0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

寬帶隙半導(dǎo)體終結(jié)了硅的主導(dǎo)地位

李駿鵬 ? 來源:雪大大11 ? 作者:雪大大11 ? 2022-07-27 15:11 ? 次閱讀

寬帶隙 (WBG) 半導(dǎo)體,例如氮化鎵 (GaN) 和碳化硅 (SiC),已經(jīng)終結(jié)了硅在電力電子領(lǐng)域的主導(dǎo)地位。自硅問世以來,WBG 半導(dǎo)體被證明是電力電子行業(yè)最有前途的材料。與傳統(tǒng)的硅基技術(shù)相比,這些材料具有多項(xiàng)優(yōu)勢,例如能夠管理高功率水平、對(duì)輻射不敏感、高溫操作、高開關(guān)頻率、低噪聲、低功率損耗和高效率。

WBG 半導(dǎo)體對(duì)于下一代星載系統(tǒng)的開發(fā)具有戰(zhàn)略意義。氮化鎵的增強(qiáng)模式版本 (eGaN) 廣泛用于開發(fā)用于空間應(yīng)用的 FET 和 HEMT。

輻射對(duì)功率器件

的影響 太空環(huán)境具有特定的條件,這些條件會(huì)影響并且在某些情況下會(huì)降低天基材料的機(jī)械特性,從而對(duì)系統(tǒng)運(yùn)行的整體行為產(chǎn)生負(fù)面影響??臻g輻射主要由 85% 的質(zhì)子和 15% 的重核組成。輻射的影響會(huì)導(dǎo)致設(shè)備性能下降、中斷和不連續(xù)。

空間合格組件的主要要求是確保長期可靠運(yùn)行的能力??馆椛浠蚩馆椛湓O(shè)計(jì)決定了電子元件承受輻射影響的要求。它可能是最昂貴和最耗時(shí)的方法之一,但有時(shí)它是電子元件的唯一解決方案,以保護(hù)人類生命或保障重要的太空軌道任務(wù)。

星載應(yīng)用中使用的電子元件主要受到空間輻射,稱為單粒子效應(yīng)或 SEE,由地球磁場中捕獲的電子和質(zhì)子引起??臻g輻射的另一個(gè)重要影響是總電離劑量 (TID)。這兩個(gè)概念之間的區(qū)別非常簡單:SEE 是單個(gè)高能粒子撞擊設(shè)備產(chǎn)生的結(jié)果,而 TID 衡量的是長時(shí)間暴露于電離輻射所產(chǎn)生的影響。

TID 暴露量以輻射吸收劑量 (rads) 為單位測量,量化了材料對(duì)輻射的總暴露量。給定一個(gè)特定的設(shè)備,總劑量輻射閾值是導(dǎo)致設(shè)備故障的最小輻射水平。大多數(shù)抗輻射商業(yè)設(shè)備在發(fā)生功能故障之前可以承受高達(dá) 5 krads 的溫度。SEE 指標(biāo)在衛(wèi)星和航天器等應(yīng)用中變得尤為重要。這些系統(tǒng)運(yùn)行的環(huán)境中存在的高密度質(zhì)子和離子會(huì)在電子電路中引起一系列不同的 SEE,包括單粒子翻轉(zhuǎn) (SEU)、單粒子瞬態(tài) (SET)、單粒子功能中斷 ( SEFI)、單事件柵極破裂 (SEGR) 和單事件燒毀 (SEB)。

SEE 事件可能導(dǎo)致系統(tǒng)性能下降,甚至完全破壞。為了確保高度的可靠性,有必要選擇已經(jīng)測量并聲明了輻射產(chǎn)生的影響的組件。

WBG 在星載系統(tǒng)中的優(yōu)勢

減輕重量和尺寸,以及高效率和可靠性,是用于航天器的組件的基本要求。GaN 功率器件在當(dāng)今可用的最小占位面積內(nèi)提供最高水平的效率。氮化鎵在電磁兼容性 (EMC) 方面也具有出色的特性:減小的寄生電容減少了開關(guān)周期期間存儲(chǔ)和釋放的能量,而減小的占位面積提高了環(huán)路電感,特別是在用作收發(fā)器天線時(shí)具有隱蔽性。

用于空間任務(wù)、高空飛行或戰(zhàn)略軍事應(yīng)用等關(guān)鍵應(yīng)用的電源設(shè)備必須能夠抵抗由電離輻射引起的故障和故障。商用 GaN 功率器件的性能明顯高于基于硅技術(shù)的傳統(tǒng)抗輻射器件。這允許為衛(wèi)星、數(shù)據(jù)傳輸、無人機(jī)機(jī)器人和航天器中的應(yīng)用實(shí)施創(chuàng)新架構(gòu)。

