為何只有荷蘭ASML才能制造頂尖EUV光刻機設(shè)備?

自從芯片工藝進入到7nm工藝時代以后，需要用到一臺頂尖的EUV光刻機設(shè)備，才可以制造7nm EUV、5nm等先進制程工藝的芯片產(chǎn)品，但就在近日，又有外媒豪言：這種頂尖的EUV極紫外光刻機，目前全球只有荷蘭光刻機巨頭ASML能造，對此也有很多網(wǎng)友們感覺到非常疑惑，為何只有荷蘭ASML可以造頂尖EUV光刻機設(shè)備呢？像我國的上海微電子、日本的索尼、佳能都造不出來嗎？

從目前頂尖的EUV極紫外光刻機設(shè)備，采用是極紫外線，波長為13.5納米，要知道在目前可見光中的紫光波長最短也只有380-450納米，所以想要獲得13.5納米的“極紫外線”，就需要經(jīng)過特殊工藝處理，而ASML公司的做法就是，直接將高純度的錫加熱到熔化，然后再噴射到真空中直接形成錫珠，然后再通過激光照射這些錫珠，讓錫珠變成粉餅狀，然后還需要用到高功率的二氧化碳激光照射去照射這些“粉餅”，才可以釋放出極波長為13.5納米的紫外線，但就是這樣一套極紫外線生成的解決方案，都有多家公司提供合成，例如ASML公司只提供了錫珠噴射方案，而高功率二氧化碳激光方案等整體方案則由德國的TRUMPF公司提供。

看到這里，或許很多網(wǎng)友們會說：“有了極紫外線不就可以生產(chǎn)芯片了嗎？” 但實際上還需要對這些產(chǎn)生的極紫外線進行下一步處理，讓這些從隨機向四面發(fā)射極紫外線收集起來，轉(zhuǎn)變?yōu)榉较蛞恢碌臉O紫外線，而這里又需要使用到布拉格反射器，直接將向四面發(fā)射的極紫外光源集合起來，匯聚成一束強的光線用于芯片光刻，而在這種布拉格反射器又是由卡爾蔡司（Zeiss SMT）所提供，在全球范圍內(nèi)，還沒有找到超越卡爾蔡司（Zeiss SMT）第二家公司。

可以說一整臺EUV極紫外光刻機設(shè)備中，擁有高達3萬多個零部件，他們都來自于全球各國的頂尖技術(shù)或者是設(shè)備，當然即便是你購買到了ASML公司的極紫外光刻機，如果沒有ASML公司的幫助，你也無法正常安裝使用，因為EUV極紫外光刻機設(shè)備需要在一個清潔度非常高的車間中，完成整個光刻機設(shè)備的安裝調(diào)試，才能夠達到7nm EUV、5nm工藝芯片工藝的精度，看到這里，也就不難理解， 為何只有荷蘭ASML公司能夠擁有EUV光刻機技術(shù)了吧，因為荷蘭ASML公司也是整合了全球各國頂尖的技術(shù)。
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