近日,上海新陽發(fā)布公告稱,公司自主研發(fā)的KrF(248nm)厚膜光刻膠產(chǎn)品已經(jīng)通過客戶認(rèn)證,并成功取得第一筆訂單,取得不錯(cuò)進(jìn)展。
光刻膠用于半導(dǎo)體光刻工藝環(huán)節(jié),是決定制造質(zhì)量的重要因素,根據(jù)曝光波長(zhǎng)不同,可分為g線(436nm)、i線(365nm)、KrF(248nm),ArF(193nm)以及EUV光刻膠,其中KrF、ArF和EUV光刻膠被認(rèn)為是高端光刻膠,目前國(guó)內(nèi)幾乎空白。
日本壟斷全球光刻膠大部分市場(chǎng)份額,全球排名前四的光刻膠廠商都來自日本,包括合成橡膠、信越化學(xué)、東京應(yīng)化、住友化學(xué),大概占據(jù)全球市場(chǎng)份額的70%,在EUV、ArF、KrF市場(chǎng)的占比更大,依次是99.9%、93%、80%。
對(duì)外高度依賴具有卡脖子風(fēng)險(xiǎn),韓國(guó)對(duì)日本光刻膠的依賴也很高,2019年日本通過對(duì)韓國(guó)實(shí)施貿(mào)易禁運(yùn),包括光刻膠在內(nèi)的電子材料,韓國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)受到嚴(yán)重打擊,今年6月中旬也有消息稱,受疫情和地震影響,日本越信化學(xué)光刻膠制造能力受限制,該公司表示不打算再向中國(guó)出售KrF光刻膠。
可以看到,如果在高端光刻膠方面沒有一定的自主供應(yīng)能力,當(dāng)國(guó)外廠商因?yàn)槿魏卧蜻x擇停止供應(yīng)的時(shí)候,國(guó)內(nèi)的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展無疑會(huì)受到影響。
KrF,ArF光刻膠最新進(jìn)展
目前國(guó)內(nèi)在半導(dǎo)體用KrF(248nm),ArF(193nm)光刻膠領(lǐng)域積極投入研發(fā)量產(chǎn)的企業(yè)主要有上海新陽、南大光電和晶瑞股份。
上海新陽在公司2020年年度報(bào)告中透露,公司半導(dǎo)體用高端光刻膠產(chǎn)品正在開發(fā)中,包括邏輯和模擬芯片制造用的I線光刻膠、KrF光刻膠、ArF干法光刻膠,存儲(chǔ)芯片制造用的KrF厚膜光刻膠。
同時(shí)公司采購的用于I線光刻膠研發(fā)的Nikon-i14型光刻機(jī),用于KrF光刻膠研發(fā)的Nikon-205C型光刻機(jī),用于ArF干法光刻膠研發(fā)的ASML-1400型光刻機(jī),用于ArF浸沒式光刻膠研發(fā)的ASML XT 1900 Gi型光刻機(jī)已全部到廠。
2020年11月上海新陽曾發(fā)布定增公告,擬募集資金不超過14.5億元,用于半導(dǎo)體制造用ArF干法工藝使用的光刻膠和面向3D NAND臺(tái)階刻蝕的KrF厚膜光刻膠產(chǎn)品及配套試劑。
該公司表示,項(xiàng)目預(yù)計(jì)KrF厚膜光刻膠2021年實(shí)現(xiàn)少量銷售,2022年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),ArF(干式)光刻膠2022實(shí)現(xiàn)少量銷售,2023年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。此次上海新陽KrF厚膜光刻膠取得第一筆訂單,可以看到公司的項(xiàng)目正在穩(wěn)步推進(jìn),預(yù)計(jì)明年會(huì)按規(guī)劃實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。
南大光電的重點(diǎn)集中在ArF光刻膠產(chǎn)品上,并且取得不錯(cuò)進(jìn)展,今年6月1日南大光電發(fā)布公告稱,子公司寧波南大光電自主研發(fā)的ArF光刻膠產(chǎn)品在邏輯芯片制造企業(yè)55nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)的產(chǎn)品上取得認(rèn)證突破。
去年12月其ArF光刻膠產(chǎn)品也曾在一家存儲(chǔ)芯片制造企業(yè)的50nm閃存平臺(tái)上通過認(rèn)證。南大光電表示,公司與認(rèn)證通過客戶還在就ArF 光刻膠產(chǎn)品的銷售和服務(wù)在協(xié)商中。
晶瑞股份在g線光刻膠產(chǎn)品上規(guī)模供應(yīng)數(shù)十年,i線光刻膠近年也向中芯國(guó)際、合肥長(zhǎng)鑫、士蘭微、揚(yáng)杰科技等企業(yè)供應(yīng)。晶瑞股份6月22日對(duì)外表示,公司的KrF光刻膠完成中試建成了中試示范線,目前已進(jìn)入客戶測(cè)試階段,達(dá)到0.15μm的分辨率,測(cè)試通過后即可進(jìn)入量產(chǎn)階段。
晶瑞股份ArF高端光刻膠研發(fā)工作已正式啟動(dòng),今年年初曾購入一臺(tái)ASML光刻機(jī),為ASML XT 1900 Gi 型ArF浸入式光刻機(jī),可用于研發(fā)最高分辨率達(dá)28nm的高端光刻膠,該設(shè)備于2021年1月 19日運(yùn)抵蘇州并成功搬入公司高端光刻膠研發(fā)實(shí)驗(yàn)室。
小結(jié)
中國(guó)市場(chǎng)是全球最大的光刻膠市場(chǎng),根據(jù)SEMI數(shù)據(jù)顯示,2019年半導(dǎo)體光刻膠銷售額為17.7億美元,中國(guó)市場(chǎng)規(guī)模占比達(dá)到32%,美洲、亞太(除中國(guó)和日本)、歐洲、日本占比依次為21%、20%、9%、9%。
根據(jù)美國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì)數(shù)據(jù),其中ArF干式和浸沒式光刻膠市場(chǎng)份額占比42%,KrF光刻膠占比22%,g線/i線占比24%??梢夾rF、KrF光刻膠有很大的市場(chǎng),尤其當(dāng)前國(guó)家大力支持發(fā)展半導(dǎo)體,對(duì)半導(dǎo)體材料的支持力度也很大,未來有很大的增長(zhǎng)空間。
可見上海新陽、南大光電、晶瑞股份等廠商在ArF、KrF光刻膠上積極發(fā)力,不僅有助于填補(bǔ)我國(guó)在高端光刻膠領(lǐng)域的空白,打破國(guó)外巨頭的壟斷,同時(shí)對(duì)于這幾家廠商來說,作為國(guó)內(nèi)的先入局者,未來能夠把握的市場(chǎng)機(jī)會(huì)也會(huì)更大。
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光刻膠
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