增強(qiáng)型 GaN HEMT

抗輻射 MOSFET 已達(dá)到其技術(shù)極限,芯片尺寸大,性能品質(zhì)因數(shù) (FoM) 由公式 FoM = RDS(ON) × Ciss 表示,遠(yuǎn)高于 eGaN 晶體管。FoM是一個(gè)非常重要的參數(shù):值越小,系統(tǒng)的效率就越好。

此外,eGaN HEMT 更容易驅(qū)動(dòng),因?yàn)樗鼈冃枰臇艠O電荷比最好的抗輻射 MOSFET 少 10 到 40 倍。GaN 器件也可以直接安裝在陶瓷基板上,無需任何外部封裝??梢韵妇€和相關(guān)電感,從而實(shí)現(xiàn)非常高的開關(guān)速率。eGaN 開關(guān)速度僅由柵極和漏極節(jié)點(diǎn)的電阻和電容決定。

開關(guān)時(shí)間很容易達(dá)到亞納秒級(jí),因此在使用這些高性能器件時(shí),應(yīng)特別注意開發(fā)的設(shè)計(jì)和 PCB 布局階段。

抗輻射 GaN 解決方案

領(lǐng)先的先進(jìn)半導(dǎo)體解決方案供應(yīng)商瑞薩電子已開發(fā)出業(yè)界首個(gè)抗輻射 100-V 和 200-V GaN FET 電源解決方案,適用于在星載中啟用初級(jí)和次級(jí) DC/DC 轉(zhuǎn)換器電源系統(tǒng)。這些 GaN FET 已針對(duì)破壞性單事件效應(yīng)進(jìn)行了表征,并針對(duì) TID 輻射進(jìn)行了測試。ISL7023SEH 100-V、60-A GaN FET 和 ISL70024SEH 200-V、7.5-A GaN FET 提供比硅 MOSFET 高出多達(dá) 10 個(gè)數(shù)量級(jí)的性能,同時(shí)將封裝尺寸減小了 50%。

它們還減輕了電源重量,并以更少的開關(guān)功率損耗實(shí)現(xiàn)了更高的電源效率。在 5mΩ RDS(ON) 和 14nC (QG) 條件下,ISL70023SEH 實(shí)現(xiàn)了業(yè)界最佳的品質(zhì)因數(shù)。

VPT Inc. 提供 SGRB 系列 DC/DC 轉(zhuǎn)換器,專為太空應(yīng)用中的惡劣輻射環(huán)境而設(shè)計(jì)?;谙冗M(jìn)的 GaN 技術(shù),SGRB 系列可提供高效率,從而減小系統(tǒng)尺寸、重量和成本。

該系列的 GaN 技術(shù)效率高達(dá) 95%,與傳統(tǒng)的抗輻射硅產(chǎn)品相比,效率更高。它專為要求高效率、低噪聲和輻射耐受性的星載電信而設(shè)計(jì)。

Freebird Semiconductor 提供多種集成到 GaN 適配器模塊 (GAM) 中的高可靠性 GaN HEMT 分立器件,在其多功能電源模塊系列中創(chuàng)建了專利電路。這些通用 GaN 適配器模塊將 eGaN 開關(guān)電源 HEMT 與基于 GaN 的高速柵極驅(qū)動(dòng)電路相結(jié)合,用于商業(yè)衛(wèi)星。

抗輻射 FBS-GAM01-P-C50 單低側(cè)電源開發(fā)驅(qū)動(dòng)器模塊將 GaN 開關(guān)電源 HEMT 集成在九引腳 SMT 包覆成型環(huán)氧樹脂封裝中。集成器件包括 Freebird 的 FDA10N30X 輸出功率 eGaN HEMT 開關(guān)和輸出鉗位肖特基二極管,由完全由 eGaN 開關(guān)元件組成的高速柵極驅(qū)動(dòng)電路進(jìn)行最佳驅(qū)動(dòng)。它還包括 5V 輸入 VBIAS 過壓鉗位保護(hù)以及 VBIAS 欠壓驅(qū)動(dòng)器禁用和報(bào)告。SMT 包覆成型環(huán)氧樹脂封裝為 FBS-GAM01-P-R50 飛行單元版本提供了工程開發(fā)平臺(tái)。

