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LCD關(guān)鍵材料核心技術(shù)“黑色矩陣(BM)”有望打破市場(chǎng)壟斷

2017年09月22日 14:25 作者: 用戶評(píng)論(0
關(guān)鍵字:lcd(162402)

?  在我國(guó)在液晶顯示器(LCD)制造關(guān)鍵材料上一直都是無(wú)法掌控,主要都是依靠國(guó)外進(jìn)口。近日了解到,北京化工大學(xué)光聚合技術(shù)研究中心等已成功開(kāi)發(fā)了LCD關(guān)鍵材料核心技術(shù)“黑色矩陣(BM)”,如果這一消息屬實(shí),那么中國(guó)將可能打破近40年被日韓企業(yè)占據(jù)全球95%的市場(chǎng)壟斷。

  液晶顯示器(LCD)制造關(guān)鍵材料全球市場(chǎng)的95%被日韓企占據(jù),我國(guó)一直依賴進(jìn)口。近日了解到,北京化工大學(xué)光聚合技術(shù)研究中心等已成功開(kāi)發(fā)了LCD生產(chǎn)用黑色矩陣(BM)材料關(guān)鍵技術(shù),有望打破這一維持了近40年的市場(chǎng)壟斷。

 

  該技術(shù)由北京化工大學(xué)光聚合技術(shù)研究中心和江蘇博硯電子科技有限公司合作開(kāi)發(fā),經(jīng)中國(guó)石油和化學(xué)工業(yè)聯(lián)合會(huì)組織鑒定,產(chǎn)品主要指標(biāo)比肩國(guó)際同類產(chǎn)品,其中的高阻抗BM更是已經(jīng)超過(guò)國(guó)外產(chǎn)品,達(dá)到世界領(lǐng)先水平。

  據(jù)項(xiàng)目負(fù)責(zé)人、北京化工大學(xué)聶俊教授介紹,BM是LCD制造中的關(guān)鍵材料,涉及的技術(shù)難題眾多,包括低聚物結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和篩選、合成工藝確定和優(yōu)化、活性單體的篩選和控制、色漿細(xì)度控制和穩(wěn)定、產(chǎn)品配方設(shè)計(jì)和優(yōu)化等。目前國(guó)際上主要生產(chǎn)企業(yè)是日本TOK、新日鐵化學(xué)和三菱化學(xué),我國(guó)尚未有企業(yè)能夠進(jìn)行生產(chǎn),同時(shí)也缺乏充足的技術(shù)人員儲(chǔ)備和關(guān)鍵設(shè)備。

  該技術(shù)的主要?jiǎng)?chuàng)新點(diǎn)是突破了BM材料設(shè)計(jì)制備關(guān)鍵技術(shù),完成高阻抗BM和通用型BM的制備。他們通過(guò)研究樹(shù)脂結(jié)構(gòu)和分子尺寸及形態(tài)對(duì)顯影性能和分辨率的影響機(jī)制、碳漿的改性結(jié)構(gòu)、表觀形貌和制備工藝對(duì)其穩(wěn)定性及光學(xué)特性的理論關(guān)聯(lián)等問(wèn)題,突破了高感度和高分辨率感光體系的構(gòu)建、納米碳漿穩(wěn)定化制備技術(shù),完成了系列BM材料的開(kāi)發(fā)工作。

  其中,通用型BM為特有的產(chǎn)品,可以對(duì)應(yīng)于3種不同的主流設(shè)備。

  由于不同的曝光機(jī)參數(shù)不同,所對(duì)應(yīng)的工藝和對(duì)BM的要求也具有較大的差異,目前很少有能同時(shí)滿足兩種不同生產(chǎn)工藝的BM?!岸覀冮_(kāi)發(fā)的通用型BM可同時(shí)滿足3種主流應(yīng)用設(shè)備的工藝要求,不僅省去了生產(chǎn)線上產(chǎn)品切換,同時(shí)也減小了原材料的購(gòu)買力度,具有很高的技術(shù)含量和很好的應(yīng)用前景?!甭櫩〗榻B說(shuō),“而高阻抗BM則同時(shí)實(shí)現(xiàn)了高遮光性能和高電絕緣性,這在LCD產(chǎn)業(yè)中越來(lái)越受重視。我們這個(gè)產(chǎn)品已經(jīng)超過(guò)了國(guó)外大公司的產(chǎn)品水平,達(dá)到了國(guó)際領(lǐng)先的地位。”

  北京化工大學(xué)還聯(lián)合江蘇博硯電子科技有限公司及其他6家單位獲得了國(guó)家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃“微電子加工用高端超純化學(xué)品”專項(xiàng)的立項(xiàng),將在已建成年產(chǎn)100噸黑色矩陣生產(chǎn)線基礎(chǔ)上,進(jìn)行年產(chǎn)1000噸生產(chǎn)線建設(shè),從而實(shí)現(xiàn)規(guī)?;a(chǎn)。

 

  黑色矩陣未來(lái)研究重點(diǎn)

  高阻抗與高OD的平衡

  目前,市場(chǎng)對(duì)高光透射密度(OD)產(chǎn)品的需求也很旺盛(BM的厚度=廠商要求/單位厚度BM的OD值)。而高阻抗產(chǎn)品的表面阻抗性能主要是利用新型色漿來(lái)達(dá)到的,增強(qiáng)表面阻抗的同時(shí),也導(dǎo)致了OD下降。因此,在取得高阻抗效果的同時(shí),提升BM的OD值,是下一步努力的方向。

  儲(chǔ)存穩(wěn)定性

  BM材料受材料特性的限制,保質(zhì)期很短,一般在冷藏(5℃)條件下保存周期不超過(guò)3個(gè)月,這對(duì)下游企業(yè)的儲(chǔ)存條件以及生產(chǎn)企業(yè)的生產(chǎn)能力都提出了較高要求。因此,延長(zhǎng)BM材料的儲(chǔ)藏穩(wěn)定性也是下一步的主要研發(fā)方向。對(duì)穩(wěn)定性影響最大的是色漿性質(zhì)。色漿中的炭黑顆粒為納米尺度,易發(fā)生沉降,導(dǎo)致BM儲(chǔ)存穩(wěn)定性變差。

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