AMSL宣布：無(wú)須美國(guó)許可同意可向中國(guó)供貨DUV光刻機(jī)，但EUV受限

光刻機(jī)，在整個(gè)芯片生產(chǎn)制造環(huán)節(jié)，是最最最核心的設(shè)備，技術(shù)難度極高。

在全球光刻機(jī)市場(chǎng)，日本的尼康、佳能，和荷蘭的ASML，就占據(jù)了市場(chǎng)90%以上份額。而最高級(jí)的EUV（極紫外光）技術(shù)，則更是只有荷蘭的ASML一家可以掌握。

現(xiàn)在，一個(gè)難得的好消息是，光刻機(jī)可以進(jìn)口了，并且美國(guó)無(wú)需限制。

而這個(gè)底氣是半導(dǎo)體巨頭、全球光刻機(jī)領(lǐng)頭企業(yè)荷蘭的阿斯麥爾（ASML）給中國(guó)的。

10月14日，ASML首席財(cái)務(wù)官羅杰·達(dá)森（Roger Dassen），對(duì)向中國(guó)出口光刻機(jī)的問(wèn)題作出了表態(tài)。他表示：

ASML可以從荷蘭向中國(guó)出口DUV（深紫外）光刻機(jī)，無(wú)需美國(guó)許可。

這無(wú)疑給了中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)新的希望。

但別高興太早。

ASML方面也提到：

如果相關(guān)系統(tǒng)或零件是從美國(guó)出口的，那這些設(shè)備仍然需要得到美方的許可。

此外，從ASML的表態(tài)中也可得知，除了允許進(jìn)口DUV光刻機(jī)外，并未提到更先進(jìn)的EUV（極紫外）光刻機(jī)。

盡管如此，這對(duì)于中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)來(lái)說(shuō)都是一件極大的幸事了。

ASML為什么不懼美國(guó)禁令？

ASML為什么有底氣進(jìn)口DUV光刻機(jī)給中國(guó)？

RogerDassen解釋說(shuō)：

“如果要解釋一下美國(guó)的規(guī)定對(duì)ASML有什么影響的話，對(duì)于的中國(guó)客戶，我們還是可以直接從荷蘭向他們出口DUV光刻機(jī)，無(wú)需任何出口許可。”

也就是說(shuō)，美國(guó)僅僅是限制了美國(guó)不能給中國(guó)出口芯片、光刻機(jī)等，但并沒(méi)有限制其他國(guó)家對(duì)中國(guó)進(jìn)口，荷蘭并不在美國(guó)的禁令范圍內(nèi)。

但如果相關(guān)系統(tǒng)或零件是從美國(guó)出口的，這就另當(dāng)別論了。

同時(shí)他也表示ASML將盡最大努力，盡可能為所有客戶繼續(xù)提供服務(wù)和支持。

值得注意的是，當(dāng)天也是ASML發(fā)布新一季度財(cái)報(bào)的日子，我們從其財(cái)報(bào)中也看到了ASML出口光刻機(jī)的一些原因。

ASML第三季度財(cái)報(bào)顯示，ASML當(dāng)季總共銷售60部光刻系統(tǒng)，凈銷售額為40億歐元，凈收入11億歐元，毛利率達(dá)到了47.5%，營(yíng)收攀升至39.58億歐元，其中，中國(guó)占據(jù)21%的份額。

前九個(gè)月銷售業(yè)績(jī)高達(dá)97.24億歐元（約合人民幣770億元），同比大增近25%。其中，來(lái)自高端EUV光刻機(jī)的收入占比達(dá)到了總收入的66％。

此外，ASML還十分看好中國(guó)市場(chǎng)。海關(guān)總署數(shù)據(jù)顯示，今年1-8月，我國(guó)累計(jì)進(jìn)口了3334.6億美元的集成電路，同比大增22.5%。

據(jù)南方新聞網(wǎng)報(bào)道，在9月17日的中國(guó)集成電路制造年會(huì)上，ASML全球副總裁、中國(guó)區(qū)總裁沈波透露，截至當(dāng)前，中國(guó)已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了700多臺(tái)ASML光刻機(jī)的裝機(jī)，幾乎所有芯片生產(chǎn)商都購(gòu)買(mǎi)過(guò)該公司的服務(wù)。

中國(guó)對(duì)于ASML來(lái)說(shuō)實(shí)在是一個(gè)大市場(chǎng)。

而ASML也一直對(duì)中國(guó)市場(chǎng)有擴(kuò)張野心。

在第23屆中國(guó)集成電路制造年會(huì)（CICD2020）暨廣東集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展論壇上，ASML全球副總裁、中國(guó)區(qū)總裁沈波就表示：

ASML在中國(guó)大陸成立第一個(gè)辦公室迄今已有20年，從第一臺(tái)光刻機(jī)開(kāi)始，就是中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)的親歷者、見(jiàn)證者、和推動(dòng)者。未來(lái)，ASML還將持續(xù)投入、擴(kuò)大布局、培養(yǎng)人才，攜手行業(yè)伙伴，和中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)實(shí)現(xiàn)共同發(fā)展。

此外，資料顯示，2000年，ASML在中國(guó)天津正式成立大陸地區(qū)的第一個(gè)辦公室，迄今為止在中國(guó)大陸12個(gè)城市有辦事處或分支機(jī)構(gòu)，分別為天津、上海、北京、無(wú)錫、武漢、西安、大連、南京、廈門(mén)（晉江）、合肥、深圳、廣州。

