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RFMD高效率氮化鎵(GaN)射頻功率晶體管(UPT)RF3

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2021-05-18 07:59:09

RF2132高效率線性放大器相關(guān)資料分享

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2021-05-18 06:03:36

射頻GaN技術(shù)正在走向主流應(yīng)用

的Jimenez說道,“一種可能是改變氮化的結(jié)構(gòu)。氮化采用的是場效應(yīng)(FET)結(jié)構(gòu),而手機(jī)功放則是用異質(zhì)雙結(jié)型晶體管(HBT)結(jié)構(gòu),HBT結(jié)構(gòu)的效率和線性度更好?!?b class="flag-6" style="color: red">射頻氮化器件可以考慮垂直結(jié)構(gòu),或者
2016-08-30 16:39:28

射頻功率晶體管究竟有多耐用?

目前制造的大功率射頻晶體管比以往任何時(shí)候都更堅(jiān)實(shí)耐用。針對特高耐用性設(shè)計(jì)的器件可以承受嚴(yán)重的失配,即使在滿輸出電平時(shí)也是如此?,F(xiàn)在多家制造商可提供大功率硅橫向擴(kuò)散金屬氧化物半導(dǎo)體(LDMOS)晶體管
2019-08-22 06:13:27

氮化(GaN)功率集成電路集成和應(yīng)用

氮化(GaN)功率集成電路集成與應(yīng)用
2023-06-19 12:05:19

氮化: 歷史與未來

的是用于藍(lán)光播放器的光盤激光頭)。 在光子學(xué)之外,雖然氮化晶體管在1993年就發(fā)布了相關(guān)技術(shù),但直到2004年左右,第一個(gè)氮化高電子遷移率晶體管(HEMT)才開始商用。這些晶體管通常用于需要高效
2023-06-15 15:50:54

氮化GaN 來到我們身邊竟如此的快

的PowiGaN方案具有高集成度、易于工廠開發(fā)的特點(diǎn);納微半導(dǎo)體的GaNFast方案則可以通過高頻實(shí)現(xiàn)充電器的小型化和高效率(小米65W也是采用此方案)。對于氮化快充普及浪潮的來臨,各大主流電商及電源廠
2020-03-18 22:34:23

氮化GaN技術(shù)助力電源管理革新

功率晶體管(如GaN和碳化硅(SiC))有望在高壓和高開關(guān)頻率條件下提供高功率效率,從而遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過硅MOSFET產(chǎn)品?! ?b class="flag-6" style="color: red">GaN可以為您做什么  根據(jù)應(yīng)用的不同,高效率的高頻開關(guān)可以將功率模塊的尺寸縮小
2018-11-20 10:56:25

氮化功率晶體管與Si SJMOS和SiC MOS晶體管對分分析哪個(gè)好?

本文討論了商用氮化功率晶體管與Si SJMOS和SiC MOS晶體管相比在軟開關(guān)LLC諧振轉(zhuǎn)換器方面的優(yōu)勢。介紹隨著更高功率、更小尺寸和更高效率的明顯趨勢,高頻 LLC 諧振轉(zhuǎn)換器是業(yè)內(nèi)隔離式
2023-02-27 09:37:29

氮化功率半導(dǎo)體技術(shù)解析

氮化功率半導(dǎo)體技術(shù)解析基于GaN的高級(jí)模塊
2021-03-09 06:33:26

氮化晶體管GaN的概述和優(yōu)勢

650V的MOSFET。根據(jù)應(yīng)用程序的要求,開發(fā)人員可以針對最高效率,最大功率密度或兩者之間的折衷?! ∮捎谄洹?反向恢復(fù)”行為,GaN晶體管使得一些拓?fù)鋵?shí)際上可用,例如圖騰柱PFC,其需要比傳統(tǒng)
2023-02-27 15:53:50

氮化晶體管在高速電機(jī)驅(qū)動(dòng)領(lǐng)域開辟新前沿

的熱量,需要更大的散熱器。不幸的是,這增加了系統(tǒng)成本、重量和解決方案總尺寸,這在空間受限的應(yīng)用中是不期望的或不可接受的。氮化GaN)高電子遷移率晶體管(HEMT)具有優(yōu)于硅MOSFET的多種優(yōu)勢
2017-08-21 14:36:14

氮化晶體管電路的布局需要考慮哪些因素?

