中國有望解決光刻機“卡脖子”難題

放眼全球光刻機制造領(lǐng)域，荷蘭ASML是當(dāng)之無愧的第一巨頭。ASML一臺EUV光刻機賣價十多億，可即便如此臺積電和三星依舊會搶著購買。

不僅在市場份額上遠超競爭對手，ASML對自己的技術(shù)優(yōu)勢也相當(dāng)自信。ASML曾揚言，即便把EUV光刻機的圖紙公開，也沒有一家企業(yè)能夠自己制造出來。

這并非ASML吹噓，因為事實的確如此。EUV光刻機集成了多個領(lǐng)域的尖端技術(shù)，而且零部件來源于各行業(yè)的頂級供應(yīng)商，組裝難度之大可想而知。

正因如此，昔日巨頭佳能、尼康等才一直甘居其后；中國的光刻機制造龍頭企業(yè)上海微電子，也僅僅是攻克了28nm的光刻機。

但這并不意味著，我國會情愿讓核心技術(shù)繼續(xù)掌握在外企手中。

故而，在2020年下半年，中科院曾公開宣布，要集結(jié)全院之力攻克光刻機制造難題，幫助中國企業(yè)擺脫卡脖子的命運。

時至今日，中科院雖然沒有傳出相關(guān)好消息，但清華大學(xué)卻公布了最新的研究成果。據(jù)了解，這項成果有望解決光刻機難題，讓國產(chǎn)芯片未來可期。

2月25日，清華大學(xué)工物系教授唐傳祥研究組的，一篇有關(guān)新型粒子加速器光源“穩(wěn)態(tài)微聚束”的研究論文，被發(fā)表在國際權(quán)威雜志《Nature》上。

同時，清華大學(xué)官網(wǎng)也公開了這個好消息。

筆者了解到，這關(guān)系到一項全新的光刻機光源技術(shù)。

眾所周知，目前全球掌握極紫外光源解決方案的只有美國和德國兩家，而ASML采用的正是美國的解決方案。

但無論是美國還是德國的極紫外光源解決方案，都存在著穩(wěn)定性和壽命兩大問題。這是由于方案需要不斷激發(fā)滴落的錫滴，而錫又具有揮發(fā)性。故而光源功率的提升難度相對較大。

反觀清華大學(xué)與合作團隊研究的方案，則是利用可控電子束來輻射極紫外光的方式，取代靠激發(fā)起來發(fā)光。

相比美國的方案，清華大學(xué)的研究成功在理論上具備更高的穩(wěn)定性，也更容易提升光源功率。

如果這個解決方案能夠最終落地并實現(xiàn)商用，那么國產(chǎn)光刻機或許真的可以彎道超車，不再受美國的限制。

不過，這個實現(xiàn)的過程中，可謂是千難萬險。筆者相信，一旦國產(chǎn)光刻機實現(xiàn)自研，未來國產(chǎn)芯片將有無限的可能。但在此之前，我國相關(guān)產(chǎn)業(yè)面臨的挑戰(zhàn)依舊嚴(yán)峻。
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