光刻技術(shù)為中心的行業(yè)壁壘，EUV光刻機并非是是中國半導(dǎo)體行業(yè)的唯一癥結(jié)

在一顆芯片誕生的過程中，光刻是最關(guān)鍵又最復(fù)雜的一步。

說最關(guān)鍵，是因為光刻的實質(zhì)將掩膜版上的芯片電路圖轉(zhuǎn)移至硅片，化虛為實。說最復(fù)雜，是因為光刻工藝需要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕、檢測等數(shù)十道工序才得以最終完成。

正因如此，集數(shù)學(xué)、光學(xué)、物理、化學(xué)等眾多學(xué)科技術(shù)于一身的光刻機，被稱之為半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠，占據(jù)晶圓廠設(shè)備投資總額的約25%。

在中美關(guān)系緊張的大背景下，這顆“明珠”備受關(guān)注，其光環(huán)似乎已經(jīng)蓋過了其他半導(dǎo)體設(shè)備，更是有聲音認為只要擁有一臺EUV光刻機，中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的問題基本就能解決。

但事實并非如此。

以光刻技術(shù)為中心的行業(yè)壁壘

盡管將整個半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的難題歸結(jié)到一臺EUV光刻機有失偏頗，但是以光刻技術(shù)為中心衍生出的眾多難題確實是全世界范圍內(nèi)業(yè)界研究的重點，也構(gòu)建起比較高的行業(yè)壁壘。

在本月初舉行的第四屆國際先進光刻技術(shù)研討會上，來自中國、美國、德國、日本、荷蘭等世界各地眾多名企、廠商、科研機構(gòu)、高校的技術(shù)專家和學(xué)者，共同探討了光刻領(lǐng)域先進節(jié)點的最新技術(shù)手段和解決方案，解決方案涵蓋范圍之廣，包括材料、設(shè)備、工藝、測量、計算光刻和設(shè)計優(yōu)化等。

先進光刻技術(shù)解決方案涵蓋范圍之廣泛與光刻機自身屬性密切相關(guān)。如果將一臺光刻機的系統(tǒng)進行拆分，可以分為光源系統(tǒng)、掩模態(tài)系統(tǒng)、自動校準系統(tǒng)、調(diào)平調(diào)焦測量系統(tǒng)、框架減震系統(tǒng)、環(huán)境控制系統(tǒng)、掩模傳輸系統(tǒng)、投影物鏡系統(tǒng)、硅片傳輸系統(tǒng)、工作臺系統(tǒng)、整機控制系統(tǒng)、整機軟件系統(tǒng)等，這意味著如果想要讓一臺光刻機發(fā)揮出最大潛能，就需要各個系統(tǒng)保持高性能運轉(zhuǎn)。

而為光刻機提供各個系統(tǒng)組件，本身就存在一定的壁壘。

以光源系統(tǒng)為例，光源公司發(fā)展到現(xiàn)在，世界上真正賣光源系統(tǒng)的公司只剩 Cymer和Gigaphoton兩家，且前者已被光刻機巨頭公司AMSL收購。在第四屆國際光刻技術(shù)研討會會議上，來自Gigaphoton的Toshihiro Oga在同媒體交流時表示：“光源制造面臨的挑戰(zhàn)眾多，光刻機要求光源有很高的性能，例如高對比度和純凈無缺陷的成像質(zhì)量，同時也要控制成本和可靠性，這些東西往往很難互相匹配。另外從客戶的角度而言，通常光源系統(tǒng)不具有通用性，專業(yè)性強?！?/p>

Toshihiro Oga還透露，光源系統(tǒng)市場窄，但需要的投資卻很大。

雷鋒網(wǎng)了解到，Gigaphoton每年出貨的200個單元光源，其中80個用于浸沒式Arf光刻機，20個用于普通的Arf光刻機，剩余的100個用于Krf光刻機。

在光源系統(tǒng)領(lǐng)域，技術(shù)壁壘之外還面臨資金和市場的難題，因此也就不難理解為何20年前美國日本一眾的激光光源公司發(fā)展到今天僅剩兩家了。

在材料方面，廈門大學(xué)嘉庚創(chuàng)新實驗室科技總監(jiān)Mark Neisser表示，越頂尖的光刻機對材料的精度越高，但評價光刻材料沒有統(tǒng)一的標準，因為每個代工廠在制造工藝上都有自己的喜好。一款光刻材料的誕生往往經(jīng)歷客戶定義需求和標準，實驗室或材料公司選擇化學(xué)材料制作溶液進行測試，同時需要避免一些專利問題。這意味著，從某種程度而言，光刻材料不具備通用性，這又是光刻技術(shù)在發(fā)展過程中的一大難點。

被忽略的半導(dǎo)體設(shè)備

在全球的光刻機公司中，ASML、Nikon和Canon長期位列前三，其中ASML憑借上游供應(yīng)商的頂尖技術(shù)和下游廠商的巨額投資，出貨量位居世界第一，同時以“全球唯一能生產(chǎn)EUV光刻機”被大眾熟知。

