中國光刻機現(xiàn)在多少納米 光刻機的基本原理

眾所周知，光刻機一直處于壟斷地位，在光刻機領(lǐng)域，最有名的就是ASML公司了。

如今最先進的光刻機是600系列，光刻機最高的制作工藝可以達到90納米。但是相比于荷蘭ASML公司旗下的EUV光刻機，最高可以達到5納米的工藝制作。

而且即將推出3納米工藝制作的芯片。但是據(jù)相關(guān)信息透露，預(yù)計我國第一臺28納米工藝的國產(chǎn)沉浸式光刻機即將交付。盡管國產(chǎn)光刻機仍與ASML的EUV光刻機還有很大的距離，雖然起步晚，但是國人的不斷努力，仍會彎道超車。

截止2022年6月，世界上最先進的光刻機已經(jīng)能夠加工13 納米線條。而我們?nèi)祟惖念^發(fā)絲直徑大約是 50~70微米，也就是說，光刻可以刻畫出只有頭發(fā)絲直徑1/5000的線條。

據(jù)報道上海微電子研發(fā)出的28納米國產(chǎn)光刻機整機已經(jīng)安排生產(chǎn)，再過一兩年一定能用于國產(chǎn)芯片的生產(chǎn)，而且，按中芯國際梁孟松在2020年就說到的，一定能用于規(guī)模量產(chǎn)7納米芯片。

光刻機的生產(chǎn)國家有荷蘭、中國、日本、美國、韓國，其中荷蘭光刻機的精度為首。

光刻機是一個制造芯片的機器，芯片上的圖形模板（微電路）需要用機器來雕刻。這就是光刻機的基本原理，利用高級技術(shù)去制造芯片。又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。

文章綜合文學(xué)小百靈、螳臂推車、科技老番茄、情聲課堂

編輯：黃飛