據(jù)媒體報(bào)道,光刻機(jī)巨頭ASML(阿斯麥)日前宣布,將在中國(guó)臺(tái)灣的南部科學(xué)園區(qū)建立自己在海外(荷蘭之外)的首個(gè)培訓(xùn)中心,旨在就近輔導(dǎo)臺(tái)積電所領(lǐng)導(dǎo)EUV光刻制造集群。
所謂EUV即極紫外光刻,目前全球有且只有ASML可以生產(chǎn)相關(guān)機(jī)器。光刻是半導(dǎo)體芯片制造中最費(fèi)時(shí)間也是最費(fèi)成本的環(huán)節(jié)之一,而且它決定了芯片的工藝水平,常說(shuō)的XXnm工藝主要是看光刻機(jī)水平。
臺(tái)積電的第一代7nm因?yàn)橼s進(jìn)度,沒(méi)有使用EUV,而是DUV(深紫外光刻),不過(guò)隨著7nm的改良以及5nm量產(chǎn)、3nm風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn)的進(jìn)行,EUV開(kāi)始更多導(dǎo)入。
ASML今年二季度的財(cái)報(bào)顯示,雖然僅僅出貨了9臺(tái)光刻機(jī),但凈利潤(rùn)高達(dá)7.51億歐元。畢竟,一臺(tái)EUV光刻機(jī)的售價(jià)就達(dá)到約合10億元人民幣左右。
另外,TrendForce數(shù)據(jù)顯示,今年第一季度,臺(tái)積電營(yíng)收102億美元,是第二名三星的幾乎4倍。
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