審核編輯:湯梓紅

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 半導(dǎo)體
    +關(guān)注

    關(guān)注

    334

    文章

    26311

    瀏覽量

    209952
  • FET
    FET
    +關(guān)注

    關(guān)注

    3

    文章

    617

    瀏覽量

    62676
  • 碳化硅
    +關(guān)注

    關(guān)注

    25

    文章

    2633

    瀏覽量

    48523
  • 寬帶隙半導(dǎo)體
    +關(guān)注

    關(guān)注

    0

    文章

    33

    瀏覽量

    7
收藏 人收藏

    評(píng)論

    相關(guān)推薦

    標(biāo)普上調(diào)SK海力士評(píng)級(jí)至BBB,看好其HBM領(lǐng)域主導(dǎo)地位

    近日,國際知名評(píng)級(jí)機(jī)構(gòu)標(biāo)準(zhǔn)普爾全球評(píng)級(jí)(S&P Global Ratings)宣布了一項(xiàng)重要決策,將SK海力士的長期發(fā)行人信用及發(fā)行評(píng)級(jí)從BBB-提升至BBB,并維持穩(wěn)定的評(píng)級(jí)展望。此次上調(diào)評(píng)級(jí),主要基于SK海力士在高性能內(nèi)存(HBM)領(lǐng)域的顯著“主導(dǎo)地位”以及全球內(nèi)存市場的積極復(fù)蘇趨勢。
    的頭像 發(fā)表于 08-08 09:48 ?243次閱讀

    下一代半導(dǎo)體技術(shù)焦點(diǎn):光子半導(dǎo)體競爭升級(jí)

    成為未來科技競爭的關(guān)鍵領(lǐng)域。本文將從技術(shù)、市場、國家戰(zhàn)略等多個(gè)維度,深入探討當(dāng)前全球范圍內(nèi)爭奪光子半導(dǎo)體主導(dǎo)地位的激烈競爭。
    的頭像 發(fā)表于 08-07 13:05 ?451次閱讀
    下一代<b class='flag-5'>半導(dǎo)體</b>技術(shù)焦點(diǎn):光子<b class='flag-5'>半導(dǎo)體</b>競爭升級(jí)

    Nexperia斥資2億美元加速漢堡工廠寬帶(WBG)半導(dǎo)體研發(fā)與生產(chǎn)

    全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體制造商N(yùn)experia今日宣布將投入高達(dá)2億美元(折合約1.84億歐元)的資金,以顯著擴(kuò)大其位于德國漢堡工廠的寬帶(WBG)半導(dǎo)體研究、開發(fā)及生產(chǎn)能力。此次投資的核心
    的頭像 發(fā)表于 07-15 17:02 ?215次閱讀
    Nexperia斥資2億美元加速漢堡工廠<b class='flag-5'>寬帶</b><b class='flag-5'>隙</b>(WBG)<b class='flag-5'>半導(dǎo)體</b>研發(fā)與生產(chǎn)

    昕感科技6英寸半導(dǎo)體芯片項(xiàng)目預(yù)計(jì)年底全面通線

    江蘇昕感科技在半導(dǎo)體芯片制造領(lǐng)域又邁出了重要的一步。由該公司投資建設(shè)的6英寸半導(dǎo)體芯片項(xiàng)目,預(yù)計(jì)將在今年年底全面通線,年產(chǎn)能將達(dá)到100萬片6英寸
    的頭像 發(fā)表于 06-26 10:49 ?1074次閱讀

    瑞能半導(dǎo)體推出一種帶大于傳統(tǒng)基肖特基二極管的半導(dǎo)體器件

    碳化硅(SiC)肖特基二極管是一種帶大于傳統(tǒng)基肖特基二極管的半導(dǎo)體器件。
    的頭像 發(fā)表于 04-11 10:27 ?525次閱讀
    瑞能<b class='flag-5'>半導(dǎo)體</b>推出一種帶<b class='flag-5'>隙</b>大于傳統(tǒng)<b class='flag-5'>硅</b>基肖特基二極管的<b class='flag-5'>半導(dǎo)體</b>器件

    寬帶半導(dǎo)體重塑交通運(yùn)輸行業(yè)

    解決方案(火車、飛機(jī)和輪船)。為了控制溫室氣體 (GHG) 排放并減緩全球變暖,我們需要既能最大限度提高效率,又能減少環(huán)境影響的解決方案。 寬帶 (WBG) 半導(dǎo)體具備多種特性,使得其對(duì)交通運(yùn)輸應(yīng)用具有很大吸引力。使用這些
    的頭像 發(fā)表于 02-13 16:38 ?899次閱讀
    <b class='flag-5'>寬帶</b><b class='flag-5'>隙</b><b class='flag-5'>半導(dǎo)體</b>重塑交通運(yùn)輸行業(yè)

    日本擴(kuò)大投資補(bǔ)貼,挑戰(zhàn)韓國半導(dǎo)體行業(yè)主導(dǎo)地位

    韓國新聞網(wǎng)站《東亞日?qǐng)?bào)》對(duì)此發(fā)表評(píng)論指出,面臨強(qiáng)大的競爭環(huán)境,東京政府毅然推出了高達(dá)50%的半導(dǎo)體補(bǔ)貼計(jì)劃,這對(duì)于吸引當(dāng)?shù)丶皣H上的商業(yè)巨頭發(fā)揮著重要作用。預(yù)計(jì)本次大規(guī)模的補(bǔ)貼行為將使DRAM等多個(gè)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈在未來十年超越韓國。
    的頭像 發(fā)表于 12-29 15:00 ?475次閱讀