通過上文的剖析，已經(jīng)足以理解光刻技術(shù)行業(yè)壁壘之高，而一臺光刻機尤其是頂尖光刻機的誕生，需要的是全球產(chǎn)業(yè)鏈的協(xié)作，僅憑一國之力難以造出。

事實上，目前需要用到EUV光刻機這樣頂尖工藝的地方只占據(jù)芯片制造的一小部分，例如消費電子所需要的7nm、5nm工藝芯片。光刻機是芯片制造的關(guān)鍵，但從整個產(chǎn)業(yè)鏈的角度來說，并非是非EUV光刻機不可。

或許除了EUV光刻機，包括刻蝕機、薄膜設(shè)備、測試設(shè)備、清洗設(shè)備在內(nèi)的這些在常用制程中都會用到的半導(dǎo)體設(shè)備同樣值得關(guān)注。

尤其是隨著晶體管工藝制程的推進，經(jīng)曝光后的晶體管結(jié)構(gòu)尺寸較大，沉積和刻蝕在制造FinFET 鰭式場效應(yīng)管中愈發(fā)重要。2017年，刻蝕機就取代光刻機的位置成為了晶圓加工廠投資最多的設(shè)備。

那么在其他半導(dǎo)體設(shè)備上，我國表現(xiàn)如何呢？

2016年9月主要制造涂膠顯影設(shè)備和清洗機的半導(dǎo)體設(shè)備制造商沈陽芯源微電子成功出廠第500臺設(shè)備，成為國內(nèi)新興半導(dǎo)體設(shè)備制造廠家中首家邁過500臺設(shè)備出廠門檻的企業(yè)，創(chuàng)下里程碑式的發(fā)展。此后，沈陽芯源作為國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備的代表也一直備受關(guān)注。

2019年12月，沈陽芯源成為第一批上市科創(chuàng)板的公司之一，且在該公司的最新官方報道中，第900臺設(shè)備于10月30日成功出廠，2020年3季度公司凈利潤2268.61萬元，同比增長4761%。

在第四屆國際光刻技術(shù)研討會期間，芯源微前道事業(yè)部總經(jīng)理謝永剛給出了可供國內(nèi)其他半導(dǎo)體設(shè)備廠商參考的經(jīng)驗，他表示：“國內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備普遍起步晚、發(fā)展晚，因此需要經(jīng)歷相對漫長的探索過程，在探索的過程首先需要定位清晰，然后需要抓住合適的時機切入，最重要的是獲得客戶的認同感，這需要良好的工藝能力、設(shè)備的穩(wěn)定性、品質(zhì)控管體系以及值得信任的售后服務(wù)?！?/p>

同時，芯源公司也表示，芯源的競爭對手是世界級廠商，目前在頂尖技術(shù)的發(fā)展上已經(jīng)引入了一些技術(shù)專家，正在努力追趕當中。

設(shè)備之外，還有對基本原理和極限的理解不足

不過，無論是光刻機設(shè)備，還是其他半導(dǎo)體設(shè)備，都只不過是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的其中一環(huán)，解決了設(shè)備問題，可能還需要解決設(shè)備維護、材料、人才等方面的問題。

中國光學(xué)學(xué)會秘書長、浙江大學(xué)教授、現(xiàn)代光學(xué)儀器國家重點實驗室主任劉旭在第四屆國際光刻技術(shù)研討會上就表示：“中國半導(dǎo)體的發(fā)展不是一個簡單的問題，不要把一個很復(fù)雜的全行業(yè)問題變成只有一個局部點上的問題，重要的問題不等于唯一的問題?！?/p>

此外，對于中國半導(dǎo)體行業(yè)與其他先進國家的差距，劉旭教授還認為：“一些器件的設(shè)計和制造，非?？简灮A(chǔ)工業(yè)實力，很多時候基于同樣的原理，別人能做好，我們做不好，實質(zhì)上是我們?nèi)狈A(chǔ)的理解和對材料極限特性的理解。”

同時，對于是否應(yīng)該建立中國自己的半導(dǎo)體行業(yè)體系，劉旭教授表示，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)建設(shè)不應(yīng)該一擁而上，而應(yīng)該找到合適的技術(shù)、合適的人在合適的時間去做這件事，之后國家才有可能將其湊成一條線，目前半導(dǎo)體行業(yè)的熱不一定是一件是好事，很可能造成資源的浪費，需要警惕一些利益團隊借此機會掠奪社會資源。

小結(jié)

近一兩年來，半導(dǎo)體行業(yè)火熱，以EUV光刻機為代表的關(guān)鍵技術(shù)備受社會關(guān)注，有聲音認為只要我們能夠自己制造出一臺EUV光刻機，國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展問題就基本解決，但事實并非如此。EUV光刻機只不過是中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展路上需要解決的問題的一個縮影，重要的，但絕非唯一的問題。

責(zé)任編輯：PSY