傳臺積電第二代5nm工藝表現(xiàn)超預期，性能提升到7%
臺積電今年量產(chǎn)了5nm工藝，蘋果的A14、華為麒麟9000系列都是臺積電最早的5nm工藝產(chǎn)品，明年則會有第二大5nm工藝N5P，日前有消息稱N5P工藝性能及能效都超過了預期。
根據(jù)臺積電之前的說法，5nm工藝會是他們大面積使用EUV光刻的工藝，光罩層數(shù)從7nm EUV的4層提升到14層，制造難度及成本都會提升的。
今年量產(chǎn)的是第一代5nm工藝N5，2021年還會有升級版的二代5nm工藝N5P，臺積電之前稱N5P的性能提升5%，能效提升10%。
不過日前有消息稱臺積電的N5P工藝表現(xiàn)超過預期，性能提升可提升到7%，能效提升可達到15%，超過宣稱指標。
對于今年的兩款5nm芯片，特別是最早的A14來說，雖然性能很強大，但是有一種觀點認為A14翻車了，提升不如預期，能效表現(xiàn)不太好看，iPhone 12就有過熱的問題。
如今N5P工藝表現(xiàn)超過預期，那對iPhone 13使用的A15處理器來說是個大好事了，明年希望不要在翻車了。
責編AJX
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發(fā)表于 10-16 10:57
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