集成電路[7]。圖7顯示了單片功率級(jí)GaN IC的框圖和實(shí)際芯片照片。將這種單片集成電路的實(shí)驗(yàn)測量效率(如圖8所示)與使用具有相同導(dǎo)通電阻的eGaN?晶體管的分立電路進(jìn)行比較,并由uPI半導(dǎo)體uP1966
2023-02-24 15:15:04

氮化充電器

是什么氮化GaN)是氮和化合物,具體半導(dǎo)體特性,早期應(yīng)用于發(fā)光二極中,它與常用的硅屬于同一元素周期族,硬度高熔點(diǎn)高穩(wěn)定性強(qiáng)。氮化材料是研制微電子器件的重要半導(dǎo)體材料,具有寬帶隙、高熱導(dǎo)率等特點(diǎn),應(yīng)用在充電器方面,主要是集成氮化MOS,可適配小型變壓器和高功率器件,充電效率高。二、氮化
2021-09-14 08:35:58

氮化發(fā)展評(píng)估

晶體管如今已與碳化硅基氮化具有同樣的電源效率和熱特性。MACOM 的第四代硅基氮化 (Gen4 GaN) 代表了這種趨勢,針對 2.45GHz 至 2.7GHz 的連續(xù)波運(yùn)行可提供超過 70
2017-08-15 17:47:34

氮化場效應(yīng)晶體管與硅功率器件比拼之包絡(luò)跟蹤,不看肯定后悔

本文展示氮化場效應(yīng)晶體管并配合LM5113半橋驅(qū)動(dòng)器可容易地實(shí)現(xiàn)的功率效率。
2021-04-13 06:01:46

氮化技術(shù)推動(dòng)電源管理不斷革新

硅的限制,因此無法在單個(gè)硅功率FET中提供所有這些功能。寬帶隙功率晶體管(如GaN和碳化硅(SiC))有望在高壓和高開關(guān)頻率條件下提供高功率效率,從而遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過硅MOSFET產(chǎn)品。 GaN可以為您做什么
2019-03-14 06:45:11

氮化的卓越表現(xiàn):推動(dòng)主流射頻應(yīng)用實(shí)現(xiàn)規(guī)?;?、供應(yīng)安全和快速應(yīng)對能力

射頻半導(dǎo)體技術(shù)的市場格局近年發(fā)生了顯著變化。 數(shù)十年來,橫向擴(kuò)散金屬氧化物半導(dǎo)體(LDMOS)技術(shù)在商業(yè)應(yīng)用中的射頻半導(dǎo)體市場領(lǐng)域起主導(dǎo)作用。如今,這種平衡發(fā)生了轉(zhuǎn)變,硅基氮化(GaN
2018-08-17 09:49:42

氮化芯片未來會(huì)取代硅芯片嗎?

2000 年代初就已開始,但 GaN 晶體管仍處于起步階段。 毫無疑問,它們將在未來十年內(nèi)取代功率應(yīng)用中的硅晶體管,但距離用于數(shù)據(jù)處理應(yīng)用還很遠(yuǎn)。 Keep Tops氮化有什么好處? 氮化的出現(xiàn)
2023-08-21 17:06:18

高效率高線性的功放怎么實(shí)現(xiàn)?

射頻功率放大器被廣泛應(yīng)用于各種無線通信設(shè)備中。在通訊基站中,線性功放占其成本比例約占1/3高效率,低成本的解決功放的線性化問題顯得非常重要。因此高效率高線性的功放一直是功放研究的熱門課題。
2019-09-17 08:08:11

CG2H80015D-GP4 氮化GaN)高電子遷移率晶體管(HEMT)

` 本帖最后由 射頻技術(shù) 于 2021-4-8 09:16 編輯 Wolfspeed的CG2H80015D是氮化GaN)高電子遷移率晶體管(HEMT)。GaN具有比硅或砷化更高的性能,包括
2021-04-07 14:31:00

CGH40010F晶體管簡介

Cree的CGH40010是無與倫比的氮化GaN)高電子遷移率晶體管(HEMT)。 CGH40010,正在運(yùn)行從28伏電壓軌供電,提供通用寬帶解決方案應(yīng)用于各種射頻和微波應(yīng)用。 GaN HEMT
2020-12-15 15:06:50

CGH40010F氮化GaN)高 電子遷移率晶體管

`Cree的CGH40010是無與倫比的氮化GaN)高電子遷移率晶體管(HEMT)。 CGH40010,正在運(yùn)行從28伏電壓軌供電,提供通用寬帶解決方案應(yīng)用于各種射頻和微波應(yīng)用。 GaN
2020-12-03 11:51:58

