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基于標準200mm Si平臺的顛覆性3D LED技術

電子設計 ? 來源:powerelectronicsnews ? 作者:RémiComyn ? 2021-03-30 16:37 ? 次閱讀

Aledia于2011年從Cea-Leti剝離出來,開發(fā)了一種基于標準200mm Si平臺的顛覆性3DLED技術,與傳統(tǒng)的2DLED技術相比,這將降低每片芯片的成本。今年初,這家初創(chuàng)公司宣布了其計劃在法國格勒諾布爾地區(qū)建立第一家制造工廠的計劃,以應對估計價值約1200億美元的市場,該市場涉及用于計算機,平板電腦智能手機和AR眼鏡的顯示器。Aledia計劃到2022年開始大規(guī)模生產(chǎn)微型顯示器。

Aledia與Cea-Leti聯(lián)合開發(fā)了基于在大面積Si襯底上生長的GaN納米線的3D LED的制造工藝,自2012年以來已申請了100多個專利家族(在多個國家/地區(qū)提交了一項發(fā)明),將超過全球共有440項專利和正在申請的專利?!坝腥さ氖牵M管在亞洲(中國:19個,日本: 10,韓國:4;臺灣:4),” Knowmade技術與專利分析師復合半導體電子學博士Remi Comyn說道?!敝匾氖?,有29個專利家族尚未獲得授權成員。Remi Comyn補充說,其中大部分是最近三年提交的與顯示應用相關的發(fā)明(21)。

截至2020年9月,Aledia擁有58個專注于納米線LED的專利系列(圖2a)。該初創(chuàng)公司首先將住宅照明和汽車照明視為其新穎技術的最有前途的市場,從而解釋了宜家和法雷奧等公司在其投資者中的存在。然而,這家法國初創(chuàng)公司最終決定以顯示應用為目標,這轉化為Aledia產(chǎn)品組合中與顯示相關的40多個專利家族,最近三年提交了30多項專利申請(例如,EP3479401,圖1)。在Nanowire LED專利領域,三星和glō等幾家公司也遵循著類似的趨勢。因此,

圖1:(Aledia的專利EP3479408)具有改善了對比度和亮度的像素的三維LED器件。每個發(fā)光二極管包括至少一根導線,圓錐形或截頭圓錐形的半導體元件,在其側面的頂部和/或至少部分側面上被外殼集成或覆蓋,該外殼包括至少一個設計為提供大部分輻射的有源層來自發(fā)光二極管。該專利剛剛在歐洲(2020年8月)授予Aledia,并且在美國,中國,日本和韓國仍在申請中。

圖2:(a)Aledia在納米線LED專利領域的主要競爭對手,(b)在納米線LED專利領域的出版物時間表

Aledia邁向顯示應用的戰(zhàn)略舉措的另一個組成部分是,英特爾于2018年加入了投資者行列。與此同時,Knowmade將這家美國公司確定為Nanowire LED專利領域的新進入者(圖1),相對而言類似于Aledia的方法(圖3),并且重點關注Micro-LED顯示器(圖2a)?!坝⑻貭栒诨谠赟i基板上組裝包括GaN納米線在內的納米線的方式,開發(fā)用于micro-LED結構和顯示器的制造方法,” Remi Comyn解釋說。實際上,Knowmade已在納米線LED專利領域確定了英特爾的19項發(fā)明,其中大部分是在美國提交的。截至2020年9月,英特爾已授予5項美國專利。

圖3 :(英特爾的美國專利10,439,101)由英特爾開發(fā)的Micro-LED顯示器,包括三種不同顏色的納米線LED,特別是包括例如在Si襯底上方的GaN納米線的紅色發(fā)光二極管結構(610-630 nm),以及在0.2鎵0.8上的GaN納米線?殼層,In0.4鎵0.6N個活動層和InGaN有源層上的包覆層,上述包覆層,其包括p型GaN或p型的ZnO。該專利已在美國獲得授權,并在中國和日本仍在申請中。

2020年,Knowmade對“硅上氮化鎵專利態(tài)勢”進行了調查,其中Aledia擁有30個專利家族?!肮枭系墝@I域中的Aledia發(fā)明主要與納米線發(fā)射器的大量增長,高度的精確度和可控性有關,”確認雷米·科姆恩(Remi Comyn)。其他發(fā)明涉及在GaN納米結構上制造電觸頭(US9991342,US10340138),以及器件制造問題(例如,干法蝕刻US20190172970),去除有缺陷的納米線(US9299882),LED與諸如晶體管等器件的單片集成,以控制晶體管的制造。納米線LED(US10050080)或檢測LED溫度(US20160197064)。另外,最近在硅上氮化鎵材料中已經(jīng)發(fā)現(xiàn)了越來越多的與顯示相關的發(fā)明(例如,US10734442,圖4)。

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圖4:(Aledia的專利US 10,734,442)本發(fā)明提出了一種基于納米線或基于微線的LED結構,該結構能夠減少相鄰子像素之間的串擾,增強對比度并制造橫向尺寸小于15 μm的子像素。該發(fā)明已在法國(2019年)和美國(2020年8月)授予Aledia,但在中國,日本,韓國和臺灣仍在申請中。

此外,Aledia可以依靠其研發(fā)合作伙伴Cea-Leti的其他專利,Cea-Leti在納米線LED和光電子學中的GaN-on-Silicon方面已廣為人知。該研究所擁有與納米線LED相關的50個專利家族,在美國(40+),歐洲(30+),中國(15)和日本(15)授予170多項專利。有趣的是,至少有5項發(fā)明集中在顯示器上(例如US8890111)。同樣,這些發(fā)明中有19項屬于光電子學領域的硅上氮化鎵,其中Cea是公認的參與者(30多項發(fā)明)。總體而言,在其自身的專利和與合作伙伴的IP協(xié)議之間,Aledia受益于170多個專利家族的強大專利組合,以保護其技術的商業(yè)化??傊?,研發(fā)方面的主要努力 。

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