0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

開發(fā)頂級(jí)光刻機(jī)的困難 頂級(jí)光刻機(jī)有多難搞?

如意 ? 來源:百家號(hào) ? 作者:Tech道觀 ? 2020-07-02 09:38 ? 次閱讀

光刻機(jī)可以說人類工業(yè)、機(jī)械、光學(xué)的技術(shù)集大成的科技創(chuàng)新之作,荷蘭最新極紫外光EUV光刻機(jī)舉例,其內(nèi)部精密零件多達(dá)10萬個(gè),可以說光刻機(jī)比汽車零件精細(xì)數(shù)十倍!

頂級(jí)光刻機(jī)有多難搞?美國曾有一位工程師感嘆道:ASML的光刻機(jī),光一個(gè)零件他就調(diào)整了10年!甚至ASML說:“就算開放圖紙,我們中國也造不出光刻機(jī)來!”

而且光刻機(jī)造出來了,賣給客戶了,光調(diào)試就要調(diào)試一年,才可以正式開工。

ASML光刻機(jī)的供應(yīng)商多達(dá)5000家,在ASML光刻機(jī)的供應(yīng)鏈里,荷蘭用到了大量他國核心技術(shù)和設(shè)備,比如蔡司鏡頭技術(shù)出自德國、復(fù)合材料由日本提供、工業(yè)精密機(jī)床技術(shù)靠瑞典支持,而軟件技術(shù)和電源則來自美國等等??梢赃@么說,ASML的光刻機(jī)技術(shù),是集采了世界各國之長,匯聚了全球頂尖技術(shù)于一身而誕生的—— 它的背后,是多個(gè)國家的先進(jìn)技術(shù)的集合體!甚至可以說是全世界最先進(jìn)技術(shù)的集大成者。

我國純靠自己一國之力搞光刻機(jī)研發(fā)大家可以想象有多難!鏡頭、材料、機(jī)床、軟件、電源、光源……每一項(xiàng)都需要我們自己造。但是我們中國人要對(duì)國家有信心!

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 光刻機(jī)
    +關(guān)注

    關(guān)注

    31

    文章

    1136

    瀏覽量

    46908
  • ASML
    +關(guān)注

    關(guān)注

    7

    文章

    706

    瀏覽量

    41044
收藏 人收藏

    評(píng)論

    相關(guān)推薦

    俄羅斯首臺(tái)光刻機(jī)問世

    的一部分,目前正在對(duì)其進(jìn)行測試,該設(shè)備可確保生產(chǎn)350nm的芯片。什帕克還指出,到2026年將獲得130nm的國產(chǎn)光刻機(jī),下一步將是開發(fā)90nm光刻機(jī),并繼續(xù)向下邁進(jìn)。 此前,俄羅斯曾表示,計(jì)劃到2026年實(shí)現(xiàn)65nm的芯片節(jié)點(diǎn)
    的頭像 發(fā)表于 05-28 15:47 ?594次閱讀

    俄羅斯推出首臺(tái)光刻機(jī):350nm

    來源:IT之家,謝謝 編輯:感知芯視界 Link 據(jù)外媒報(bào)道,俄羅斯首臺(tái)光刻機(jī)已經(jīng)制造完成并正在進(jìn)行測試。俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長Vasily Shpak表示,該設(shè)備可確保生產(chǎn)350納米工藝
    的頭像 發(fā)表于 05-28 09:13 ?537次閱讀

    后門!ASML可遠(yuǎn)程鎖光刻機(jī)!

    與ASML進(jìn)行光刻機(jī)問題溝通時(shí),負(fù)責(zé)人做出了保證,他們能力遠(yuǎn)程鎖控芯片制造設(shè)備。 這就意味著ASML傳承了歐美企業(yè)留有“后門”的習(xí)慣,而伴隨著這樣一則信息的揭露,或許很有可能會(huì)被美國所利用,徹底走向不可控的局面,而ASML絲毫不加以掩飾,這其中很可能存
    的頭像 發(fā)表于 05-24 09:35 ?389次閱讀

    荷蘭阿斯麥稱可遠(yuǎn)程癱瘓臺(tái)積電光刻機(jī)

    阿斯麥稱可遠(yuǎn)程癱瘓臺(tái)積電光刻機(jī) 據(jù)彭博社爆料稱,美國官員就大陸攻臺(tái)的后果私下向荷蘭和中國臺(tái)灣官員表達(dá)擔(dān)憂。對(duì)此,光刻機(jī)制造商阿斯麥(ASML)向荷蘭官員保證,可以遠(yuǎn)程癱瘓(remotely
    的頭像 發(fā)表于 05-22 11:29 ?5586次閱讀

    臺(tái)積電A16制程采用EUV光刻機(jī),2026年下半年量產(chǎn)

