中芯國(guó)際7nm工藝Q4季度問世：性能提升20% 功耗降低57%

中芯國(guó)際公司已經(jīng)實(shí)現(xiàn)90%以上的復(fù)工率，各條生產(chǎn)線、研發(fā)線實(shí)現(xiàn)100%運(yùn)行，產(chǎn)能預(yù)計(jì)于一季度實(shí)現(xiàn)滿載。

關(guān)于中芯國(guó)際集成電路制造有限公司，是世界領(lǐng)先的集成電路芯片代工企業(yè)之一，也是中國(guó)內(nèi)地規(guī)模最大、技術(shù)最先進(jìn)的集成電路芯片制造企業(yè)。主要業(yè)務(wù)是根據(jù)客戶本身或第三者的集成電路設(shè)計(jì)為客戶制造集成電路芯片。中芯國(guó)際是純商業(yè)性集成電路代工廠，提供 0.35微米到28納米制程工藝設(shè)計(jì)和制造服務(wù)。榮獲《半導(dǎo)體國(guó)際》雜志頒發(fā)的"2003年度最佳半導(dǎo)體廠"獎(jiǎng)項(xiàng)。

一場(chǎng)疫情，讓2020年開年與以往很是不同。新冠肺炎下，我們開啟了既要滿足每日生活、工作所需，同時(shí)還要兼顧疫情防控的“無接觸式”生活模式，隨之而來的是每個(gè)人生活場(chǎng)景的巨大變化，以及各行業(yè)生產(chǎn)模式的改變。

受疫情影響餐飲、零售等消費(fèi)類行業(yè)波及嚴(yán)重，但集成電路制造企業(yè)要確保全年365天*24小時(shí)工廠不間斷生產(chǎn)。在疫情期間，中芯國(guó)際人力資源部門陸續(xù)出臺(tái)假期調(diào)整、延期返崗、外地返崗員工14天隔離措施以及防疫期間薪酬保障等政策，并提倡各部門實(shí)行臨時(shí)輪班，減少會(huì)議、避免聚集。春節(jié)期間，生產(chǎn)線上的工作人員采取四班二輪的輪崗制度繼續(xù)生產(chǎn)，研發(fā)部門采取各級(jí)值班制度，輔助部門維持部分后勤保安和餐廳廠商在崗，保證了廠研發(fā)與運(yùn)營(yíng)的持續(xù)進(jìn)行。

臺(tái)積電、三星今年就要量產(chǎn)5nm工藝了，國(guó)內(nèi)的先進(jìn)工藝還在追趕，最大的晶圓代工廠中芯國(guó)際去年底量產(chǎn)了14nm工藝，帶來了1%的營(yíng)收，收入769萬美元，不過該工藝技術(shù)已經(jīng)可以滿足國(guó)內(nèi)95%的需求了。
14nm及改進(jìn)型的12nm工藝是中芯國(guó)際第一代FinFET工藝，他們還在研發(fā)更先進(jìn)的N+1括N+2 FinFET工藝，分別相當(dāng)于7nm工藝的低功耗、高性能版本。

根據(jù)中芯國(guó)際聯(lián)席CEO梁孟松博士所示，N+1工藝和14nm相比，性能提升了20%，功耗降低了57%，邏輯面積縮小了63%，SoC面積減少了55%。

N+1之后還會(huì)有N+2，這兩種工藝在功耗上表現(xiàn)差不多，區(qū)別在于性能及成本，N+2顯然是面向高性能的，成本也會(huì)增加。

至于備受關(guān)注的EUV光刻機(jī)，梁孟松表示在當(dāng)前的環(huán)境下，N+1、N+2代工藝都不會(huì)使用EUV工藝，等到設(shè)備就緒之后，N+2工藝可能會(huì)有幾層光罩使用EUV，之后的工藝才會(huì)大規(guī)模轉(zhuǎn)向EUV光刻工藝。

從梁孟松的解釋來看，中芯國(guó)際的7nm工藝發(fā)展跟臺(tái)積電的路線差不多，7nm節(jié)點(diǎn)一共發(fā)展了三種工藝，分別是低功耗的N7、高性能的N7P、使用EUV工藝的N7＋，前兩代工藝也沒用EUV光刻機(jī)，只有N7＋工藝上才開始用EUV工藝，不過光罩層數(shù)也比較少，5nm節(jié)點(diǎn)寸是充分利用EUV光刻工藝的，達(dá)到了14層EUV光罩。

現(xiàn)在最關(guān)鍵的是中芯國(guó)際的7nm何時(shí)量產(chǎn)，最新消息稱中芯國(guó)際的N+1 FinFET工藝已經(jīng)有客戶導(dǎo)入了（不過沒公布客戶名單），今年Q4季度小規(guī)模生產(chǎn)——這個(gè)消息比之前的爆料要好一些，進(jìn)度更快。

為了加快先進(jìn)工藝產(chǎn)能，中芯國(guó)際今年的資本開支將達(dá)到31億美元（該公司一年?duì)I收也不過30億美元上下），其中20億美元用于中芯國(guó)際的上海12英寸晶圓廠，5億美元用于北京12英寸晶圓廠。

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