關于第二代0.18微米5V/40V BCD工藝平臺的介紹和應用

全球領先的特色工藝純晶圓代工企業(yè)——華虹半導體有限公司（“華虹半導體”或“公司”，股份代號：1347.HK）宣布，其第二代0.18微米5V/40V BCD工藝平臺已成功量產，該平臺具有導通電阻低、高壓種類全、光刻層數少等優(yōu)勢，對于工業(yè)控制應用和DC-DC轉換器等產品是理想的工藝選擇。

第二代0.18微米5V/40V BCD工藝平臺40V DMOS擊穿電壓達到52V，其導通電阻低至 20 mOhm.mm?2??，達到該節(jié)點領先工藝水平，可提高產品的驅動能力，減小芯片面積，擴大高壓管安全工作區(qū)（Safe-Operation-Area, SOA），保證產品的高可靠性。該工藝平臺最少光罩層數為18層。該工藝平臺提供豐富的可選擇器件，包括高阻、電容、Zener二極管、肖特基二極管等。此外，該平臺還提供in-house設計的標準單元庫、SRAM編譯器、IO和eFuse，從而為電源管理芯片提供完善的設計解決方案。目前，在與國內外多家客戶緊密合作下，公司已完成應用于電機驅動、快充、通訊、安防、DC-DC、LDO等多個領域芯片產品的驗證，并成功進入量產。

以綠色科技為主導，電源管理技術扮演著舉足輕重的地位。華虹半導體已引入全面的電源管理（PMIC）BCD工藝方案，在成熟的0.5微米、0.35微米、0.18微米節(jié)點上積累了豐富的量產經驗。未來，華虹半導體將繼續(xù)發(fā)揮在BCD和eNVM特色工藝上的技術優(yōu)勢，提供二者的集成方案，為智能化電源產品，打造高端電源管理系統級芯片（SoC）。

?????華虹半導體執(zhí)行副總裁孔蔚然博士表示：“華虹半導體一直將電源管理平臺視作工藝研發(fā)的重點之一，第二代0.18微米5V/40V BCD工藝量產標志著我們在PMIC領域的核心競爭力再度提升。展望未來，我們還將持續(xù)拓展更先進的智能電源管理平臺，為客戶提供差異化技術的競爭優(yōu)勢。”