CGHV40030氮化高電子遷移率晶體管

Wolfspeed的CGHV40030是氮化GaN)高電子遷移率晶體管(HEMT),專為高效率,高增益和寬帶寬功能而設(shè)計(jì)。 該器件可部署在L,S和C頻段放大器應(yīng)用中。 數(shù)據(jù)手冊中的規(guī)格
2020-02-25 09:37:45

CGHV40030氮化GaN)高電子遷移率晶體管

Wolfspeed的CGHV40030是無與倫比的氮化GaN)高電子遷移率晶體管(HEMT),專為高效率,高增益和寬帶寬功能而設(shè)計(jì)。 該器件可部署在L,S和C頻段放大器應(yīng)用中。 數(shù)據(jù)手冊中的規(guī)格
2020-02-24 10:48:00

CGHV60040D-GP4高電子遷移率晶體管

` 本帖最后由 射頻微波技術(shù) 于 2021-4-8 09:15 編輯 Wolfspeed的CGHV60040D是氮化GaN)高電子遷移率晶體管(HEMT)。GaN具有比硅或砷化更高的性能
2021-04-07 14:24:11

CGHV96050F1衛(wèi)星通信氮化高電子遷移率晶體管CREE

CGHV96050F1是款碳化硅(SiC)基材上的氮化(GaN)高電子遷移率晶體管(HEMT)。與其它同類產(chǎn)品相比,這些GaN內(nèi)部搭配CGHV96050F1具有卓越的功率附帶效率。與硅或砷化
2024-01-19 09:27:13

CGHV96100F2晶體管

是碳化硅(SiC)襯底上的氮化GaN)高電子遷移率晶體管(HEMT)。這種GaN內(nèi)匹配(IM)場效應(yīng)晶體管與其他技術(shù)相比,提供了優(yōu)異的功率附加效率。GaN與硅或砷化相比具有更高的性能,包括更高
2018-08-13 10:58:03

CGHV96100F2氮化GaN)高電子遷移率晶體管

`Cree的CGHV96100F2是氮化GaN)高電子遷移率晶體管(HEMT)在碳化硅(SiC)基板上。 該GaN內(nèi)部匹配(IM)FET與其他技術(shù)相比,具有出色的功率附加效率。 氮化與硅或砷化
2020-12-03 11:49:15

CHZ9012-QFA功率放大器

產(chǎn)品采用符合RoHS的SMD封裝提供。功能 內(nèi)部匹配的GAN功率晶體管射頻帶寬(GHz)最小值-最大值 2.7-3.4功率(W) 65歲PAE(%) 55封裝 QFN塑料包裝CHKA011aSXA氮化
2021-04-02 16:25:08

CMPA801B025F氮化GaN)高電子遷移率 基于晶體管

Cree的CMPA801B025是氮化GaN)高電子遷移率基于晶體管(HEMT)的單片微波集成電路(MMIC)。 氮化與硅或砷化相比具有更好的性能,包括更高的擊穿電壓,更高的飽和電子漂移速度
2020-12-03 11:46:10

IB0810M210功率晶體管

脈沖功率。 在沒有外部調(diào)諧的情況下,所有設(shè)備都在寬帶RF測試夾具中100%屏蔽了大信號(hào)RF參數(shù)。硅雙極匹配50歐姆210W輸出功率經(jīng)過100%大功率射頻測試C級(jí)操作IB0607S10功率晶體管
2021-04-01 10:07:29

IFWS 2018:氮化功率電子器件技術(shù)分會(huì)在深圳召開

應(yīng)用。加拿大多倫多大學(xué)教授吳偉東分享了關(guān)于用于GaN功率晶體管的智能柵極驅(qū)動(dòng)器IC的精彩報(bào)告,并提出了一種適用于氮化功率晶體管的智能柵極驅(qū)動(dòng)集成電路,該集成電路帶有電流傳感特性、可調(diào)節(jié)輸出電阻、可調(diào)
2018-11-05 09:51:35

IGN0450M250高功率GaN-on-SiC RF功率晶體管

基于SiC HEMT技術(shù)的GaN輸出功率> 250W預(yù)匹配的輸入阻抗極高的效率-高達(dá)80%在100ms,10%占空比脈沖條件下進(jìn)行了100%RF測試IGN0450M250功率晶體管
2021-04-01 10:35:32

