隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)以下,EUV光刻機(jī)成為制高點(diǎn),之前臺(tái)積電搶購(gòu)了全球多數(shù)的EUV光刻機(jī),率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝,現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場(chǎng)了,SK海力士豪擲4.8萬(wàn)億韓元搶購(gòu)EUV光刻機(jī)。
據(jù)報(bào)道,SK海力士與ASML公司簽訂了一個(gè)超級(jí)大單,未來(lái)5年內(nèi)將斥資4.8萬(wàn)億韓元,約合43.4億美元購(gòu)買EUV光刻機(jī)。
SK海力士在一份監(jiān)管文件中稱,這筆交易是為了實(shí)現(xiàn)下一代工藝芯片量產(chǎn)的目標(biāo)。
ASML及SK海力士都沒(méi)有透露這么多資金到底購(gòu)買了多少臺(tái)EUV光刻機(jī),不過(guò)從之前均價(jià)1億歐元的數(shù)據(jù)來(lái)看,SK海力士這次購(gòu)買的EUV光刻機(jī)大約是40臺(tái)。
如果扣除配套的服務(wù)費(fèi)用,那么總數(shù)量也有可能在30-35臺(tái)左右,依然不可小覷,畢竟ASML的EUV光刻機(jī)去年的銷量也不過(guò)31臺(tái)。
從各方面的數(shù)據(jù)來(lái)看,SK海力士未來(lái)幾年中也會(huì)是ASML的EUV大客戶。
此外,SK海力士是全球第二大內(nèi)存芯片廠商,這次購(gòu)買的EUV光刻機(jī)主要也是用于新一代內(nèi)存顆粒,此前消息稱SK海力士今年下半年在利川廠區(qū)M16采用EUV光刻機(jī)生產(chǎn)第四代(1a nm)DRAM產(chǎn)品。
對(duì)內(nèi)存來(lái)說(shuō),它跟CPU邏輯工藝一樣面臨著需要微縮的問(wèn)題,EUV光刻機(jī)可以減少多重曝光工藝,提供工藝精度,從而可以減少生產(chǎn)時(shí)間、降低成本,并提高性能。
責(zé)編AJX
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