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華虹宏力:新推工藝平臺,應(yīng)對物聯(lián)網(wǎng)低功耗和綠色節(jié)能趨勢
華虹宏力執(zhí)行副總裁孔蔚然博士表示,智能化與低功耗是物聯(lián)網(wǎng)的核心,綠色節(jié)能是電源管理IC的核心。作為嵌入式非易失性存儲器領(lǐng)域的領(lǐng)導(dǎo)企業(yè),華虹宏力已在智能卡和物聯(lián)網(wǎng)方面耕耘多年。我們成功推出了0.11微米ULL嵌入式閃存,該平臺支持RF-CMOS設(shè)計(jì),是物聯(lián)網(wǎng)應(yīng)用的最佳選擇。此外,0.18微米數(shù)?;旌霞扒度胧絆TP/MTP工藝平臺增強(qiáng)版(0.18 CE工藝平臺增強(qiáng)版),采用業(yè)界最具競爭力的光罩層數(shù),是目前市場上極具價格優(yōu)勢的MCU解決方案。這些解決方案均可為物聯(lián)網(wǎng)的智能化與低功耗提供助力。0.5微米700V BCD平臺在LED照明驅(qū)動的快速上量,證明是適合綠色節(jié)能的工藝平臺技術(shù)。
OTP/MTP工藝平臺增強(qiáng)版,兼顧MCU成本和功耗
MCU因?yàn)槌杀竞偷凸脑趥鞲袑雍瓦吘壘W(wǎng)關(guān)設(shè)備中發(fā)揮重要作用。MCU生產(chǎn)廠商需要全方位為提供客戶所需產(chǎn)品,其中具備數(shù)模混合電路,嵌入閃存的MCU受到特別重視。
技術(shù)論壇上,結(jié)合這個市場需求,華虹宏力介紹了該公司最新推出的低本高效0.18微米數(shù)?;旌霞扒度胧絆TP/MTP工藝平臺增強(qiáng)版。
“它是在0.18微米低本高效OTP工藝平臺的基礎(chǔ)上研發(fā)升級而來,最大優(yōu)勢是通過利用第三方授權(quán)的OTP Cell,并依托自身經(jīng)驗(yàn)豐富的嵌入式存儲器IP設(shè)計(jì)、制造工藝和IP測試三方面的整合能力,可為客戶提供優(yōu)化的OTP IP,并實(shí)現(xiàn)更小的OTP面積、更高的速度、更低的功耗。在MTP解決方案中,客戶通過MTPIP可以方便地在系統(tǒng)上反復(fù)修改設(shè)計(jì)程序,從而提升客戶產(chǎn)品的功能及有效改善生產(chǎn)存貨管理。作為OTP MCU的升級版,MTP可提供的容量由1Kx8位到8Kx16位,其IP面積極具競爭力,可應(yīng)對客戶多元化和高性價比的需求?!?孔蔚然說。
孔蔚然博士表示,通過這些改進(jìn),該工藝平臺在成本、性能和功耗等諸多方面可以滿足物聯(lián)網(wǎng)應(yīng)用的需求。
超低漏電嵌入式閃存工藝平臺,滿足超低功耗需求
除兼顧成本和功耗的MCU制造解決方案外,更令人感興趣的是華虹宏力的0.11微米超低漏電嵌入式閃存工藝平臺。物聯(lián)網(wǎng)市場,對于先進(jìn)工藝的需求并不是那么高,但對于低功耗卻有甚高的需求。
“新推出的0.11微米超低漏電嵌入式閃存工藝平臺支持低至1.08伏的操作電壓,小于0.2pA/μm的超低漏電。動態(tài)功耗達(dá)25uA/MHz,靜態(tài)功耗達(dá)50nA,可大幅提升電池壽命,延長物聯(lián)網(wǎng)及可穿戴式設(shè)備的待機(jī)時間。該平臺還具有邏輯單元集成度高,包含電源管理單元等特點(diǎn),門密度達(dá)到300K gate/mm2以上,能夠幫助客戶進(jìn)一步縮小芯片面積?!笨孜等徽f。