MACOM射頻功率產(chǎn)品概覽

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2017-08-14 14:41:32

MACOM和意法半導(dǎo)體將硅上氮化推入主流射頻市場和應(yīng)用

本帖最后由 kuailesuixing 于 2018-2-28 11:36 編輯 整合意法半導(dǎo)體的制造規(guī)模、供貨安全保障和電涌耐受能力與MACOM的硅上氮化射頻功率技術(shù),瞄準(zhǔn)主流消費(fèi)
2018-02-12 15:11:38

MACOM展示“射頻能量工具包”:將高性能、高成本效益的硅基氮化射頻系統(tǒng)用于商業(yè)應(yīng)用

,可幫助系統(tǒng)設(shè)計(jì)人員簡化和加快產(chǎn)品開發(fā),使其能夠輕松微調(diào)射頻能量輸出水平,從而最大限度地提高效率和增強(qiáng)性能。MACOM的射頻能量工具包將其硅基氮化功率晶體管的優(yōu)勢與直觀、靈活的軟件和信號(hào)控制能力相結(jié)合
2017-08-03 10:11:14

MACOM:GaN在無線基站中的應(yīng)用

用于無線基礎(chǔ)設(shè)施的半導(dǎo)體技術(shù)正在經(jīng)歷一場重大的變革,特別是功率放大器(PA)市場。橫向擴(kuò)散金屬氧化物半導(dǎo)體(LDMOS)晶體管功率放大器領(lǐng)域幾十年來的主導(dǎo)地位正在被氮化(GaN)撼動(dòng),這將對無線
2017-08-30 10:51:37

MACOM:硅基氮化器件成本優(yōu)勢

`作為一家具有60多年歷史的公司,MACOM在射頻微波領(lǐng)域經(jīng)驗(yàn)豐富,該公司的首款產(chǎn)品就是用于微波雷達(dá)的磁控管,后來從真空管、晶體管發(fā)展到特殊工藝的射頻功率器件(例如砷化GaAs)。進(jìn)入2000年
2017-09-04 15:02:41

MACOM:適用于5G的半導(dǎo)體材料硅基氮化GaN

GaN)那么,問題來了,怎么解決高昂的價(jià)格?首先,先了解下什么是硅基氮化,與硅器件相比,由于氮化晶體具備更強(qiáng)的化學(xué)鍵,因此它可以承受比硅器件高出很多倍的電場而不會(huì)崩潰。這意味我們可以把晶體管
2017-07-18 16:38:20

NPT2020射頻晶體管

或砷化鋁技術(shù)的這類二極。產(chǎn)品型號(hào):NPT2020產(chǎn)品名稱:射頻晶體管NPT2020產(chǎn)品特性GaN上硅HEMT耗盡型晶體管適合線性和飽和應(yīng)用從直流3.5 GHz調(diào)諧48 V操作3.5 GHz
2018-09-26 09:04:23

NPTB00025B射頻功率晶體管介紹

和醫(yī)療應(yīng)用。我們的產(chǎn)品組合利用了MACOM超過60年的傳統(tǒng),即使用GaN-on-Si技術(shù)提供標(biāo)準(zhǔn)和定制解決方案,以滿足客戶最苛刻的需求。我們的硅基氮化產(chǎn)品采用0.5微米HEMT工藝制成分立晶體管和集成
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QPD1004氮化晶體管

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QPD1018氮化晶體管

QPD1018氮化晶體管產(chǎn)品介紹QPD1018報(bào)價(jià)QPD1018代理QPD1018咨詢熱線QPD1018現(xiàn)貨,王先生 深圳市首質(zhì)誠科技有限公司QPD1018內(nèi)部匹配離散GaN
2018-07-27 09:06:34

QPD1018氮化晶體管

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QPD1020射頻功率晶體管

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2018-07-27 11:20:12

SGN2729-250H-R氮化晶體管

`SUMITOMO的GaN-HEMT SGN2729-250H-R為S波段雷達(dá)應(yīng)用提供2.7至2.9 GHz的高功率,高效率和更高的一致性,具有50V工作電壓和高達(dá)120μsec脈沖寬度的脈沖條件
2021-03-30 11:14:59

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2021-03-30 11:24:16

SGNE010MK GaN-HEMT

`住友電工的GaN-HEMT為具有50V工作電壓的高功率L波段放大器提供了高效率,易于匹配,更高的一致性和更寬的帶寬,并為您提供了更高的增益。該器件的目標(biāo)應(yīng)用是高電壓的低電流和寬帶應(yīng)用。高壓操作
2021-03-30 11:37:49

