我國(guó)光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)彎道超車，突破了9nm的技術(shù)瓶頸

（文章來(lái)源：筆錄科技）

如今的社會(huì)一直在不斷的發(fā)展之中，有許多互聯(lián)網(wǎng)作為背景的企業(yè)逐漸崛起，尤其是在通信領(lǐng)域這一方面，作為我國(guó)通信領(lǐng)域的巨頭企業(yè)的華為，在第五代通信技術(shù)領(lǐng)域上完美實(shí)現(xiàn)了彎道超車，目前已經(jīng)成功躋身進(jìn)入世界一流的前沿。

其實(shí)目前在互聯(lián)網(wǎng)行業(yè)以及通信領(lǐng)域上，我國(guó)的科技企業(yè)已經(jīng)都成功實(shí)現(xiàn)了彎道超車。只不過(guò)在一些關(guān)鍵零部件方面上，我國(guó)的科技企業(yè)依舊是需要國(guó)外進(jìn)口，芯片便是最好的例子。芯片技術(shù)所存在的技術(shù)短板問(wèn)題，這導(dǎo)致我國(guó)在進(jìn)口芯片的時(shí)候完全沒(méi)有議價(jià)權(quán)，并且還有可能受到對(duì)方“卡脖子”的境況，中興和華為所遭遇的事情不就是在告訴我們芯片技術(shù)受限于外人所帶來(lái)的弊端？

一般情況下，芯片的制造分為兩個(gè)方面，一是芯片的設(shè)計(jì)，二則是在芯片的制造問(wèn)題上。目前在芯片設(shè)計(jì)方面，我國(guó)的華為海思在內(nèi)的中國(guó)科技企業(yè)已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了技術(shù)性突破；但是在芯片制造上，我國(guó)的科技企業(yè)仍舊是受限于人，然而我們從本質(zhì)上分析的話，在芯片制造上落后的問(wèn)題主要在于光刻機(jī)技術(shù)十分落后。

也許有人不太明白，簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)就是，芯片想要制造出來(lái)的話，必須有光刻機(jī)的存在才可以把其圖片演變成一個(gè)真實(shí)的存在。目前的光刻機(jī)制造水平，大多數(shù)人是以14nm為主的建筑師。而最先進(jìn)的則是荷蘭ASML公司所制造的7mm的工藝光刻機(jī)。正式因?yàn)椴湃鄙俟饪虣C(jī)所以才能與他們達(dá)成一致，但是這樣也會(huì)在一定程度上扼制我們的發(fā)展。

所以在意識(shí)到這個(gè)問(wèn)題的嚴(yán)重性后，我國(guó)也的努力的制造光刻機(jī)并且在其領(lǐng)域投入了大量的人物以及財(cái)務(wù)。但是我們制造的光刻機(jī)的工藝僅限于28nm和14nm，和7nm工藝之間還存在著不小的差距。不過(guò)在最近一段時(shí)間內(nèi)，中國(guó)芯片突然傳出一個(gè)好消息！我國(guó)的光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)了彎道超車，已經(jīng)突破了9nm技術(shù)瓶頸。

根據(jù)媒體在之前的報(bào)道我們得知，由武漢光電國(guó)家研究中心的甘棕松團(tuán)隊(duì)，現(xiàn)在已經(jīng)成功的研制出9nm工藝的光刻機(jī)。這次研制出來(lái)的光刻機(jī)技術(shù)與其他國(guó)家的是完全不同的，國(guó)產(chǎn)的光刻機(jī)是利用二束激光在自研的光刻機(jī)上突破了光束衍射極限的限制，這才刻出了最小的9nm線寬的線段，這也就是說(shuō)這是屬于我們獨(dú)有的技術(shù)，所以有著我們自主的產(chǎn)權(quán)。

但是現(xiàn)在的9nm光刻機(jī)技術(shù)仍舊還處于試驗(yàn)階段，與7nm工藝之間也是存在著一定的差距，即使我們現(xiàn)在無(wú)法超越荷蘭的ASML，但是我們最起碼可以與日本和德國(guó)的光刻機(jī)技術(shù)一較高下，我們的技術(shù)突破也只是時(shí)間問(wèn)題罷了。

（責(zé)任編輯：fqj）