    據(jù)臺(tái)灣業(yè)內(nèi)人士透露,臺(tái)積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑(High-NA)EUV光刻機(jī),而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機(jī)進(jìn)行生產(chǎn)。相較之下,英特爾和三星則計(jì)劃在此階段使用最新的High-NA EUV光刻機(jī)。
    的頭像 發(fā)表于 05-17 17:21 ?707次閱讀

    光刻機(jī)的常見類型解析

    光刻機(jī)很多種類型,但有時(shí)也很難用類型進(jìn)行分類來區(qū)別設(shè)備,因?yàn)橛行┓诸悆H是在某一分類下的分類。
    發(fā)表于 04-10 15:02 ?1336次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的常見類型解析

    光刻機(jī)的發(fā)展歷程及工藝流程

    光刻機(jī)經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展,每次改進(jìn)和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機(jī)所能實(shí)現(xiàn)的最小工藝節(jié)點(diǎn)。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次從接觸接近式光刻機(jī)發(fā)展到浸沒步進(jìn)式投影
    發(fā)表于 03-21 11:31 ?4826次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的發(fā)展歷程及工藝流程

    ASML 首臺(tái)新款 EUV 光刻機(jī) Twinscan NXE:3800E 完成安裝

    3 月 13 日消息,光刻機(jī)制造商 ASML 宣布其首臺(tái)新款 EUV 光刻機(jī) Twinscan NXE:3800E 已完成安裝,新機(jī)型將帶來更高的生產(chǎn)效率。 ▲ ASML 在 X 平臺(tái)上的相關(guān)動(dòng)態(tài)
    的頭像 發(fā)表于 03-14 08:42 ?424次閱讀
    ASML 首臺(tái)新款 EUV <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b> Twinscan NXE:3800E 完成安裝

    光刻機(jī)巨頭ASML要搬離荷蘭?

    據(jù)荷蘭《電訊報(bào)》3月6日?qǐng)?bào)道,因荷蘭政府的反移民政策傾向,光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)正計(jì)劃搬離荷蘭。
    的頭像 發(fā)表于 03-08 14:02 ?982次閱讀

    淺談不同階段光刻機(jī)工作方式

    在曝光過程中,掩模版與涂覆光刻膠的硅片直接接觸。接觸式光刻機(jī)的縮放比為1:1,分辨率可達(dá)到4-5微米。由于掩模和光刻膠膜層反復(fù)接觸和分離,隨著曝光次數(shù)的增加,會(huì)引起掩模版和
    發(fā)表于 03-08 10:42 ?916次閱讀
    淺談不同階段<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>工作方式

    英特爾成為全球首家購買3.8億美元高數(shù)值孔徑光刻機(jī)的廠商

    英特爾最近因決定從荷蘭 ASML 購買世界上第一臺(tái)高數(shù)值孔徑(High-NA)光刻機(jī)而成為新聞焦點(diǎn)。到目前為止,英特爾是全球唯一一家訂購此類光刻機(jī)的晶圓廠,據(jù)報(bào)道它們的售價(jià)約為3.8億美元
    的頭像 發(fā)表于 03-06 14:49 ?361次閱讀
    英特爾成為全球首家購買3.8億美元高數(shù)值孔徑<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的廠商

    光刻膠和光刻機(jī)的區(qū)別

    光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料,可以通過光刻機(jī)上的模板或掩模來進(jìn)行曝光。
    的頭像 發(fā)表于 03-04 17:19 ?2951次閱讀

    光刻機(jī)結(jié)構(gòu)及IC制造工藝工作原理

    光刻機(jī)是微電子制造的關(guān)鍵設(shè)備,廣泛應(yīng)用于集成電路、平面顯示器、LED、MEMS等領(lǐng)域。在集成電路制造中,光刻機(jī)被用于制造芯片上的電路圖案。
    發(fā)表于 01-29 09:37 ?1944次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>結(jié)構(gòu)及IC制造工藝工作原理

    荷蘭政府撤銷ASML光刻機(jī)出口許可 中方回應(yīng)美停止對(duì)華供光刻機(jī)

    在10-11月份中國進(jìn)口ASML的光刻機(jī)激增10多倍后,美國官員聯(lián)系了荷蘭政府。荷蘭外交發(fā)言人表示,出口許可證是根據(jù)荷蘭國家安全逐案評(píng)估的。
    的頭像 發(fā)表于 01-03 15:22 ?953次閱讀

    英特爾搶下6種ASML HIGH NA光刻機(jī)

    如果我們假設(shè)光刻機(jī)成本為 3.5 億至 4 億美元,并且 2024 年 10 個(gè)光刻機(jī)的HIGH NA 銷售額將在 35億至40億美元之間。
    的頭像 發(fā)表于 12-28 11:31 ?738次閱讀