SGNE045MK晶體管

`SUMITOMO的SGNE045MKGaN-HEMT為具有50V工作電壓的高功率L波段放大器提供了高效率,易于匹配,更高的一致性和更寬的帶寬,并為您提供了更高的增益。該器件的目標(biāo)應(yīng)用是高電壓的低
2021-03-30 11:32:19

TGF2023-2-20碳化硅晶體管

附加效率為70.5%,這使得tgf2023-2-20適合高效率的應(yīng)用.產(chǎn)品型號(hào):TGF2023-2-20產(chǎn)品名稱:碳化硅晶體管TGF2023-2-20產(chǎn)品特性頻率范圍:直流至14 GHz50.5
2018-06-22 11:09:47

TGF2040砷化晶體管

功率增益13 dB的增益和55%的功率附加效率在1 dB壓縮。這種性能使tgf2040適合高效率的應(yīng)用。帶有氮化硅的保護(hù)層提供了環(huán)境魯棒性和劃痕保護(hù)級(jí)別。產(chǎn)品型號(hào):TGF2040產(chǎn)品名稱:砷化晶體管
2018-07-18 12:00:19

TGF2160砷化晶體管

功率增益10.4 dB和63%的功率附加效率在1 dB壓縮。這種性能使tgf2160適合高效率的應(yīng)用。產(chǎn)品型號(hào):TGF2160產(chǎn)品名稱:砷化晶體管TGF2160產(chǎn)品特性頻率范圍:直流- 20千兆
2018-07-19 10:35:47

TGF2954碳化硅晶體管銷售

-on-SiC HEMT由DC-12 GHz。在3 GHz的tgf2954通常提供44.5 dBm的功率增益為19.5 dB的飽和輸出功率。功率附加效率為71.5%,這使得tgf2954適合高效率的應(yīng)用。產(chǎn)品型號(hào)
2018-11-15 14:01:58

TGF2955碳化硅晶體管銷售

-on-SiC HEMT由DC-12 GHz。在3 GHz的tgf2955通常提供46.4 dBm的功率增益為19.2 dB的飽和輸出功率。功率附加效率為69%,這使得tgf2955適合高效率的應(yīng)用。產(chǎn)品型號(hào)
2018-11-15 14:06:57

TGF2977-SM氮化晶體管

、測試儀器。該設(shè)備可以支持脈沖和線性操作。產(chǎn)品型號(hào): TGF2977-SM產(chǎn)品名稱:氮化晶體管TGF2977-SM產(chǎn)品特性頻率范圍:直流- 12 GHz輸出功率(p3db):6 W在9.4 GHz線性增益
2018-07-25 10:06:15

【實(shí)用干貨】高效率射頻功率放大器學(xué)習(xí)資料

結(jié)合傳統(tǒng)類型的射頻功率放大器對開關(guān)E類射頻功率放大器進(jìn)行了探討,并推導(dǎo)了具有并聯(lián)電容結(jié)構(gòu)的E類功放的各元器件的理論計(jì)算公式,選用了M/ACOM公司的MRFl66C型號(hào)的功率晶體管,并結(jié)合理論計(jì)算
2021-12-16 19:31:39

為什么氮化(GaN)很重要?

氮化(GaN)的重要性日益凸顯,增加。因?yàn)樗c傳統(tǒng)的硅技術(shù)相比,不僅性能優(yōu)異,應(yīng)用范圍廣泛,而且還能有效減少能量損耗和空間的占用。在一些研發(fā)和應(yīng)用中,傳統(tǒng)硅器件在能量轉(zhuǎn)換方面,已經(jīng)達(dá)到了它的物理
2023-06-15 15:47:44

為什么氮化比硅更好?

度為1.1 eV,而氮化的禁帶寬度為3.4 eV。由于寬禁帶材料具備高電場強(qiáng)度,耗盡區(qū)窄短,從而可以開發(fā)出載流子濃度非常高的器件結(jié)構(gòu)。例如,一個(gè)典型的650V橫向氮化晶體管,可以支持超過800V
2023-06-15 15:53:16

什么是GaN透明晶體管?

的模擬揭示了為何ITO不能在氮化晶體管中形成良好的歐姆接觸。模擬結(jié)果表明,ITO和在AlGaN和GaN界面的二維電子氣之間存在著一個(gè)高能勢壘(見圖3(a))。這個(gè)勢壘阻礙電子在氧化銦錫和氮化三角阱
2020-11-27 16:30:52

什么是RF功率晶體管耐用性驗(yàn)證方案?

