無裂縫、無抓痕、必要時更換.檢查每個框架上半部的橡皮密封是否有劃傷或小孔。

防熱玻璃的清潔:清潔曝光機柜內(nèi)防熱玻璃，打開兩邊邊門和在柜中取出以便清洗,這時須戴手套,并注意別打碎玻璃,用干的柔軟的布清潔曝光探頭的表面。

檢查真空泵情況。

清潔曝光燈。

5.3.1啟動主電源開關(guān),同時也啟動了用來冷卻曝光燈的排氣機。

5.3.2開啟曝光燈啟動開關(guān)：從開啟電源開關(guān)至開始曝光需等約15分鐘, 以確保曝光燈完全預熱(預熱完成指示燈亮)。

5.3.3將光強度開關(guān)設(shè)置在5000W。

5.3.4檢查曝光指數(shù)設(shè)置在21級曝光尺8-10級清晰。

5.3.5開啟照明燈。

5.3.6開啟抽真空開關(guān)。

5.3.7按下曝光啟動開關(guān)。

5.4關(guān)閉曝光機

5.4.1關(guān)閉顯示開關(guān)。

5.4.2關(guān)閉燈開關(guān)。

5.4.3等15分鐘以后,再關(guān)閉電源總開關(guān)。

5.4.4曝光后,板子須放置15分鐘以上,最多不超過24小時, 然后顯影。

5.5注意事項：經(jīng)常用酒精清潔曝光框架，曝光板子時要輕拿輕放,防止劃傷工作底片，真空度要求真空表顯示值大于95%曝光前檢查施工單的型號與底片是否相符，做批量板子前先做四塊顯影后送修板人員檢驗合格方可繼續(xù)工作，施工結(jié)束后,須認真填寫施工票、報廢單、返工單，干膜有保質(zhì)期一般3～6個月。

六.安全注意:

曝光機紫外燈光外露，當紫外燈打開時, 絕對不能打開機器外殼。

七.記錄表單：施工票、報廢單、返工單。

第三節(jié) 干膜顯影工藝

一.目的:指導書規(guī)定顯影制作工位的工作內(nèi)容及步驟。

二.范圍:本指導書適用于顯影制作工位的工作過程?！?/font>