閂鎖(Lanch-up)效應(yīng),一般我們也可以稱之為擎住效應(yīng),是由于IGBT超安全工作區(qū)域而導(dǎo)致的電流不可控現(xiàn)象,當(dāng)然,閂鎖效應(yīng)更多的是決定于IGBT芯片本身的構(gòu)造。實(shí)際工作中我們可能很少聽到一種失效率,閂鎖失效,今天我們就來聊一聊什么是閂鎖效應(yīng)~
關(guān)于IGBT的構(gòu)造我們這里不再贅述,集MOS和BJT于一身的“男人”。一般我們認(rèn)為IGBT的理想等效電路如下圖所示:
上圖直觀地顯示了IGBT的組成,是對PNP雙極型晶體管和功率MOSFET進(jìn)行達(dá)林頓連接后形成的單片型Bi-MOS晶體管。
故在G-E之間外加正向電壓使MOS管導(dǎo)通時(shí),PNP晶體管的基極-集電極之間就連上了低電阻,從而使PNP晶體管處于導(dǎo)通狀態(tài)。此后,使G-E之間的電壓為零或者負(fù)壓時(shí),首先MOS管處于斷路狀態(tài),PNP晶體管的基極電流被切斷,從而使IGBT關(guān)斷。所以,IGBT和MOS一樣,都是電壓控制型器件。
閂鎖效應(yīng)的產(chǎn)生是在哪里?
其實(shí)IGBT的實(shí)際等效電路與上面我們講到的理想等效電路略有不同,還需要考慮其內(nèi)部寄生的電容,如下圖:
從上圖我們可以看出,實(shí)際等效電路是由可控硅和MOS構(gòu)成的。內(nèi)部存在一個(gè)寄生的可控硅,在NPN晶體管的基極和發(fā)射極之間并有一個(gè)體區(qū)擴(kuò)展電阻Rs,P型體內(nèi)的橫向空穴電流會在Rs上產(chǎn)生一定的電壓降,對于NPN基極來說,相當(dāng)于一個(gè)正向偏置電壓。在規(guī)定的集電極電流范圍內(nèi),這個(gè)正偏電壓不會很大,對于NPN晶體管起不了什么作用。當(dāng)集電極電流增大到一定程度時(shí),該正向電壓則會大到足以使NPN晶體管開通,進(jìn)而使得NPN和PNP晶體管處于飽和狀態(tài)。此時(shí),寄生晶閘管導(dǎo)通,門極則會失去其原本的控制作用,形成自鎖現(xiàn)象,這就是我們所說的閂鎖效應(yīng),也就是擎住效應(yīng),準(zhǔn)確的應(yīng)該說是靜態(tài)擎住效應(yīng)。IGBT發(fā)生擎住效應(yīng)后,集電極的電流增大,產(chǎn)生過高的功耗,從而導(dǎo)致器件失效。
動態(tài)擎住效應(yīng)主要是在器件高速關(guān)斷時(shí)電流下降太快(di/dt大),dv/dt很大,引起的較大位移電流,流過Rs,產(chǎn)生足以使NPN晶體管導(dǎo)通的正向偏置電壓,造成寄生晶閘管的自鎖。
在IGBT中,在有過電流流過時(shí),我們通過控制門極來阻斷過電流,從而進(jìn)行保護(hù)。但是,一旦可控硅觸發(fā),由于可控硅不會由于門極的阻斷信號等而進(jìn)行自動消弧,因此此時(shí)的IGBT不可能關(guān)斷,最終導(dǎo)致IGBT因過電流而損壞。
那么我們可以怎么樣來防止或者說是減小擎住效應(yīng)呢?
一般有以下幾種技術(shù):
采用難以產(chǎn)生擎住效應(yīng)的構(gòu)造,也就是減小體區(qū)擴(kuò)展電阻Rs。
通過優(yōu)化n緩沖層的厚度和摻雜來控制PNP晶體管的hFE。
通過導(dǎo)入降低壽命的手段來控制PNP晶體管的hFE。
所以,關(guān)于IGBT的實(shí)際應(yīng)用,我們是不允許其超安全工作區(qū)域的,針對這個(gè),我們采用了很多保護(hù)手段。所以,每個(gè)元器件,有的時(shí)候我們考慮的只是我們需要觀察的,但是其背后的故事則會告訴我們,為什么我們應(yīng)該這樣去考量。
從原材料到成品IGBT,這個(gè)過程經(jīng)歷了太多環(huán)節(jié),每個(gè)環(huán)節(jié)都很重要,這才有了滿足我們需求的各類元器件。
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