目前制造的大功率射頻晶體管比以往任何時(shí)候都更堅(jiān)實(shí)耐用。針對特高耐用性設(shè)計(jì)的器件可以承受嚴(yán)重的失配,即使在滿輸出電平時(shí)也是如此?,F(xiàn)在多家制造商可提供大功率硅橫向擴(kuò)散金屬氧化物半導(dǎo)體(LDMOS)晶體管
2019-08-22 08:14:59

什么是氮化功率芯片?

包含關(guān)鍵的驅(qū)動(dòng)、邏輯、保護(hù)和電源功能,消除了傳統(tǒng)半橋解決方案中相關(guān)的能量損失、成本過高和設(shè)計(jì)復(fù)雜的問題。 納微推出的世界上首款氮化功率芯片同時(shí)能提供高頻率和高效率,實(shí)現(xiàn)了電力電子領(lǐng)域的高速革命
2023-06-15 14:17:56

什么是氮化技術(shù)

兩年多前,德州儀器宣布推出首款600V氮化GaN功率器件。該器件不僅為工程師提供了功率密度和效率,且易于設(shè)計(jì),帶集成柵極驅(qū)動(dòng)和穩(wěn)健的器件保護(hù)。從那時(shí)起,我們就致力于利用這項(xiàng)尖端技術(shù)將功率級(jí)
2020-10-27 09:28:22

什么是氮化GaN)?

具有更小的晶體管、更短的電流路徑、超低的電阻和電容等優(yōu)勢,氮化充電器的充電器件運(yùn)行速度,比傳統(tǒng)硅器件要快 100倍。 更重要的是,氮化相比傳統(tǒng)的硅,可以在更小的器件空間內(nèi)處理更大的電場,同時(shí)提供更快的開關(guān)速度。此外,氮化比硅基半導(dǎo)體器件,可以在更高的溫度下工作。
2023-06-15 15:41:16

什么是氮化GaN)?

、高功率、高效率的微電子、電力電子、光電子等器件方面的領(lǐng)先地位?!喝c(diǎn)半說』經(jīng)多方專家指點(diǎn)查證,特推出“氮化系列”,告訴大家什么是氮化GaN)?
2019-07-31 06:53:03

什么阻礙氮化器件的發(fā)展

電器,使用傳統(tǒng)的功率開關(guān)無法改變充電器的現(xiàn)狀。[color=rgb(51, 51, 51) !important]而GaN技術(shù)可以做到,因?yàn)樗悄壳叭蜃羁斓?b class="flag-6" style="color: red">功率開關(guān)器件,并且可以在高速開關(guān)的情況下仍保持高效率
2019-07-08 04:20:32

傳統(tǒng)的硅組件、碳化硅(Sic)和氮化(GaN)

應(yīng)用領(lǐng)域,SiC和GaN形成競爭。隨著碳化硅(SiC)、氮化(GaN)等新材料陸續(xù)應(yīng)用在二極、場效晶體管(MOSFET)等組件上,電力電子產(chǎn)業(yè)的技術(shù)大革命已揭開序幕。這些新組件雖然在成本上仍比傳統(tǒng)硅
2021-09-23 15:02:11

供應(yīng)氮化功率芯片NV6127+晶體管AON6268絲印6268

明佳達(dá)電子優(yōu)勢供應(yīng)氮化功率芯片NV6127+晶體管AON6268絲印6268,只做原裝,價(jià)格優(yōu)勢,實(shí)單歡迎洽談。產(chǎn)品信息型號(hào)1:NV6127絲?。篘V6127屬性:氮化功率芯片封裝:QFN芯片
2021-01-13 17:46:43

基于氮化IC的150W高效率功率密度適配器設(shè)計(jì)

高頻150W PFC-LLC與GaN功率ic(氮化)
2023-06-19 08:36:25

基于VIPerGaN50和STUSB4761的45W QR USB PD適配器參考設(shè)計(jì)

氮化GaN)- 寬帶隙(WBG)材料? GaN HEMT-高電子遷移率晶體管,代表著電力電子技術(shù)的重大進(jìn)步? 用于更高的工作頻率? 提高效率? 與硅基晶體管相比,功率密度更高
2023-09-07 07:43:51

如何利用氮化實(shí)現(xiàn)高性能柵極驅(qū)動(dòng)?

