關(guān)于光刻的原理、光刻設(shè)備等知識(shí)點(diǎn)集合

最近光博會(huì)上看到一本關(guān)于光刻的小冊(cè)子，里面有一點(diǎn)內(nèi)容，分享給大家。

關(guān)于光刻的原理、光刻設(shè)備、光刻膠的種類和選擇等。

開篇 光刻的原理

表面處理：一般的晶圓光刻前都需要清潔干凈，特別是有有機(jī)物的、顆粒的、會(huì)影響光刻膠的厚度。

涂膠：根據(jù)工藝要求，目前常用的兩種涂膠工藝，一個(gè)就是旋轉(zhuǎn)涂覆、一個(gè)就是噴涂。根據(jù)工藝要求和光刻膠的性能、可以有不同厚度的光刻膠。

前烘：就比較講究了，因?yàn)檫@東西肉眼看不見變化。只有最后出來光刻了才知道好壞，有時(shí)候還不明顯。

上圖是曝光機(jī)的汞燈光源光譜圖。

關(guān)于曝光劑量的問題：

通常我們監(jiān)控曝光機(jī)的光強(qiáng)，主要針對(duì)單一波長測(cè)量。比如常用的UV探測(cè)器測(cè)試的波段一般是365nm和436nm，有的光刻機(jī)帶有濾波片，可以選擇其中一個(gè)波段使用。比如有的光刻膠給的曝光量是針對(duì)365nm的，也有光刻膠給的是436nm的，因此再?zèng)]有加濾光片的前提下，計(jì)算曝光時(shí)間時(shí)是不能直接用曝光劑量除以光強(qiáng)的，但是也不是上文中的再除以2.5~3的樣子，在2~3的樣子，還要看具體的設(shè)備和汞燈的壽命使用情況。

其他的曝光機(jī)根據(jù)曝光波段不同，分了很多種類型的曝光。

常用工藝和光刻膠選擇

編輯：jq