ASML在光刻機(jī)領(lǐng)域幾乎是巨無霸的存在,而他們對(duì)于與中國(guó)企業(yè)合作也是非常歡迎,無奈一些關(guān)鍵細(xì)節(jié)上被美國(guó)卡死。
中國(guó)需要光刻機(jī),尤其是支持先進(jìn)制程的高端光刻機(jī),特別是 EUV (極紫外光源)光刻機(jī),不過ASML對(duì)這個(gè)機(jī)器是不放行的,主要是美國(guó)強(qiáng)制要求。
EUV光刻機(jī)是光刻機(jī)在發(fā)展過程中的第五代產(chǎn)品,由于采用了極紫外線,它的最小工業(yè)節(jié)點(diǎn)到了 22nm-7nm,可以說是世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)設(shè)備——而這種設(shè)備,只有ASML能造出來。
2018年4月,中芯國(guó)際向ASML訂購(gòu)了一臺(tái) EUV 光刻機(jī),價(jià)值1.2億美元(約合人民幣8億元),預(yù)計(jì)2019年年初交貨。后來此事被報(bào)道后,ASML回應(yīng)稱,對(duì)包括中國(guó)客戶在內(nèi)的全球客戶都一視同仁,且向中國(guó)出售EUV光刻機(jī)并沒有違反《瓦森納協(xié)定》。當(dāng)時(shí),荷蘭政府的確向 ASML 發(fā)放了出口許可證。
不過,最終這個(gè)交易也沒有形成,根據(jù)知情人士的說法,美國(guó)立即盯上了這筆交易——接下來的幾個(gè)月里,美方官員至少四次與荷蘭官員開會(huì),討論可否直接封殺這筆交易。
此后,關(guān)于 EUV 光刻機(jī)向中國(guó)出口,ASML 的官方說法一直是:公司仍在等待新許可證申請(qǐng)的批準(zhǔn)。
在這之前,ASML CFO Roger Dassen在財(cái)報(bào)會(huì)議的視頻采訪中談到了與中芯國(guó)際等中國(guó)客戶的業(yè)務(wù)情況,其表示一些情況下,出口光刻機(jī)是不需要許可證的。
Roger Dassen指出,ASML了解美國(guó)當(dāng)局目前的規(guī)章制度及其解釋,當(dāng)然也知道這些與特定的中國(guó)客戶密切相關(guān),但如果廣泛的來理解其規(guī)章制度對(duì)ASML的總體含義(對(duì)于特定的中國(guó)客戶),則意味著ASML將能夠從荷蘭向這些中國(guó)客戶提供DUV光刻系統(tǒng),且無需出口許可證。
美國(guó)僅僅是限制了美國(guó)不能給中國(guó)出口芯片、光刻機(jī)等,但并沒有限制其他國(guó)家對(duì)中國(guó)進(jìn)口,荷蘭并不在美國(guó)的禁令范圍內(nèi)。
目前的光刻機(jī)主要分為EUV光刻機(jī)和DUV光刻機(jī)。DUV光刻機(jī),分為干分式與液浸式兩種。其中,液浸式于ASML手中誕生,其波長(zhǎng)雖然有193nm,但等效為134nm,經(jīng)過多重曝光后,液浸式光刻機(jī)也能夠達(dá)到7nm工藝。但是,每多一次曝光都會(huì)使得制造成本大大提升,而且良品率也難以控制。
EUV光刻機(jī)采用13.5nm波長(zhǎng)的光源,是突破10nm芯片制程節(jié)點(diǎn)必不可少的工具。也就是說,就算DUV(深紫外線)光刻機(jī)能從尼康、佳能那里找到替代,但如果沒有ASML的EUV光刻機(jī),芯片巨頭臺(tái)積電、三星、Intel的5nm產(chǎn)線就無法投產(chǎn)。
責(zé)任編輯:PSY
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