0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫(xiě)文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)加快研發(fā) 有望打破壟斷格局

半導(dǎo)體動(dòng)態(tài) ? 來(lái)源:工程師吳畏 ? 2019-08-12 16:22 ? 次閱讀

我國(guó)正加速實(shí)現(xiàn)中高端光刻機(jī)的國(guó)產(chǎn)化。近日,亦莊企業(yè)北京國(guó)望光學(xué)科技有限公司增資項(xiàng)目在北京產(chǎn)權(quán)交易所完成。通過(guò)此次增資,國(guó)望光學(xué)引入中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所和中國(guó)科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所作為戰(zhàn)略投資者,兩家機(jī)構(gòu)以無(wú)形資產(chǎn)作價(jià)10億元入股,對(duì)應(yīng)持股比例為33.33%。這意味著北京在推動(dòng)國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)核心部件生產(chǎn)方面邁出實(shí)質(zhì)性步伐,將加快突破國(guó)產(chǎn)中高端光刻機(jī)制造“卡脖子”技術(shù)難題。

光刻機(jī)作為集成電路制造中最關(guān)鍵的設(shè)備,對(duì)芯片制作工藝有著決定性的影響,被譽(yù)為“超精密制造技術(shù)皇冠上的明珠”,制造和維護(hù)均需要高度的光學(xué)和電子工業(yè)基礎(chǔ)。光刻機(jī)工作原理跟照相機(jī)類似,不過(guò)它的底片是涂滿光刻膠的硅片,各種電路圖案經(jīng)激光縮微投影曝光到光刻膠上,光刻膠的曝光部分與硅片進(jìn)行反應(yīng),將其永久刻在硅片上,這就是芯片生產(chǎn)最重要的步驟。由于制造光刻機(jī)具有極高的技術(shù)和資金門(mén)檻,目前全球光刻機(jī)市場(chǎng)基本被荷蘭的阿斯麥、日本的尼康和佳能三家企業(yè)壟斷。

國(guó)望光學(xué)2018年6月落戶北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū),是北京亦莊國(guó)際投資發(fā)展有限公司的全資子公司,注冊(cè)資本20億元,主營(yíng)業(yè)務(wù)為光刻機(jī)核心部件生產(chǎn)。

“國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)制作工藝和全球頂尖工藝還有一定差距,國(guó)望光學(xué)的成立就是要推動(dòng)國(guó)產(chǎn)中高端光刻機(jī)整機(jī)研發(fā)和量產(chǎn)。”亦莊國(guó)投相關(guān)負(fù)責(zé)人說(shuō),此次通過(guò)北交所增資就是要尋找技術(shù)實(shí)力一流的戰(zhàn)略投資方。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫(xiě)或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 光刻機(jī)
    +關(guān)注

    關(guān)注

    31

    文章

    1142

    瀏覽量

    47187
收藏 人收藏

    評(píng)論

    相關(guān)推薦

    光刻機(jī)巨頭ASML業(yè)績(jī)暴雷,芯片迎來(lái)新一輪“寒流”?

    電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/黃山明)作為芯片制造過(guò)程中的核心設(shè)備,光刻機(jī)決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機(jī)已經(jīng)成為高端芯片(7nm及以下)芯片量產(chǎn)的關(guān)鍵,但目前EUV光刻機(jī)基本由荷蘭阿斯麥(ASML
    的頭像 發(fā)表于 10-17 00:13 ?2635次閱讀

    俄羅斯首臺(tái)光刻機(jī)問(wèn)世

    據(jù)外媒報(bào)道,目前,俄羅斯首臺(tái)光刻機(jī)已經(jīng)制造完成并正在進(jìn)行測(cè)試。 俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長(zhǎng)瓦西里-什帕克(Vasily Shpak)表示,已組裝并制造了第一臺(tái)國(guó)產(chǎn)光刻機(jī),作為澤廖諾格勒技術(shù)生產(chǎn)線
    的頭像 發(fā)表于 05-28 15:47 ?700次閱讀

    俄羅斯推出首臺(tái)光刻機(jī):350nm

    的芯片。Shpak表示,“我們組裝并制造了第一臺(tái)國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)。作為澤廖諾格勒技術(shù)生產(chǎn)線的一部分,目前正在對(duì)其進(jìn)行測(cè)試?!倍砹_斯接下來(lái)的目標(biāo)是在2026年制造可以支持130nm工藝的光刻機(jī)。 據(jù)報(bào)道,俄羅斯科學(xué)院下諾夫哥羅德應(yīng)用物理
    的頭像 發(fā)表于 05-28 09:13 ?634次閱讀

    荷蘭阿斯麥稱可遠(yuǎn)程癱瘓臺(tái)積電光刻機(jī)

