三星砸430億韓元研發(fā)EUV光罩保護(hù)膜
三星一方面在積極向唯一的EUV光刻機(jī)廠商ASML爭(zhēng)取訂單，另外一方面也在增資為EUV產(chǎn)業(yè)鏈輸血。
據(jù)報(bào)道，三星電子周二斥資430億韓元（約合2.5億）買(mǎi)入152萬(wàn)股韓國(guó)FST公司的股票，成為其第三大股東，持股占比6.9%。
FST是一家生產(chǎn)掩模/光罩保護(hù)膜和冷卻器的廠商，保護(hù)膜簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)就是保障光罩不受灰塵影響，冷卻器則是控制半導(dǎo)體制造過(guò)程中的溫度。
FST正在研制EUV光罩保護(hù)膜，設(shè)計(jì)目標(biāo)是全尺寸，碳化硅基質(zhì)，30nm尺度，透光率90%。
目前，尚未有一家公司大規(guī)模量產(chǎn)EUV光罩保護(hù)膜FST成功后，將對(duì)產(chǎn)業(yè)以及自身收入有著積極影響。
責(zé)編AJX
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫(xiě)或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題，請(qǐng)聯(lián)系本站處理。
舉報(bào)投訴
-
EUV
+關(guān)注
關(guān)注
8文章
600瀏覽量
85846 -
保護(hù)膜
+關(guān)注
關(guān)注
0文章
10瀏覽量
7463 -
三星
+關(guān)注
關(guān)注
0文章
1422瀏覽量
30723
發(fā)布評(píng)論請(qǐng)先 登錄
相關(guān)推薦
韓國(guó)砸26萬(wàn)億韓元推動(dòng)芯片產(chǎn)業(yè)，三星和SK海力士成為最大贏家
韓國(guó)發(fā)布價(jià)值逾26萬(wàn)億韓元（合約190億美元）的激勵(lì)政策，旨在扶持芯片產(chǎn)業(yè)，尤其對(duì)三星電子及SK海力士等龍頭企業(yè)意義重大，助其在競(jìng)爭(zhēng)日趨激烈的市場(chǎng)環(huán)境下保持領(lǐng)先地位。
2024年第一季度SK海力士研發(fā)投入超1萬(wàn)億韓元
隨著半導(dǎo)體行業(yè)的復(fù)蘇，兩大巨頭三星電子和SK海力士紛紛加大了研發(fā)（R&D）費(fèi)用與基礎(chǔ)設(shè)施投資。據(jù)三星電子發(fā)布的最新季度報(bào)告，公司在2024年一季度研發(fā)費(fèi)用高達(dá)7.82萬(wàn)億
美國(guó)授予三星64億美元補(bǔ)貼 三星建廠投資規(guī)模提升至約450億美元
兩座技術(shù)領(lǐng)先的邏輯芯片廠、一座研發(fā)中心和一個(gè)先進(jìn)封裝設(shè)施，同時(shí)擴(kuò)建三星原有的奧斯汀晶圓廠。建廠補(bǔ)貼最高可以達(dá)到64億美元。 而對(duì)應(yīng)的三星電子在美國(guó)半導(dǎo)體工廠的投資額將從170
三星電子年度利潤(rùn)降至10萬(wàn)億韓元以下，半導(dǎo)體業(yè)務(wù)損失慘重
半導(dǎo)體業(yè)務(wù)的萎靡是三星業(yè)績(jī)下滑的重要因素之一。據(jù)悉，三星去年該項(xiàng)業(yè)務(wù)損失高達(dá)14.88萬(wàn)億韓元，其中第四季度因行業(yè)不景氣芯片運(yùn)營(yíng)虧損達(dá)2.18萬(wàn)億韓元（折合人民幣約合117.28
三星電子、SK海力士去年市值飆升200萬(wàn)億韓元
三星電子的市值從去年的331.32兆韓元飆升至現(xiàn)今的475.19兆韓元，漲幅高達(dá)143萬(wàn)億韓元；SK海力士緊隨其后，市值由55.11兆韓元攀
三星市值一年暴增超7800億元
市值排名第一的三星電子從331.3229萬(wàn)億韓元增加到475.1946萬(wàn)億韓元，增加了143.8717萬(wàn)億韓元（約7826億元人民幣）。排名
電子市場(chǎng)低迷！三星營(yíng)利暴跌85%?