可以說(shuō)從一線城市到二三線城市都有ASML的布局。在中國(guó)受美方的打壓下，ASML卻在加速中國(guó)市場(chǎng)的布局。

這又是一個(gè)值得思考的問(wèn)題。

網(wǎng)友：進(jìn)口DUV光刻機(jī)沒(méi)用，真正卡脖子的是EUV

聽(tīng)聞這一消息，網(wǎng)友也紛紛表態(tài)。

在他們看來(lái)，中國(guó)真正需要的是EUV光刻機(jī)，ASML這一做法并不能解燃眉之急，當(dāng)務(wù)之急還是要自力更生。

為什么這么說(shuō)呢？

我們先來(lái)看下DUV和EUV之間的區(qū)別。

目前的光刻機(jī)主要分為EUV光刻機(jī)和DUV光刻機(jī)。

DUV光刻機(jī)，分為干分式與液浸式兩種。其中，液浸式于ASML手中誕生，其波長(zhǎng)雖然有193nm，但等效為134nm，經(jīng)過(guò)多重曝光后，液浸式光刻機(jī)也能夠達(dá)到7nm工藝。但是，每多一次曝光都會(huì)使得制造成本大大提升，而且良品率也難以控制。

而EUV光刻機(jī)采用13.5nm波長(zhǎng)的光源，是突破10nm芯片制程節(jié)點(diǎn)必不可少的工具。也就是說(shuō)，就算DUV（深紫外線）光刻機(jī)能從尼康、佳能那里找到替代，但如果沒(méi)有ASML的EUV光刻機(jī)，芯片巨頭臺(tái)積電、三星、英特爾的5nm產(chǎn)線就無(wú)法投產(chǎn)。

EUV的重要性可想而知。

事實(shí)上，早在今年3月，中芯國(guó)際就向ASML購(gòu)買(mǎi)了一臺(tái)大型光刻機(jī)，外界傳言為EUV，但中芯國(guó)際也在此后證實(shí)并非外界傳言的極紫外光刻機(jī)。

這也進(jìn)一步證明了EUV的重要性。

國(guó)內(nèi)光刻機(jī)困境

那么，國(guó)內(nèi)光刻機(jī)的發(fā)展現(xiàn)狀如何呢？

根據(jù)百度百科的解釋，一臺(tái)光刻機(jī)由上萬(wàn)個(gè)部件組成，有人形容稱這是一種集合了數(shù)學(xué)、光學(xué)、流體力學(xué)、高分子物理與化學(xué)、表面物理與化學(xué)、精密儀器、機(jī)械、自動(dòng)化、軟件、圖像識(shí)別領(lǐng)域頂尖技術(shù)的產(chǎn)物。

而一臺(tái)光刻機(jī)的售價(jià)從數(shù)千萬(wàn)美元高至過(guò)億美元，可見(jiàn)光刻機(jī)的重要性。

在全球范圍內(nèi)，光刻機(jī)市場(chǎng)幾乎被3家廠商瓜分：荷蘭的阿斯麥（ASML）、日本的尼康（Nikon）和佳能（Canon）。

在這3家中，ASML又是當(dāng)之無(wú)愧的一哥。據(jù)中銀國(guó)際報(bào)告，阿斯麥全球市場(chǎng)市占率高達(dá)89%，其余兩家的份額分別是8%和3%，加起來(lái)僅有11%。在EUV光刻機(jī)市場(chǎng)中，ASML的市占率則是100%。

而中國(guó)對(duì)于光刻機(jī)的制造幾乎還在起步階段。

目前，中國(guó)芯片制造方面頂尖的中芯國(guó)際只有28納米的生產(chǎn)工藝，14納米工藝才剛剛開(kāi)始量產(chǎn)，且中國(guó)芯片制造只能占到世界7.3%的份額。

但近年來(lái)，國(guó)家加大了對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)的投入。

2019年4月，武漢光電國(guó)家研究中心甘棕松團(tuán)隊(duì)，采用二束激光，在自研的光刻膠上，突破光束衍射極限的限制，并使用遠(yuǎn)場(chǎng)光學(xué)的辦法，光刻出最小9nm線寬的線段。

2020年初，中科院對(duì)外宣稱已經(jīng)攻克了2nm工藝的難題，相關(guān)研究成果已經(jīng)發(fā)布到國(guó)際微電子器件領(lǐng)域的期刊當(dāng)中。

5月19日，上海微電子裝備（集團(tuán)）股份有限公司稱，其自研的高亮度LED步進(jìn)投影光刻機(jī)，是中國(guó)首臺(tái)面向6英寸以下中小基底先進(jìn)光刻應(yīng)用領(lǐng)域的光刻機(jī)產(chǎn)品，已從1200多個(gè)申報(bào)項(xiàng)目中成功突圍，入選“上海設(shè)計(jì)100+”。

10月15日，南京集成電路產(chǎn)業(yè)服務(wù)中心副總經(jīng)理呂會(huì)軍向媒體證實(shí)中國(guó)將建立一所南京集成電路大學(xué)，專門(mén)培養(yǎng)實(shí)踐型芯片研發(fā)人才，以加速芯片的國(guó)產(chǎn)化。

誠(chéng)然，中國(guó)在光刻機(jī)這條路上還有很長(zhǎng)的路要走，但在經(jīng)歷了卡脖子的困境后，相信中國(guó)企業(yè)已經(jīng)意識(shí)到自主研發(fā)的重要性，而美國(guó)長(zhǎng)期的封鎖和打壓只會(huì)激發(fā)中國(guó)放棄僥幸，集中力量，讓核心科技硬起來(lái)。

同時(shí)，對(duì)于國(guó)內(nèi)的光刻企業(yè)還要給予耐心，不能急功近利。
責(zé)編AJX