ASML明年將發(fā)布新一代EUV光刻機(jī) 三星太子急赴荷蘭

10月15日，據(jù)國外媒體報(bào)道，目前全球頂尖的光刻機(jī)生產(chǎn)商ASML正在研發(fā)第三款EUV光刻機(jī)，并計(jì)劃于明年年中出貨。

從其所公布的信息來看，新款光刻機(jī)型號(hào)命名為TWINSCAN NXE:3600D，相比上一代產(chǎn)品，新款EUV光刻機(jī)生產(chǎn)效率將提升18%，曝光速度為30mj/cm2，每小時(shí)可處理160片晶圓。

有意思的是，在2019年的年報(bào)中，ASML便提到正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)的計(jì)劃，不過并未透露具體型號(hào)，只是披露將在2022年初計(jì)劃出貨，2024年后大規(guī)模生產(chǎn)。而此次所公布的EUV光刻機(jī)如果是2019年財(cái)報(bào)中提到的那款，那么這款光刻機(jī)發(fā)布的計(jì)劃意味著已經(jīng)提前了。

據(jù)ASML公布的2020年第三季度財(cái)報(bào)來看，第三季度銷售額為40億歐元，凈利潤11億歐元，毛利率為47.5%，凈利潤為27.5%，新增訂單為29億歐元，其中有5.95億歐元來自4臺(tái)EUV設(shè)備，平均售價(jià)為1.48億歐元。

EUV光刻機(jī)是當(dāng)前7nm工藝以下必不可少的設(shè)備，全球僅有ASML能夠供應(yīng)，且僅有臺(tái)積電和三星掌握了7nm制程以下的芯片制作。

當(dāng)前ASML所售出的兩款EUV光刻機(jī)型號(hào)分別為TWINSCAN NXE:3400B和TWINSCAN NXE:3400C，均采用13.5nm極紫外光源，曝光速度為20mj/cm2，每小時(shí)處理125片晶圓。

有意思的是，作為與臺(tái)積電激烈競爭的三星，近日被韓媒報(bào)道稱，三星電子副會(huì)長李在镕證實(shí)，已經(jīng)正在與ASML進(jìn)行談判，以推進(jìn)與ASML的業(yè)務(wù)關(guān)系。

而幾個(gè)月之前，三星便已經(jīng)宣布，正在致力于開發(fā)EUV掃描技術(shù)，此次三星太子李在镕前往荷蘭ASML，也是為了探討如何發(fā)展EUV技術(shù)。游俠西城，李在镕參觀了EUV設(shè)備的生產(chǎn)線。

顯然，從目前來看，三星已經(jīng)提前介入了下一代EUV技術(shù)的爭奪當(dāng)中，面對三星的出招，臺(tái)積電方面又會(huì)如何應(yīng)對呢？

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