我國(guó)芯片刻蝕機(jī)再獲技術(shù)突破，技術(shù)全球領(lǐng)先

（文章來源：網(wǎng)絡(luò)整理）

眾所周知，我國(guó)芯片制造技術(shù)與國(guó)際先進(jìn)水平有著不小的差距。芯片制造的關(guān)鍵設(shè)備--光刻機(jī)，與國(guó)際領(lǐng)先水平差距更大：世界最先進(jìn)水平已經(jīng)到了5nm水平，而我國(guó)才達(dá)到90nm水平。

可能是因?yàn)槲覈?guó)光刻機(jī)技術(shù)與國(guó)際領(lǐng)先水平差距巨大的原因，國(guó)人的的注意力都集中在光刻機(jī)上，而忽視了另一種在芯片制造過程中跟光刻機(jī)起到同等重要作用的設(shè)備——刻蝕機(jī)。

據(jù)國(guó)內(nèi)技術(shù)最先進(jìn)的刻蝕機(jī)生產(chǎn)商中微半導(dǎo)體設(shè)備有限公司（簡(jiǎn)稱中微公司）最新披露，該公司的5nm高端刻蝕機(jī)設(shè)備已經(jīng)獲得行業(yè)領(lǐng)先客戶——臺(tái)積電的批量訂單。

5nm制程代表了現(xiàn)階段全球芯片加工技術(shù)的最高水平，臺(tái)積電在其世界上最先進(jìn)的5nm芯片生產(chǎn)線上采用我國(guó)中微公司的高端刻蝕機(jī)，足以說明我國(guó)在刻蝕機(jī)領(lǐng)域技術(shù)的全球領(lǐng)先性。

光刻機(jī)和刻蝕機(jī)同樣是芯片制造的關(guān)鍵設(shè)備，刻蝕機(jī)在我國(guó)企業(yè)地努力下已經(jīng)達(dá)到了世界領(lǐng)先水平。相信在不久的將來，通過我國(guó)政府的統(tǒng)一部署與協(xié)調(diào)，和全國(guó)科研工作者的努力攻關(guān)，我國(guó)光刻機(jī)技術(shù)一定能夠?qū)崿F(xiàn)突破，趕上甚至超過世界最高水平！
（責(zé)任編輯：fqj）