只能通過精心開發(fā)的與GaN配合使用的柵極驅(qū)動(dòng)器來滿足?! ?b class="flag-6" style="color: red">氮化柵極驅(qū)動(dòng)的陷阱  GaN晶體管功率應(yīng)用中具有很大的潛力:更高的功率效率,更高的功率密度,潛在的散熱器/無風(fēng)扇設(shè)計(jì),。。.然而,從GaN
2023-02-24 15:09:34

如何實(shí)現(xiàn)氮化的可靠運(yùn)行

我經(jīng)常感到奇怪,我們的行業(yè)為什么不在加快氮化 (GaN) 晶體管的部署和采用方面加大合作力度;畢竟,大潮之下,沒人能獨(dú)善其身。每年,我們都看到市場預(yù)測的前景不太令人滿意。但通過共同努力,我們就能
2022-11-16 06:43:23

如何用集成驅(qū)動(dòng)器優(yōu)化氮化性能

導(dǎo)讀:將GaN FET與它們的驅(qū)動(dòng)器集成在一起可以改進(jìn)開關(guān)性能,并且能夠簡化基于GaN功率級(jí)設(shè)計(jì)。氮化 (GaN) 晶體管的開關(guān)速度比硅MOSFET快很多,從而有可能實(shí)現(xiàn)更低的開關(guān)損耗。然而,當(dāng)
2022-11-16 06:23:29

如何設(shè)計(jì)GaN氮化 PD充電器產(chǎn)品?

如何設(shè)計(jì)GaN氮化 PD充電器產(chǎn)品?
2021-06-15 06:30:55

想要實(shí)現(xiàn)高效氮化設(shè)計(jì)有哪些步驟?

  第 1 步 – 柵極驅(qū)動(dòng)選擇  驅(qū)動(dòng)GaN增強(qiáng)模式高電子遷移率晶體管(E-HEMT)的柵極與驅(qū)動(dòng)硅(Si)MOSFET的柵極有相似之處,但有一些有益的差異?! ◎?qū)動(dòng)氮化E-HEMT不會(huì)消除任何
2023-02-21 16:30:09

支持瓦特到千瓦級(jí)應(yīng)用的氮化技術(shù)介紹

。LMG3410和LMG3411系列產(chǎn)品的額定電壓為600 V,提供從低功率適配器到超過2 kW設(shè)計(jì)的各類解決方案。通過導(dǎo)通電阻選擇器件內(nèi)部氮化場效應(yīng)晶體管(FET)的額定值為RDS(on) - 漏極-源極或?qū)娮琛?/div>
2022-11-10 06:36:09

有關(guān)氮化半導(dǎo)體的常見錯(cuò)誤觀念

功率/高頻射頻晶體管和發(fā)光二極。2010年,第一款增強(qiáng)型氮化晶體管普遍可用,旨在取代硅功率MOSFET。之后隨即推出氮化功率集成電路- 將GaN FET、氮化基驅(qū)動(dòng)電路和電路保護(hù)集成為單個(gè)器件
2023-06-25 14:17:47

消費(fèi)類電子大功率空中交通控制的RF功率晶體管

(MicrosemiCorporation)擴(kuò)展其基于碳化硅襯底氮化(GaNonSiC)技術(shù)的射頻(RF)晶體管系列,推出新型S波段500WRF器件2729GN-500,新器件瞄準(zhǔn)大功率空中交通控制機(jī)場監(jiān)視雷達(dá)(ASR
2012-12-06 17:09:16

用于大功率和頻率應(yīng)用的舍入 GaN晶體管

針對可靠的高功率和高頻率電子設(shè)備,制造商正在研究氮化(GaN)來制造具有高開關(guān)頻率的場效應(yīng)晶體管(FET)由于硅正在接近其理論極限,制造商現(xiàn)在正在研究使用寬帶隙(WBG)材料來制造高效率的大功率
2022-06-15 11:43:25

電流旁路對GaN晶體管并聯(lián)配置的影響

,在這種情況下采用基于氮化GaN晶體管的解決方案意義重大。與傳統(tǒng)硅器件相類似,GaN晶體管單位裸片面積同樣受實(shí)際生產(chǎn)工藝限制,單個(gè)器件的電流處理能力存在上限。為了增大輸出功率,并聯(lián)配置晶體管已成為
2021-01-19 16:48:15

直接驅(qū)動(dòng)GaN晶體管的優(yōu)點(diǎn)

