芯片制作完整過(guò)程包括:芯片設(shè)計(jì)、晶片制作、封裝制作、成本測(cè)試等幾個(gè)環(huán)節(jié),其中晶片片制作過(guò)程尤為的復(fù)雜。下面圖示讓我們共同來(lái)了解一下芯片制作的過(guò)程,尤其是晶片制作部分。
小編將為大家介紹一下芯片制造流程:
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首先是芯片設(shè)計(jì),根據(jù)設(shè)計(jì)的需求,生成的“圖樣”。
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制作晶圓。使用晶圓切片機(jī)將硅晶棒切割出所需厚度的晶圓。
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晶圓涂膜。在晶圓表面涂上光阻薄膜,該薄膜能提升晶圓的抗氧化以及耐溫能力。
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晶圓光刻顯影、蝕刻。使用紫外光通過(guò)光罩和凸透鏡后照射到晶圓涂膜上,使其軟化,然后使用溶劑將其溶解沖走,使薄膜下的硅暴露出來(lái)。
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離子注入。使用刻蝕機(jī)在裸露出的硅上刻蝕出N阱和P阱,并注入離子,形成PN結(jié)(邏輯閘門);然后通過(guò)化學(xué)和物理氣象沉淀做出上層金屬連接電路。
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晶圓測(cè)試。經(jīng)過(guò)上面的幾道工藝之后,晶圓上會(huì)形成一個(gè)個(gè)格狀的晶粒。通過(guò)針測(cè)的方式對(duì)每個(gè)晶粒進(jìn)行電氣特性檢測(cè)。
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封裝。將制造完成的晶圓固定,綁定引腳,然后根據(jù)用戶的應(yīng)用習(xí)慣、應(yīng)用環(huán)境、市場(chǎng)形式等外在因素采用各種不同的封裝形式;同種芯片內(nèi)核可以有不同的封裝形式。
制造芯片主要就是在晶圓片上不斷累加圖案,讓圖案縱向連接,非常多層,會(huì)有100多層。并且需要花費(fèi)許多的時(shí)間,從設(shè)計(jì)到量產(chǎn)可能需要四個(gè)月的時(shí)間。
文章整合自:上海海思技術(shù)、百度經(jīng)驗(yàn)、39度
審核編輯:鄢孟繁
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