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臺(tái)積電將在下半年提前投產(chǎn)3nm工藝

如意 ? 來源:快科技 ? 作者:上方文Q ? 2021-03-03 10:41 ? 次閱讀

在新制程工藝推進(jìn)速度上,臺(tái)積電已經(jīng)徹底無敵,Intel三星都已經(jīng)望塵莫及。

據(jù)最新消息,臺(tái)積電將在今年下半年提前投產(chǎn)3nm工藝,雖然只是風(fēng)險(xiǎn)性試產(chǎn)和小規(guī)模量產(chǎn),但也具有里程碑式的意義。

很自然的,臺(tái)積電會(huì)在明年大規(guī)模量產(chǎn)3nm,初期產(chǎn)能每月大約3萬(wàn)塊晶圓,到了2023年可達(dá)每月10.5萬(wàn)塊晶圓,趕上目前5nm的產(chǎn)能,而后者在去年第四季度的產(chǎn)能為每月9萬(wàn)塊晶圓。

根據(jù)臺(tái)積電數(shù)據(jù),3nm雖然繼續(xù)使用FinFET晶體管,但是相比于5nm晶體管密度增加70%,性能可提升11%,或者功耗可降低27%。

據(jù)悉,蘋果將是臺(tái)積電3nm的核心客戶之一,預(yù)計(jì)會(huì)用于A17系列芯片,而有趣的是,Intel也會(huì)將部分處理器外包給臺(tái)積電3nm。

AMD聯(lián)發(fā)科、賽靈思(已被AMD收購(gòu))、Marvell、博通高通等,自然也都會(huì)跟上臺(tái)積電3nm。

相比之下,三星3nm激進(jìn)地采用了GAA環(huán)繞柵極晶體管,如能順利實(shí)現(xiàn)提升更大,但是難度也大得多,預(yù)計(jì)要明年才能投產(chǎn)。
責(zé)編AJX

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