受益于集成器件保護(hù),直接驅(qū)動(dòng)GaN器件可實(shí)現(xiàn)更高的開關(guān)電源效率和更佳的系統(tǒng)級(jí)可靠性。高電壓(600V)氮化GaN)高電子遷移率晶體管(HEMT)的開關(guān)特性可實(shí)現(xiàn)提高開關(guān)模式電源效率和密度的新型
2020-10-27 06:43:42

第三代半導(dǎo)體材料氮化/GaN 未來發(fā)展及技術(shù)應(yīng)用

處理,謝謝。GaN高電子遷移率晶體管(HEMT)已經(jīng)成為5G宏基站功率放大器的主流候選技術(shù)。GaN HEMT憑借其固有的高擊穿電壓、高功率密度、大帶寬和高效率,已成為基站PA的有力候選技術(shù)。GaN是極
2019-04-13 22:28:48

請問GaN器件和AMO技術(shù)能否實(shí)現(xiàn)高效率和寬帶寬?

請問一下GaN器件和AMO技術(shù)能實(shí)現(xiàn)高效率和寬帶寬嗎?
2021-04-19 09:22:09

請問氮化GaN是什么?

氮化GaN是什么?
2021-06-16 08:03:56

迄今為止最堅(jiān)固耐用的晶體管氮化器件

晶體管”?! ∫了孤兔资怖菍Φ?。氮化的寬帶隙(使束縛電子自由斷裂并有助于傳導(dǎo)的能量)和其他性質(zhì)讓我們能夠利用這種材料承受高電場的能力,制造性能空前的器件。  如今,氮化是固態(tài)射頻功率應(yīng)用領(lǐng)域
2023-02-27 15:46:36

CGH40006S氮化 (GaN) 高電子遷移率晶體管 (HEMT)

解決方案。GaN HEMT 提供高效率;高增益和寬帶寬能力;使 CGH40006 成為線性和壓縮放大器電路的理想選擇。該晶體管采用焊接藥丸封裝和 3-mm x 3-m
2022-05-18 11:55:04

CGH40120P氮化 (GaN) 高電子遷移率晶體管 (HEMT)

Wolfspeed 的 CGH40120 是無與倫比的;氮化GaN);高電子遷移率晶體管 (HEMT)。CGH40120;從 28 伏電壓軌運(yùn)行;提供通用的;適用于各種射頻和微波應(yīng)用的寬帶
2022-06-13 10:19:53

CGHV40050P氮化 (GaN) 高電子遷移率晶體管 (HEMT)

Wolfspeed 的 CGHV40050 是無與倫比的;氮化 (GaN) 高電子遷移率晶體管 (HEMT)。CGHV40050;從 50 伏電壓軌運(yùn)行;提供通用的;適用于各種射頻和微波應(yīng)用的寬帶
2022-06-23 09:19:21

CGHV40100F氮化 (GaN) 高電子遷移率晶體管 (HEMT)

Wolfspeed 的 CGHV40100 是無與倫比的;氮化 (GaN) 高電子遷移率晶體管 (HEMT)。CGHV40100;從 50 伏電壓軌運(yùn)行;提供通用的;適用于各種射頻和微波應(yīng)用的寬帶
2022-06-23 14:28:12

CGHV40200PP氮化 (GaN) 高電子遷移率晶體管 (HEMT)

Wolfspeed 的 CGHV40200PP 是無與倫比的;氮化 (GaN) 高電子遷移率晶體管 (HEMT)。CGHV40200PP;從 50 伏電壓軌運(yùn)行;提供通用的;適用于各種射頻和微波
2022-06-24 09:54:07

CGHV59070P氮化 (GaN) 高電子遷移率晶體管 (HEMT)

應(yīng)用的寬帶解決方案。GaN HEMT 提供高效率;高增益和寬帶寬能力使 CGHV59070 成為線性和壓縮放大器電路的理想選擇。該晶體管采用法蘭和藥丸封裝。氮化 (Ga
2022-06-27 14:11:15

飛思卡爾提供多款新型LDMOS和GaN功率晶體管

日前,射頻功率技術(shù)領(lǐng)先供應(yīng)商飛思卡爾宣布為其Airfast RF功率解決方案推出最新成員:包括三個(gè)LDMOS功率晶體管與一個(gè)氮化鎵(GaN晶體管,所有產(chǎn)品均超越地面移動(dòng)市場要求。
2013-06-09 10:18:371842

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