佳能新發(fā)售KrF半導體光刻機“FPA-6300ES6a”Grade10升級包 每小時晶圓產能可達300片 實現半導體光刻行業(yè)更高水平

佳能將于2022年8月初發(fā)售KrF※1半導體光刻機“FPA-6300ES6a”的“Grade10”產能升級配件包（以下簡稱“Grade10”升級包）。KrF半導體光刻機“FPA-6300ES6a” 自發(fā)售至今，已經在生產存儲器和邏輯電路的大型半導體器件制造廠商中收獲良好口碑，此次發(fā)布的“Grade10”升級包將助力該設備在300mm晶圓規(guī)格基礎上，以每小時高達300片※2晶圓的加工能力實現半導體光刻行業(yè)內的更高水平※3。

隨著市場對半導體器件需求的持續(xù)增長，半導體器件制造廠商也在不斷尋求具備更高生產能力的半導體光刻設備。自2012年4月推出KrF半導體光刻機“FPA-6300ES6a”以來，佳能在提升設備生產能力的過程中不斷實現產品的升級與迭代，并在市場中贏得了客戶群體的廣泛認可和高度信賴。

新發(fā)布的“Grade10”升級包能夠在300mm晶圓規(guī)格基礎上，實現每小時300片晶圓的高效率生產。此外，這一升級包將于2023年在KrF半導體光刻機“FPA-6300ES6a”的200mm兼容設備上得到應用。

實現行業(yè)更高水準的生產效率

“Grade10”升級包通過加快工作臺和傳送系統(tǒng)的驅動，縮短了曝光時間和傳輸時間，以每小時300片晶圓的產能，實現半導體光刻行業(yè)的更高水準生產。同時，這是佳能在半導體光刻設備上首次搭載基于人工神經網絡※4的工作臺控制系統(tǒng)，減少高速驅動產生的振動，以保持高精度光刻水準。此外，通過選取套刻精度（Overlay）配件，在提升產能的同時，更可實現高達4nm※5的套刻精度。

支持現有設備的升級

對于已經在半導體器件制造廠商中投入使用的KrF半導體光刻機“FPA-6300ES6a”※6，無需更換設備即可通過使用“Grade10”升級包進一步提高生產效率。

未來，佳能將繼續(xù)帶來多樣化的解決方案，并提供能夠有效提升生產效率的配件升級，更好地滿足半導體光刻設備市場的需求。

*1 使用波長248nm，由氪（Kr）氣體和氟（F）氣體產生的激光的半導體光刻機。1納米（納米）是10億分之一米。*2在300mm晶圓規(guī)格基礎上和96次曝光條件下，每小時的晶圓曝光處理數量。

*3在支持300mm晶圓規(guī)格的KrF半導體曝光設備中；統(tǒng)計時間截至2022年6月12日（佳能調查顯示）。

*4 模仿腦神經結構的機器學習算法之一。

*5 單機自身的套刻精度。

*6 需要應用于KrF半導體光刻機“FPA-6300ES6a”的Plus機型。

為方便讀者理解，本文中佳能可指代：佳能光學設備（上海）有限公司，佳能（中國）有限公司，佳能股份有限公司，佳能品牌等

參考信息：

< 什么是步進式掃描光刻機？>
“重復步進并多次掃描曝光”的裝置稱為“步進掃描光刻機”，該裝置通過控制掩模臺與工作臺的同步運動的方式實現曝光動作。由于步進式掃描光刻機的掃描儀可以在掃描操作中覆蓋曝光視角，因此其主要優(yōu)點是易于通過調整鏡頭的有效區(qū)域來擴大數值孔徑（NA, Numerical aperture），并在鏡頭像差較小的部分進行曝光，從而更好地抑制曝光失真，帶來高精度曝光。

＜佳能半導體光刻設備＞
佳能目前擁有i線光刻機和KrF光刻機產品線，同時也在不斷豐富其多元化半導體光刻設備陣容，以更好地滿足市場對于更大面積像場、更小尺寸掩膜版，和更豐富的物聯(lián)網功能的需求。
主要產品規(guī)格介紹 https://global.canon/en/product/indtech/semicon/

＜了解半導體光刻設備工作原理的網站＞
■佳能技術網站分享：半導體光刻設備是如何工作的？
在下方網站中我們將以通俗易懂的方式呈現半導體光刻設備技術及其工作原理：
https://global.canon/en/technology/semicon2021s.html

■佳能半導體光刻設備網站
在下方網站中，我們通過插圖和視頻等富有趣味的方式，對半導體光刻設備的工作原理與性能進行了介紹。此外，我們還為青少年開設了專門的頁面，以輕松、愉悅的方式介紹光刻技術：
https://global.canon/en/product/indtech/semicon/50th/