duv光刻機(jī)和euv光刻機(jī)區(qū)別是什么
目前，光刻機(jī)主要分為EUV光刻機(jī)和DUV光刻機(jī)。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù)，EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。EUV為先進(jìn)工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv光刻機(jī)和euv光刻機(jī)區(qū)別是是什么呢？
duv光刻機(jī)和euv光刻機(jī)區(qū)別
1.基本上duv只能做到25nm，而euv能夠做到10nm以下晶圓的生產(chǎn)。
2. duv主要使用的是光的折射原理，而euv使用的光的反射原理，內(nèi)部必須是真空操作。
以上就是duv光刻機(jī)和euv光刻機(jī)區(qū)別了，現(xiàn)在基本都是euv光刻機(jī)。
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編輯：何安
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