該工藝平臺的最大特點(diǎn)是可在同一工藝中集成射頻、eFlash和EEPROM,24層光罩即可生成高性能、低功耗的0.11微米SoC芯片,具備更小的面積、更低的功耗和更強(qiáng)的可靠性等顯著優(yōu)勢,并降低設(shè)計(jì)、制造和測試成本。該工藝平臺擁有豐富多樣的嵌入式存儲器IP,同時也提供高密度存儲器編輯器和標(biāo)準(zhǔn)單元庫,可為客戶量身定制性價比優(yōu)越、全面靈活的解決方案,加速客戶產(chǎn)品上市時間。
基于該工藝平臺生產(chǎn)的低功耗MCU適用于各種智慧節(jié)能型產(chǎn)品,例如物聯(lián)網(wǎng)、可穿戴式設(shè)備、智能電網(wǎng)、嵌入式智能互聯(lián)設(shè)備、醫(yī)療電子、照明,以及工業(yè)和汽車電子等方面的應(yīng)用。
超高壓BCD工藝,迎合節(jié)能環(huán)保熱點(diǎn)
隨著客戶對綠色、節(jié)能和效率需求的日益增加,出色的電源管理IC技術(shù)顯得尤為重要。華虹宏力超高壓700V BCD技術(shù)迎合了節(jié)能環(huán)保熱點(diǎn),具有業(yè)內(nèi)領(lǐng)先的低導(dǎo)通電阻、高可靠性、低成本和流片周期短等特點(diǎn),可為客戶提供極具競爭力的單芯片解決方案。
新一代0.5微米700V BCD工藝是基于2013年第一代1微米700V BCD工藝升級開發(fā)而成,在保持原有1P1M(1層Poly,1層Metal)最少版次12塊的低成本優(yōu)勢基礎(chǔ)上,進(jìn)一步集成7.5V CMOS和20V/40V的中壓LDMOS以及高壓200V/300V/400V/500V/600V/650V/700V的功率LDMOS,豐富了超高壓電壓系列選擇,以滿足不同電壓應(yīng)用需求。
“此工藝平臺其所支持的高壓小電流LED照明驅(qū)動應(yīng)用市場發(fā)展前景十分廣闊。我們將繼續(xù)拓展先進(jìn)的電源管理平臺,增強(qiáng)應(yīng)用于LED照明的先進(jìn)差異化工藝技術(shù)組合,制造高性能、低成本的LED驅(qū)動IC,為客戶提供一整套具成本效益的解決方案。” 孔蔚然表示。
該工藝平臺適用于各種LED照明節(jié)能型產(chǎn)品以及電源適配器,后續(xù)在馬達(dá)驅(qū)動應(yīng)用等方面也會拓展開發(fā)系列工藝平臺。
華虹宏力0.11微米嵌入式閃存工藝兼具低成本高可靠性
華虹宏力的0.11微米嵌入式閃存工藝采用24層光罩,極大地降低了晶圓的加工成本和生產(chǎn)時間;閃存單元面積僅為0.197平方微米,邏輯單元密度達(dá)300K/m2,在一片200mm晶圓上實(shí)現(xiàn)了約3.5萬顆132K容量的SIM卡芯片;擦寫次數(shù)達(dá)300K,具有非常高的可靠性;采用先進(jìn)設(shè)計(jì),支持單線測試,大大提高同測數(shù)。此外,該工藝技術(shù)支持銅線封裝,可大大降低卡片成本,使其成為各種智能卡和MCU IC應(yīng)用領(lǐng)域的低本高效解決方案之一。
編輯點(diǎn)評:華虹宏力在嵌入式非易失性存儲器領(lǐng)域一直保持著業(yè)界領(lǐng)先地位。隨著金融IC卡、移動支付和物聯(lián)網(wǎng)的蓬勃發(fā)展,嵌入式閃存技術(shù)工藝擁有越來越大的需求空間。華虹宏力的0.11微米嵌入式閃存工藝作為華虹宏力0.18微米和0.13微米嵌入式閃存技術(shù)的延續(xù),可提供一個兼具高性能、低功耗、低成本優(yōu)勢于一身的差異化智能卡和MCUIC解決方案。
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