    阿斯麥稱可遠(yuǎn)程癱瘓臺(tái)積電光刻機(jī) 據(jù)彭博社爆料稱,有美國(guó)官員就大陸攻臺(tái)的后果私下向荷蘭和中國(guó)臺(tái)灣官員表達(dá)擔(dān)憂。對(duì)此,光刻機(jī)制造商阿斯麥(ASML)向荷蘭官員保證,可以遠(yuǎn)程癱瘓(remotely
    的頭像 發(fā)表于 05-22 11:29 ?5713次閱讀

    臺(tái)積電A16制程采用EUV光刻機(jī),2026年下半年量產(chǎn)

    據(jù)臺(tái)灣業(yè)內(nèi)人士透露,臺(tái)積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑(High-NA)EUV光刻機(jī),而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機(jī)進(jìn)行生產(chǎn)。相較之下,英特爾和三星則計(jì)劃在此階段使用最新的High-NA EUV光刻機(jī)。
    的頭像 發(fā)表于 05-17 17:21 ?872次閱讀

    臺(tái)積電未確定是否采購(gòu)阿斯麥高數(shù)值孔徑極紫外光刻機(jī)

    盡管High NA EUV光刻機(jī)有望使芯片設(shè)計(jì)尺寸縮減達(dá)三分之二,但芯片制造商需要權(quán)衡利弊,考慮其高昂的成本及ASML老款設(shè)備的可靠性問(wèn)題。
    的頭像 發(fā)表于 05-15 09:34 ?377次閱讀

    英特爾突破技術(shù)壁壘:首臺(tái)商用High NA EUV光刻機(jī)成功組裝

    英特爾的研發(fā)團(tuán)隊(duì)正致力于對(duì)這臺(tái)先進(jìn)的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻機(jī)進(jìn)行細(xì)致的校準(zhǔn)工作,以確保其能夠順利融入未來(lái)的生產(chǎn)線。
    的頭像 發(fā)表于 04-22 15:52 ?854次閱讀

    光刻機(jī)的常見(jiàn)類型解析

    光刻機(jī)有很多種類型,但有時(shí)也很難用類型進(jìn)行分類來(lái)區(qū)別設(shè)備,因?yàn)橛行┓诸悆H是在某一分類下的分類。
    發(fā)表于 04-10 15:02 ?1635次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的常見(jiàn)類型解析

    光刻機(jī)的發(fā)展歷程及工藝流程

    光刻機(jī)經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展,每次改進(jìn)和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機(jī)所能實(shí)現(xiàn)的最小工藝節(jié)點(diǎn)。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次從接觸接近式光刻機(jī)發(fā)展到浸沒(méi)步進(jìn)式投影
    發(fā)表于 03-21 11:31 ?5664次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的發(fā)展歷程及工藝流程

    ASML 首臺(tái)新款 EUV 光刻機(jī) Twinscan NXE:3800E 完成安裝

    ASML 官網(wǎng)尚未上線 Twinscan NXE:3800E 的信息頁(yè)面。 除了正在研發(fā)的 High-NA EUV 光刻機(jī) Twinscan EXE 系列,ASML 也為其 NXE 系列傳統(tǒng)數(shù)值孔徑
    的頭像 發(fā)表于 03-14 08:42 ?495次閱讀
    ASML 首臺(tái)新款 EUV <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b> Twinscan NXE:3800E 完成安裝

    光刻機(jī)巨頭ASML要搬離荷蘭?

    據(jù)荷蘭《電訊報(bào)》3月6日?qǐng)?bào)道,因荷蘭政府的反移民政策傾向,光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)正計(jì)劃搬離荷蘭。
    的頭像 發(fā)表于 03-08 14:02 ?1105次閱讀

    光刻膠和光刻機(jī)的區(qū)別

    光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料,可以通過(guò)光刻機(jī)上的模板或掩模來(lái)進(jìn)行曝光。
    的頭像 發(fā)表于 03-04 17:19 ?4262次閱讀

    全球首臺(tái)6代OLED垂直蒸鍍機(jī)已出貨,?打破日韓壟斷!

    供應(yīng)鏈消息人士向WitDisplay透露,應(yīng)用材料全球首臺(tái)第6代AMOLED垂直蒸鍍機(jī)已出貨,成功打破日韓廠商在6代蒸鍍機(jī)壟斷格局。
    的頭像 發(fā)表于 01-29 09:48 ?1052次閱讀

    光刻機(jī)結(jié)構(gòu)及IC制造工藝工作原理

    光刻機(jī)是微電子制造的關(guān)鍵設(shè)備,廣泛應(yīng)用于集成電路、平面顯示器、LED、MEMS等領(lǐng)域。在集成電路制造中,光刻機(jī)被用于制造芯片上的電路圖案。
    發(fā)表于 01-29 09:37 ?2536次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>結(jié)構(gòu)及IC制造工藝工作原理

    英特爾搶下6種ASML HIGH NA光刻機(jī)

    如果我們假設(shè)光刻機(jī)成本為 3.5 億至 4 億美元,并且 2024 年 10 個(gè)光刻機(jī)的HIGH NA 銷售額將在 35億至40億美元之間。
    的頭像 發(fā)表于 12-28 11:31 ?818次閱讀