隨著半導體工藝進入10nm節(jié)點以下,EUV光刻機成為制高點,之前臺積電搶購了全球多數(shù)的EUV光刻機,率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝,現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場了,SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機。
據(jù)報道,SK海力士與ASML公司簽訂了一個超級大單,未來5年內(nèi)將斥資4.8萬億韓元,約合43.4億美元購買EUV光刻機。
SK海力士在一份監(jiān)管文件中稱,這筆交易是為了實現(xiàn)下一代工藝芯片量產(chǎn)的目標。
ASML及SK海力士都沒有透露這么多資金到底購買了多少臺EUV光刻機,不過從之前均價1億歐元的數(shù)據(jù)來看,SK海力士這次購買的EUV光刻機大約是40臺。
如果扣除配套的服務費用,那么總數(shù)量也有可能在30-35臺左右,依然不可小覷,畢竟ASML的EUV光刻機去年的銷量也不過31臺。
從各方面的數(shù)據(jù)來看,SK海力士未來幾年中也會是ASML的EUV大客戶。
此外,SK海力士是全球第二大內(nèi)存芯片廠商,這次購買的EUV光刻機主要也是用于新一代內(nèi)存顆粒,此前消息稱SK海力士今年下半年在利川廠區(qū)M16采用EUV光刻機生產(chǎn)第四代(1a nm)DRAM產(chǎn)品。
對內(nèi)存來說,它跟CPU邏輯工藝一樣面臨著需要微縮的問題,EUV光刻機可以減少多重曝光工藝,提供工藝精度,從而可以減少生產(chǎn)時間、降低成本,并提高性能。
責任編輯:PSY
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