三星數(shù)據(jù)顯示，三星電子在2023年第四季度營(yíng)業(yè)利潤(rùn)同比減少35.03%，為2.8萬(wàn)億韓元（約合152.88億元人民幣），銷(xiāo)售額為67萬(wàn)億韓元
光刻掩膜版保護(hù)膜常見(jiàn)的類(lèi)型有哪些？
掩膜版保護(hù)膜，mask pellicle，是一種透明的薄膜，在生產(chǎn)中覆蓋在掩膜版的表面。顧名思義，主要對(duì)掩膜版起物理與化學(xué)保護(hù)作用。
發(fā)表于 01-04 18:15
?874次閱讀
三星目標(biāo)：營(yíng)收增至11.5萬(wàn)億韓元！
三星 DS 部門(mén)在 2023 年的營(yíng)業(yè)利潤(rùn)預(yù)估虧損 13 萬(wàn)億韓元（當(dāng)前約 712.4 億元人民幣），而今年的目標(biāo)是 11.5 萬(wàn)億韓元，意味著增加接近 25 萬(wàn)億
三星曝光技術(shù)大進(jìn)展！
據(jù)報(bào)導(dǎo)，三星已主要客戶的部分先進(jìn) EUV 代工生產(chǎn)在線導(dǎo)入 EUV 光罩護(hù)膜。雖然
三星希望進(jìn)口更多ASML EUV***，5年內(nèi)新增50臺(tái)
EUV曝光是先進(jìn)制程芯片制造中最重要的部分，占據(jù)總時(shí)間、總成本的一半以上。由于這種光刻機(jī)極為復(fù)雜，因此ASML每年只能制造約60臺(tái)，而全球5家芯片制造商都依賴(lài)ASML的EUV光刻機(jī)，包括英特爾、美光、
消息稱(chēng)三星將投資10萬(wàn)億韓元購(gòu)買(mǎi)***
就三星電子增加購(gòu)買(mǎi)EUV光刻設(shè)備的計(jì)劃而言，半導(dǎo)體領(lǐng)域的分析師也持有積極的態(tài)度。來(lái)自祥明大學(xué)的半導(dǎo)體工程教授表示：“三星已引進(jìn)數(shù)十臺(tái)EUV光刻設(shè)備，據(jù)稱(chēng)每一臺(tái)的成本大約為2000
今日看點(diǎn)丨驍龍 7 Gen 3 測(cè)試版規(guī)格曝光；消息稱(chēng)三星將投資 10 萬(wàn)億韓元用于半導(dǎo)體設(shè)備，大量采購(gòu) ASML EUV 光
1. 消息稱(chēng)三星將投資 10 萬(wàn)億韓元用于半導(dǎo)體設(shè)備，大量采購(gòu) ASML EUV 光刻機(jī) ? 據(jù)報(bào)道稱(chēng)，三星計(jì)劃進(jìn)口更多 ASML 極紫外（EUV
發(fā)表于 11-15 09:59
?767次閱讀
三星電子Q3營(yíng)收67萬(wàn)億韓元年減12% 芯片部門(mén)虧損3.75萬(wàn)億韓元
三星電子的核心半導(dǎo)體、半導(dǎo)體部門(mén)q3繼上季度（4萬(wàn)4000億韓元）之后，出現(xiàn)了3萬(wàn)7500億韓元的營(yíng)業(yè)虧損。這是因?yàn)殡m然dram和nand的
工商網(wǎng)監(jiān)
評(píng)論