學(xué)習(xí)razavi的書籍以及視頻,給人感覺,就是每一個電路都不是平白無故來的,其產(chǎn)生都是因為有需求。
一個基本的共源電路,如下圖所示。共源電路的定義為輸入在柵極,輸出在漏極。
如果考慮溝道調(diào)制效應(yīng),并假設(shè)其工作在飽和區(qū),則其等效小信號模型如下圖所示。
gmV1+Vout/r0+Vout/RD=0
Vout/Vin=-gm(r0//RD)
也就是說,上圖中的電壓增益為:
Av=-gm(r0//RD)
因為r0//RD
從上面的公式可知,想要提高電壓的增益,則可以從三個方面入手:
(1) 增加RD
(2) 增加r0
(3) 增加gm
先說,增加RD。從上面的共源電路可知,如果RD增加,同時保持ID不變的話,那VDS必定下降,則可能會使管子從飽和區(qū)進(jìn)入到線性區(qū)。所以想要靠增加RD來提高電壓增益的話,空間有限。
但是,有沒有辦法,讓RD趨向于無窮大呢?或者說,在小信號等效模型時,等效于無窮大。
回想一下,恒流源的小信號等效模型,發(fā)現(xiàn)其等效模型為開路,即等效于無窮大。
所以,如果用恒流源來替代電阻RD的話,應(yīng)該就能實現(xiàn)剛才提出的愿望。因為此時:
(1) 直流偏置下,可以提供穩(wěn)定的偏置電流
(2) 小信號模型下,開路,即等效于RD趨向于無窮大。
此時 ,Av=-gm*r0。
這個電壓增益稱為MOS管的intrinsic gain,即MOS的固有增益,是管子能達(dá)到的最大增益。
但是怎么能實現(xiàn)這個電流源呢?
再回想一下,當(dāng)MOS管工作在飽和區(qū)時,其漏極和源極之間,就是一個受控電流源,而且此受控電流源接近于恒流源。
所以,可以嘗試用這個受控電流源來實現(xiàn)上面要求。
不過,NMOS和PMOS實現(xiàn)的電流源有一定的局限性,即NMOS實現(xiàn)的電流源只能是從任意結(jié)點流向地,而PMOS實現(xiàn)的電流源只能是從電流源流向任意結(jié)點。他們都無法實現(xiàn)從任意結(jié)點流向另一個任意結(jié)點的電流源。
有了電流源的實現(xiàn)方法,就有了下面的電路。
這個電路有個名稱,叫做common-source stage with current source load,翻譯過來就是具有電流源負(fù)載的共源極電路。因為ro1和ro2一般都比較大,所以放大器的增益肉眼可見的提高了。
由上圖可知,其電壓增益正比于gm,gm的其中一個表達(dá)式,如下圖所示。公式中的因素的變化,都會引起gm的變化,進(jìn)而引起增益的變化。
比如說:
(1)電子和空穴的遷移率都和溫度相關(guān)
(2) 供電電壓的變化也會反應(yīng)到ID上
(3)加工誤差,比如不同wafer之間的遷移率和開啟電壓都會有所差別
(4)信號幅度,小信號模型是基于信號很小的情況下,如果信號幅度比較大,那么不同幅度下對應(yīng)的ID不一樣,會導(dǎo)致gain不一樣
設(shè)計電路時,需要減弱這些不良影響.
而以下構(gòu)建的電路,則可以減小這些因素的影響。
這個構(gòu)建電路的基礎(chǔ),就是diode-connected MOS.
如果用上述電路來代替負(fù)載電阻RD的話,會起到想不到的結(jié)果。
可以看到,如果使用diode-connected MOS管來代替負(fù)載電阻RD的話,最后得出的增益,只與管子本身的尺寸相關(guān),與電子遷移率啊,電流ID的大小啊,都沒有關(guān)系了,大大增加了魯棒性。
一個基本的共源極電路,想提高它的增益,發(fā)現(xiàn)如果增加RD的值,會導(dǎo)致管子的工作狀態(tài)從飽和區(qū)進(jìn)入線性區(qū);
轉(zhuǎn)換思路,用恒流源太替代RD,這樣保證偏置和無窮大電阻共存;接著用MOS管來實現(xiàn)恒流源;
發(fā)現(xiàn)增益,受環(huán)境影響太大,就用diode-connected MOS來替代RD,使得其增益只和管子的尺寸相關(guān)。
審核編輯:湯梓紅
-
放大器
+關(guān)注
關(guān)注
143文章
13533瀏覽量
212948 -
MOS管
+關(guān)注
關(guān)注
108文章
2377瀏覽量
66426 -
共源電路
+關(guān)注
關(guān)注
0文章
2瀏覽量
3172
原文標(biāo)題:一切電路,皆有因!
文章出處:【微信號:mcu168,微信公眾號:硬件攻城獅】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。
發(fā)布評論請先 登錄
相關(guān)推薦
評論