0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

關(guān)于PSP-SOI模型在RF SOI工藝上的優(yōu)勢分析和應(yīng)用

0oS6_華虹宏 ? 來源:djl ? 2019-10-18 16:36 ? 次閱讀

在不斷發(fā)展的無線互聯(lián)世界里,RF SOI(Silicon-on-Insulator)工藝技術(shù)以其獨特的技術(shù)和成本優(yōu)勢,成為智能手機(jī)射頻前端模塊的首選技術(shù)之一。尤其在射頻開關(guān)領(lǐng)域,SOI技術(shù)以低功耗、高隔離以及高線性度等方面特性贏得眾多設(shè)計者的青睞。

2015年年初,華虹宏力的0.2微米射頻SOI第二代工藝平臺正式發(fā)布推向市場,并首次采用了PSP-SOI模型,為設(shè)計者提供精準(zhǔn)的各種器件特性描述。相較于BSIM-SOI模型,PSP-SOI能夠更精準(zhǔn)地描述模擬特性以及電流高階導(dǎo)數(shù)的連續(xù)性。此外,最重要的一點,在射頻大信號的諧波仿真預(yù)測上,PSP-SOI模型也能準(zhǔn)確地描述各諧波的趨勢。

PSP-SOI(PD)模型是在PSP模型的基礎(chǔ)上,加入了對SOI器件各種特殊效應(yīng)的描述。如浮體效應(yīng),價帶隧道效應(yīng)電流等。并且包含了對一些特殊寄生效應(yīng)的詳細(xì)描述。如源漏結(jié)二極管,采用JUNCAP2模型對漏電的非線性進(jìn)行了詳盡的描述,該模型除了包括源漏理想的偏移電流及擴(kuò)散電流,還考慮了帶間隧道效應(yīng)及陷阱輔助穿隧因素。另外,自熱效應(yīng)在SOI工藝中是眾所周知的,本模型采用了標(biāo)準(zhǔn)的輔助熱電路方式,通過直流能量的轉(zhuǎn)化來檢測溫度的升高。模型還對寄生三極管效應(yīng)、非線性體電阻、高低頻噪聲、電壓電流等高階倒數(shù)等效應(yīng)進(jìn)行了詳盡的描述。除此之外,模型還對襯底網(wǎng)絡(luò)進(jìn)行了一定的描述。

該模型經(jīng)過與實測數(shù)據(jù)的對比驗證,從直流,到交流,從射頻小信號到射頻大信號的諧波驗證,都得到了較好的吻合。基于PSP-SOI模型的這套工藝設(shè)計工具(PDK)極大的方便了設(shè)計者針對射頻性能和芯片面積同時進(jìn)行優(yōu)化,減少了設(shè)計反復(fù),設(shè)計并制造出高性能、低功耗的射頻開關(guān)。

值得一提的是,模型團(tuán)隊最近又建立了大信號測試負(fù)載牽引系統(tǒng),建立了晶圓級別的大信號測試能力,從而為將來進(jìn)一步驗證器件及電路特性,以及進(jìn)行更精準(zhǔn)的模型驗證,提供更有力的支持。

通過研發(fā)團(tuán)隊的不斷努力,同時與客戶保持緊密溝通從而清晰地理解設(shè)計需求,我們將工藝技術(shù)持續(xù)優(yōu)化提升。華虹宏力第三代射頻SOI工藝平臺預(yù)計將在今年第四季度推出。隨著模型的不斷成熟,隨著PDK后端抽取的更精準(zhǔn)優(yōu)化,華虹宏力將為客戶提供更加完善的射頻解決方案,幫助客戶搶占市場先機(jī),讓我們拭目以待。

張 昊 研發(fā)部器件模型科 張昊 在上海一個研討會上介紹PSP-SOI 模型的優(yōu)勢

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 二極管
    +關(guān)注

    關(guān)注

    147

    文章

    9442

    瀏覽量

    164529
  • 智能手機(jī)
    +關(guān)注

    關(guān)注

    66

    文章

    18341

    瀏覽量

    178869
收藏 人收藏

    評論

    相關(guān)推薦

    國產(chǎn)SOI晶圓技術(shù)迎來突破性進(jìn)展,SOI賽道大有可為

    電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/李寧遠(yuǎn))半導(dǎo)體行業(yè),制程工藝封裝工藝對芯片性能的影響是不言而喻的。SOI,Silicon-On-Insulator,絕緣襯底
    的頭像 發(fā)表于 10-29 06:28 ?2932次閱讀

