在2022年北美技術(shù)論壇上,臺(tái)積電公布了未來工藝制程的路線和2NM的相關(guān)信息,那么臺(tái)積電的2nm芯片用什么技術(shù)呢?又在哪里建廠生產(chǎn)2nm芯片呢?
臺(tái)積電2nm芯片將廣泛使用EUV光刻技術(shù),將使用基于納米片的柵極全方位場效應(yīng)的節(jié)點(diǎn)晶體管(GAAFET)。
臺(tái)積電稱,此項(xiàng)技術(shù)能夠讓設(shè)計(jì)人員在相同功耗的條件中,將性能提升10%至15%,在相同的速度中,功耗降低25%至30%,同時(shí),與N3E節(jié)點(diǎn)相比,芯片密度增加了1.1倍以上。
據(jù)媒體報(bào)道,臺(tái)積電已經(jīng)啟動(dòng)了竹科寶山二期的2nm晶圓廠Fab20建廠計(jì)劃,未來將成為2nm芯片生產(chǎn)重鎮(zhèn),有業(yè)內(nèi)人士透露,臺(tái)積電Fab20廠區(qū)將分為第一期到第四期、共建設(shè)4座12英寸晶圓廠,預(yù)計(jì)2024年下半年開始風(fēng)險(xiǎn)性試產(chǎn),2025年開始量產(chǎn)。
審核編輯:chenchen
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