ASML DUV光刻機亮相，讓邊緣定位精度不斷提高

正在進行的第三屆進博會上，***巨頭ASML也參展了，并且還在自己的展臺上曬出展示了DUV***。

據(jù)悉，ASML之所以沒有展示新的EUV***，主要是因為他們目前仍不能向中國出口EUV***，而此次展示的DUV***可生產(chǎn)7nm及以上制程芯片。

ASML此次也帶來了其整體光刻解決方案，包括先進控制能力的***臺計算光刻和測量通過建模、仿真、分析等技術，讓邊緣定位精度不斷提高。

在這之前，ASML CFO Roger Dassen在財報會議的視頻采訪中談到了與中芯國際等中國客戶的業(yè)務情況，其表示一些情況下，出口***是不需要許可證的。

Roger Dassen指出，ASML了解美國當局目前的規(guī)章制度及其解釋，當然也知道這些與特定的中國客戶密切相關，但如果廣泛的來理解其規(guī)章制度對ASML的總體含義（對于特定的中國客戶），則意味著ASML將能夠從荷蘭向這些中國客戶提供DUV光刻系統(tǒng)，且無需出口許可證。

美國僅僅是限制了美國不能給中國出口芯片、***等，但并沒有限制其他國家對中國進口，荷蘭并不在美國的禁令范圍內(nèi)。

目前的***主要分為EUV***和DUV***。DUV***，分為干分式與液浸式兩種。其中，液浸式于ASML手中誕生，其波長雖然有193nm，但等效為134nm，經(jīng)過多重曝光后，液浸式***也能夠達到7nm工藝。但是，每多一次曝光都會使得制造成本大大提升，而且良品率也難以控制。

EUV***采用13．5nm波長的光源，是突破10nm芯片制程節(jié)點必不可少的工具。也就是說，就算DUV（深紫外線）***能從尼康、佳能那里找到替代，但如果沒有ASML的EUV***，芯片巨頭臺積電、三星、Intel的5nm產(chǎn)線就無法投產(chǎn)。

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