    材料認(rèn)識:SOI硅片

    )與12"(300mm)等規(guī)格。而按照制造工藝來分類,主要可以分為拋光片、外延片和SOI硅片三種。單晶硅錠經(jīng)過切割、研磨和拋光處理后得到拋光片,拋光片經(jīng)過外延生長形成外延片,拋光片經(jīng)過氧化、鍵合或離子注入等工藝處理后形成SO
    的頭像 發(fā)表于 05-22 08:09 ?2151次閱讀
    材料認(rèn)識:<b class='flag-5'>SOI</b>硅片

    中微晶園成功研發(fā)基于Cavity-SOI的MEMS絕壓壓力傳感器系列化產(chǎn)品

    近日,中微晶園成功研發(fā)出基于Cavity-SOI工藝的MEMS絕壓壓力傳感器產(chǎn)品,可應(yīng)用于高度計、無人機(jī)、充氣泵、汽車胎壓監(jiān)測等領(lǐng)域。
    的頭像 發(fā)表于 05-11 09:35 ?450次閱讀
    中微晶園成功研發(fā)基于Cavity-<b class='flag-5'>SOI</b>的MEMS絕壓壓力傳感器系列化產(chǎn)品

    硅片和soi這兩種材料,他們的不同之處是什么呢?

    硅片是半導(dǎo)體制造的基礎(chǔ),絕大多數(shù)的芯片都是硅片制造的。SOI(silicon on insulator )利用絕緣層將單晶硅薄膜與單晶硅片隔離開來。
    的頭像 發(fā)表于 05-06 09:29 ?628次閱讀
    硅片和<b class='flag-5'>soi</b>這兩種材料,他們的不同之處是什么呢?

    意法半導(dǎo)體攜手三星推出18nm FD-SOI工藝,支持嵌入式相變存儲器

    據(jù)悉,F(xiàn)D-SOI 是一種先進(jìn)的平面半導(dǎo)體技術(shù),能夠通過簡化制作流程進(jìn)行精準(zhǔn)的漏電流控制,相較于現(xiàn)有的 40nm EPM 技術(shù),新工藝大幅度提高了性能指標(biāo):能效提升 50%,數(shù)字密度增加三倍有余,并能夠承載更大的片存儲和更低的
    的頭像 發(fā)表于 03-21 14:00 ?470次閱讀

    FD-SOI與PD-SOI他們的區(qū)別在哪?

    本文簡單介紹了兩種常用的SOI晶圓——FD-SOI與PD-SOI
    的頭像 發(fā)表于 03-17 10:10 ?1158次閱讀
    FD-<b class='flag-5'>SOI</b>與PD-<b class='flag-5'>SOI</b>他們的區(qū)別在哪?

    射頻前端底層技術(shù)的卓越性能,RF-SOI為5G賦能

    電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/李寧遠(yuǎn))SOI,Silicon-On-Insulator,絕緣襯底的硅,硅晶體管之間,加入絕緣體物質(zhì),可使兩者之間的寄生電容比原來的少上一倍。SOI又分為
    的頭像 發(fā)表于 02-19 00:59 ?3272次閱讀

    谷歌 Pixel 6 拆解,F(xiàn)D-SOI首次被用于5G毫米波

    谷歌 Pixel 6 拆解,F(xiàn)D-SOI首次被用于5G毫米波
    的頭像 發(fā)表于 12-07 16:15 ?366次閱讀
    谷歌 Pixel 6 拆解,F(xiàn)D-<b class='flag-5'>SOI</b>首次被用于5G毫米波

    IBS:為什么 FD SOI對于生成式AI時代中的邊緣端設(shè)備如此重要?

    ,AI時代下邊緣端設(shè)備會出現(xiàn)高速發(fā)展,而FD SOI制造工藝對于AI邊緣芯片市場增長來說非常重要。 ? 圖:IBS CEO Handel Jones論壇
    的頭像 發(fā)表于 11-21 17:39 ?1294次閱讀
    IBS:為什么 FD <b class='flag-5'>SOI</b>對于生成式AI時代中的邊緣端設(shè)備如此重要?

