ASML下一代EUV光刻機堪稱史上最貴半導(dǎo)體設(shè)備 一臺就是12億元人民幣

截至目前，華為麒麟990 5G是唯一應(yīng)用了EUV極紫外光刻的商用芯片，臺積電7nm EUV工藝制造，而高通剛發(fā)布的驍龍765/驍龍765G則使用了三星的7nm EUV工藝。

EUV技術(shù)能夠落地商用，背后離不開荷蘭巨頭ASML（阿斯麥），整個EUV光刻機市場已經(jīng)被他家壟斷，現(xiàn)在的7nm工藝節(jié)點如此，未來的5nm、3mm節(jié)點也會如此。

近日，ASML公布了一些有關(guān)EUV的有趣數(shù)據(jù)。

其實早在2013年，ASML EUV光刻機就投用了，但頭幾年一直都是試驗、試產(chǎn)性質(zhì)，累計300毫米晶圓產(chǎn)量直到2017年才達到110萬塊，2018年又生產(chǎn)了90萬塊，2019年至今累計已達450萬塊，算下來從2016年到現(xiàn)在年復(fù)合增長率高達95％。

其實，全球已部署投產(chǎn)的EUV光刻機也沒多少，直到2016才不過區(qū)區(qū)10臺，2018年增加了17臺，2019年上半年增加了11臺，目前總共38臺。

目前投產(chǎn)的EUV光刻機型號都是NXE:3400B，下半年將迎來新的升級版NXE:3400C，每小時可生產(chǎn)最多175塊300毫米晶圓——2014年的時候可是每小時智能生產(chǎn)10塊左右。

NXE:3400C最大變化是模塊化設(shè)計，維護更加便捷，平均維修時間將從48小時縮短到8-10小時，支持7nm、5nm。

ASML的下一代EUV光刻機將是EXE:5000系列，面向臺積電3nm、Intel 5nm工藝，引入High NA（高數(shù)值孔徑）透鏡，從0.33轉(zhuǎn)向0.55，以匹配更先進的制造工藝，預(yù)計2023年上市。

至于這種EUV光刻機有多貴，據(jù)說三星不久前訂購了15臺，總價值3萬億韓元，折合人民幣約180億元，那么一臺就是12億元，堪稱史上最貴半導(dǎo)體設(shè)備了。

責(zé)任編輯：wv