臺積電/英特爾等半導(dǎo)體老將剖析芯片產(chǎn)業(yè)

　　半導(dǎo)體大廠的資深高層們表示，芯片產(chǎn)業(yè)還有很長一段路要走，卻面臨了吸引頂尖工程師的挑戰(zhàn)。。.

　　在日前于美國硅谷舉行的美國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會（SIA）年度晚宴上，來自半導(dǎo)體大廠的資深高層們表示，芯片產(chǎn)業(yè)還有很長一段路要走，卻面臨了吸引頂尖工程師的真正挑戰(zhàn)；此外一位微影技術(shù)專家展示了可望在下一個十年繼續(xù)推動摩爾定律（Moore’s Law）前進的一套新系統(tǒng)。

　　晶圓代工大廠臺積電（TSMC）董事長張忠謀在SIA年度晚宴的一場與其他產(chǎn)業(yè)界高層同臺的座談會上，對半導(dǎo)體制程節(jié)點繼續(xù)微縮表示樂觀；不過他也建議，芯片產(chǎn)業(yè)逐漸邁向成熟，年輕一代的電子工程師可以朝向軟件、計算機科學(xué)以及因特網(wǎng)等相關(guān)領(lǐng)域?qū)で笪磥戆l(fā)展。

　　「對晶圓廠工程師的人力需求會維持相當穩(wěn)定好一段時間，」張忠謀表示：「我們對更高密度制程的努力還會至少持續(xù)另一個十年，一直到2020年代中期、3納米節(jié)點──我認為我們至少將走到那么遠?！?/p>

　　另一位參與座談會的產(chǎn)業(yè)高層，ADI共同創(chuàng)辦人Ray Stata則表示，電子工程領(lǐng)域正籠罩危機，但在芯片制程微縮之外仍有科技進展的希望：「EE部門正在萎縮，但我們還是需要受過訓(xùn)練的人員；而我們面臨的挑戰(zhàn)之一，就是無法獲得像以前那么多的EE工程師人才。因此產(chǎn)業(yè)界可能需要承擔(dān)更多教育的責(zé)任，并且直接與各大專院校面對面，讓他們了解產(chǎn)業(yè)界需求?！?/p>

　　Stata指出，在美國麻省理工學(xué)院（MIT）有一個育成中心，就是協(xié)助支持對半導(dǎo)體新創(chuàng)公司的投資；這位已經(jīng)轉(zhuǎn)任投資人的前任半導(dǎo)體業(yè)高層表示，現(xiàn)有技術(shù)在系統(tǒng)層級的結(jié)合，將有助于讓以往聚焦于零組件的電子產(chǎn)業(yè)界更進步：「智能型手機已經(jīng)存在了…但模擬領(lǐng)域還在過渡時期的中途?！?/p>

　　英特爾（Intel）前任執(zhí)行長Craig Barrett則是與會者中對未來最樂觀的?！鸽娮优c光子的結(jié)合才剛剛開始，而且那里有非常大的商機；」他指出：「電子與生物的結(jié)合甚至還沒有開始──到處都有無限的商機?！?/p>

　　「當我加入Intel的時候，人們就說摩爾定律已經(jīng)快走到尾聲，我們一直都只有3~4代的技術(shù)進展空間；」Barrett表示：「總有人將會搞清楚如何做出下一代的電子開關(guān)，而且將改變世界；因此就像是Robert Noyce （Intel共同創(chuàng)辦人）說的，忘掉歷史、走出去，做一些美妙的事。」

　　而獲得SIA年度Noyce獎項的半導(dǎo)體設(shè)備大廠ASML技術(shù)長Martin van den Brink則在會后透露，該公司承諾在2024年推出具備0.45 penta-pixels/second性能的極紫外光（EUV）微影系統(tǒng)；ASML最近宣布將推出的高數(shù)值孔徑系統(tǒng)，一小時可生產(chǎn)200片晶圓。

　　相較之下，在1958年制造出來的第一顆IC，所采用的微影技術(shù)只能印制50 pixels的圖案；van den Brink表示，那時候ASML已經(jīng)成立，而他在1984年加入該公司時，微影技術(shù)的性能已經(jīng)達到61 MPixels/second：「摩爾定律不會停止，因為我們有聰明的工程師正在嘗試繼續(xù)推動產(chǎn)業(yè)界向前邁進?！?/p>

　　IBM的感知系統(tǒng)部門資深副總裁暨研究員John Kelly III在授予van den Brink先進微影技術(shù)獎項時表示：「沒有他，我們恐怕無法讓摩爾定律走得這么遠，也無法對邁進7納米或以下節(jié)點抱著希望；Martin以及他的公司現(xiàn)在面臨的最大風(fēng)險與最重要工作是EUV，而該技術(shù)在過去幾年的進展令人驚嘆?！?/p>

　　編譯：Judith Cheng

　?。▍⒖荚模篊hip Veterans Scan Horizon，by Rick Merritt）