    國內(nèi)第一片300mm射頻(RFSOI晶圓的關(guān)鍵技術(shù)

    多晶硅層用作電荷俘獲層是RF-SOI中提高器件射頻性能的關(guān)鍵技術(shù),晶粒大小、取向、晶界分布、多晶硅電阻率等參數(shù)與電荷俘獲性能有密切的關(guān)系;此外,由于多晶硅/硅的復(fù)合結(jié)構(gòu),使得硅晶圓應(yīng)力極難控制。
    的頭像 發(fā)表于 11-21 15:22 ?946次閱讀

    第八屆上海FD-SOI論壇成功舉行 芯原FD-SOI IP迅速成長賦能產(chǎn)業(yè)

    于2019年舉行。因特殊原因暫停了三年,2023年主辦方重啟再次主辦,第八屆FD-SOI論壇,邀請到國內(nèi)外幾乎所有FD-SOI生態(tài)內(nèi)的重要企業(yè)專家參與。三年內(nèi)國內(nèi)外的科技環(huán)境發(fā)生了巨大的變化,F(xiàn)D-SOI的產(chǎn)業(yè)格局和技術(shù)又有哪些
    的頭像 發(fā)表于 11-01 16:39 ?1614次閱讀
    第八屆上海FD-<b class='flag-5'>SOI</b>論壇成功舉行 芯原FD-<b class='flag-5'>SOI</b> IP迅速成長賦能產(chǎn)業(yè)

    2023年國際RF-SOI論壇成功上海舉行 四年之后活動重啟給半導(dǎo)體行業(yè)注入信心

    FD-SOI技術(shù)論壇”和“2023 國際RF-SOI技術(shù)論壇”,兩天的活動分別吸引了五百位左右的國外專家和國內(nèi)的領(lǐng)先半導(dǎo)體廠商專家領(lǐng)袖,聚集在上海黃埔江邊香格里拉酒店,共商針對物聯(lián)網(wǎng)、5G射頻、汽車等領(lǐng)域的半導(dǎo)體先進(jìn)工藝技術(shù)的
    的頭像 發(fā)表于 10-30 15:45 ?2110次閱讀
    2023年國際<b class='flag-5'>RF-SOI</b>論壇成功上海舉行 四年之后活動重啟給半導(dǎo)體行業(yè)注入信心

    上海微系統(tǒng)所在300mm RF-SOI晶圓制造技術(shù)方面實現(xiàn)突破

    近日,上海微系統(tǒng)所魏星研究員團(tuán)隊300mm SOI晶圓制造技術(shù)方面取得突破性進(jìn)展,制備出了國內(nèi)第一片300mm 射頻(RFSOI晶圓。
    的頭像 發(fā)表于 10-23 09:16 ?872次閱讀
    上海微系統(tǒng)所在300mm <b class='flag-5'>RF-SOI</b>晶圓制造技術(shù)方面實現(xiàn)突破

    上海微系統(tǒng)所在300mm SOI晶圓制造技術(shù)方面實現(xiàn)突破

    為制備適用于300 mm RF-SOI的低氧高阻襯底,團(tuán)隊自主開發(fā)了耦合橫向磁場的三維晶體生長傳熱傳質(zhì)模型,并首次揭示了晶體感應(yīng)電流對硅熔體內(nèi)對流和傳熱傳質(zhì)的影響機(jī)制以及結(jié)晶界面附近氧雜質(zhì)的輸運機(jī)制,相關(guān)成果分別發(fā)表晶體學(xué)領(lǐng)域
    的頭像 發(fā)表于 10-20 14:30 ?588次閱讀
    上海微系統(tǒng)所在300mm <b class='flag-5'>SOI</b>晶圓制造技術(shù)方面實現(xiàn)突破

    什么是SOI襯底?SOI襯底的優(yōu)勢是什么?

    SOI是Silicon-On-Insulator的縮寫。直譯為絕緣層的硅。實際的結(jié)構(gòu)是,硅片上有一層超薄的絕緣層,如SiO2。絕緣層
    的頭像 發(fā)表于 10-10 18:14 ?2739次閱讀
    什么是<b class='flag-5'>SOI</b>襯底?<b class='flag-5'>SOI</b>襯底的<b class='flag-5'>優(yōu)勢</b>是什么?