日本光刻機(jī)巨頭尼康為何會走向沒落?

中銀證券最新報(bào)告中的數(shù)據(jù)顯示，2020年全球光刻機(jī)銷量達(dá)到413臺，同比增長15%，其中荷蘭ASML公司占比62%，出貨量達(dá)到258臺，銷售額占比達(dá)到91%。

由此不難看出，荷蘭ASML公司在全球光刻機(jī)領(lǐng)域基本形成壟斷。

在ASML的強(qiáng)勢崛起下，日本光刻機(jī)巨頭尼康逐漸沒落，在2020年，尼康共售出33臺，占比8%，甚至不及ASML的零頭。

倘若按銷售額來計(jì)算，日本尼康的占比為6%，雖然超過佳能的3%，但與ASML公司仍然存在較大的差距。

值得一提的是，多年前，尼康在光刻機(jī)領(lǐng)域也曾獨(dú)自為王，而就在尼康春風(fēng)得意時(shí)，荷蘭ASML才剛剛誕生。

80年代，日本光刻機(jī)還處于碾壓美國的階段，就連IBM、AMD、英特爾等大客戶，都排隊(duì)搶購尼康的光刻機(jī)設(shè)備，巔峰時(shí)期尼康占領(lǐng)超50%的市場份額。

彼時(shí)，尼康在光刻機(jī)領(lǐng)域可謂是只手遮天，而飛利浦則與一家名叫ASM International的荷蘭小公司合作，共同成立合資公司，也就是后來的ASML。

數(shù)據(jù)顯示，在2000年前之前的整個(gè)16年間，ASML占據(jù)的份額不超過10%，而尼康霸占了大部分市場。

那么，ASML是如何成功翻身，昔日的日本光刻機(jī)巨頭尼康，又為何會走向沒落呢？認(rèn)為，轉(zhuǎn)折點(diǎn)始于157nm光源干刻法與193nm光源濕刻法的技術(shù)之爭。

據(jù)悉，上世紀(jì)90年代，光刻機(jī)的光源波長被卡死在193nm，如何突破成為了擺在全產(chǎn)業(yè)面前的一道難關(guān)。

時(shí)任臺積電研發(fā)副總經(jīng)理的林本堅(jiān)提出了“浸入式光刻技術(shù)”，不僅能節(jié)省半導(dǎo)體廠商的研發(fā)投入，還能減少芯片廠商的導(dǎo)入成本。

但這一方案卻遭到美國、德國、日本等大廠的拒絕，這其中也包括尼康，只有ASML決定一試。

2004年，ASML與臺積電共同研發(fā)成功全球第一臺浸潤式微影機(jī)，與此同時(shí)尼康也成功研制出采用干式微影技術(shù)的157nm產(chǎn)品和電子束投射（EPL）產(chǎn)品樣機(jī)。

但是，因?yàn)槟峥档漠a(chǎn)品比ASML的研發(fā)應(yīng)用成本高，效果卻遜色一些，更多廠商選擇ASML產(chǎn)品，尼康的潰敗由此開始。

到了2009年，ASML公司在市場上已經(jīng)拿下70%的份額，而尼康則逐漸走向了沒落，后來在EUV光刻機(jī)研發(fā)中，尼康被美國直接排除在外，導(dǎo)致其再無與ASML競爭的能力。

昔日行業(yè)老大變成小弟，尼康的經(jīng)歷著實(shí)令人唏噓。
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