一文詳解光刻機(jī)技術(shù)

最近光刻機(jī)十分火，我們經(jīng)常聽到別人說7納米光刻機(jī)、5納米光刻機(jī)，但其實嚴(yán)格意義上來說并不存在7納米光刻機(jī)，5納米光刻機(jī)，我為什么會這樣說呢？

首先我們要搞清楚什么是光刻機(jī)，光刻技術(shù)就是利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過具有圖形的光罩，對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上的圖形復(fù)印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用。

簡單來說，光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區(qū)造出來，類似于投影儀，不過光刻投的不是照片，而是電路圖和其他電子元，光刻質(zhì)量直接決定了芯片是否可用，在這里最核心的就是光源了。一切光刻機(jī)的核心零件都是圍繞光源來發(fā)展的，所以根據(jù)光源的改進(jìn)，光刻機(jī)一共可以分為五代，分別是最早的336納米光刻機(jī)、第二代是365納米波長的光刻機(jī)、第三代是248納米的、第四代是193納米的、第五代則是13.5納米波長的EUV光刻機(jī)。

什么是雙工作臺呢？一個工作臺進(jìn)行曝光晶圓片，同時在另外一個工作臺進(jìn)行預(yù)對準(zhǔn)工作。兩個工作臺相互獨(dú)立，同時運(yùn)行，生產(chǎn)效率可以提高大約35%，精度提高10%以上。

目前，中國已經(jīng)能夠量產(chǎn)第四代掃描投影式光刻機(jī)，如果使用套刻精度在1.9納米左右的工作臺，在多重曝光下能夠?qū)崿F(xiàn)11納米制程工藝的芯片生產(chǎn)；如果改用套刻精度更優(yōu)的1.7納米國產(chǎn)華卓精科工作臺在多重曝光下，更是能夠?qū)崿F(xiàn)7納米制程工藝的芯片生產(chǎn)，所以準(zhǔn)確來說，7納米光刻機(jī)、5納米光刻機(jī)這樣的說法是不準(zhǔn)確的，正確來說應(yīng)該是7納米工藝、5納米工藝，所以不要覺得90納米到7納米之間的路程非常漫長，光源的遞進(jìn)所帶來的變革會是革命性的，中國芯片產(chǎn)業(yè)的主要問題，并不是因為光刻機(jī)，而是在于沒有形成完整的產(chǎn)業(yè)鏈，這需要許多的中國芯片產(chǎn)業(yè)多方面的突破發(fā)展。

前進(jìn)的路很難很漫長，唯有堅持，才能創(chuàng)造歷史。
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