    新的寬帶半導(dǎo)體技術(shù)提高了功率轉(zhuǎn)換效率

    新的寬帶半導(dǎo)體技術(shù)提高了功率轉(zhuǎn)換效率
    的頭像 發(fā)表于 11-30 18:00 ?376次閱讀
    新的<b class='flag-5'>寬帶</b><b class='flag-5'>隙</b><b class='flag-5'>半導(dǎo)體</b>技術(shù)提高了功率轉(zhuǎn)換效率

    功率逆變器應(yīng)用采用寬帶半導(dǎo)體器件時(shí),柵極電阻選型注意事項(xiàng)

    本文為大家介紹氮化鎵 (GaN) 和碳化硅 (SiC) 等寬帶半導(dǎo)體器件用作電子開關(guān)的優(yōu)勢,以及如何權(quán)衡利弊。主要權(quán)衡因素之一是開關(guān)損耗,開關(guān)損耗會(huì)被高 di/dt 和 dv/dt 放大,造成電路
    的頭像 發(fā)表于 11-27 09:16 ?370次閱讀
    功率逆變器應(yīng)用采用<b class='flag-5'>寬帶</b><b class='flag-5'>隙</b><b class='flag-5'>半導(dǎo)體</b>器件時(shí),柵極電阻選型注意事項(xiàng)

    功率逆變器應(yīng)用采用寬帶半導(dǎo)體器件時(shí)柵極電阻選型注意事項(xiàng)

    功率逆變器應(yīng)用采用寬帶半導(dǎo)體器件時(shí)柵極電阻選型注意事項(xiàng)
    的頭像 發(fā)表于 11-23 16:56 ?485次閱讀
    功率逆變器應(yīng)用采用<b class='flag-5'>寬帶</b><b class='flag-5'>隙</b><b class='flag-5'>半導(dǎo)體</b>器件時(shí)柵極電阻選型注意事項(xiàng)

    使用寬帶技術(shù)最大限度地提高高壓轉(zhuǎn)換器的功率密度

    提高功率密度和縮小電源并不是什么新鮮事。預(yù)計(jì)這一趨勢將持續(xù)下去,從而實(shí)現(xiàn)新的市場、應(yīng)用和產(chǎn)品。這篇博客向設(shè)計(jì)工程師介紹了意法半導(dǎo)體(ST)的電源解決方案如何采用寬帶(WBG)技術(shù),幫助
    的頭像 發(fā)表于 11-16 13:28 ?8934次閱讀
    使用<b class='flag-5'>寬帶</b><b class='flag-5'>隙</b>技術(shù)最大限度地提高高壓轉(zhuǎn)換器的功率密度

    新上聯(lián)半導(dǎo)體與臨港集團(tuán)下屬公司簽署租賃協(xié)議,推進(jìn)落地設(shè)備項(xiàng)目

    根據(jù)協(xié)議,新上聯(lián)半導(dǎo)體將租賃臨江產(chǎn)業(yè)區(qū)的工廠建筑,推進(jìn)用于制造落地半導(dǎo)體的快速熱氧化/快速熱解熱/等離子氮化(issg rto/rta/dpn)設(shè)備項(xiàng)目。項(xiàng)目核心小組在亞洲12英寸晶圓廠熱處理設(shè)備市場上占據(jù)主導(dǎo)地位
    的頭像 發(fā)表于 11-06 11:42 ?1286次閱讀

    碳化硅和的優(yōu)勢對(duì)比

    寬帶半導(dǎo)體使許多以前使用(Si)無法實(shí)現(xiàn)的高功率應(yīng)用成為可能,兩種材料的特性說明了為什么碳化硅二極管(SiC)在多個(gè)指標(biāo)上具有明顯的優(yōu)勢。
    的頭像 發(fā)表于 10-30 14:11 ?2878次閱讀
    碳化硅和<b class='flag-5'>硅</b>的優(yōu)勢對(duì)比

    半導(dǎo)體工業(yè)之1μm的技術(shù)節(jié)點(diǎn)

    半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)在20世紀(jì)80年代開始于美國和歐洲,并且長期維持主導(dǎo)地位,并逐漸的變?yōu)橐粋€(gè)全球性的產(chǎn)業(yè)。
    的頭像 發(fā)表于 10-30 11:22 ?761次閱讀

    氮化鎵(GaN)寬帶技術(shù)的電源應(yīng)用設(shè)計(jì)

    隨著世界希望電氣化有助于有效利用能源并轉(zhuǎn)向可再生能源,氮化鎵(GaN)等寬帶半導(dǎo)體技術(shù)的時(shí)機(jī)已經(jīng)成熟。傳統(tǒng)MOSFET和IGBT的性能現(xiàn)在接近材料的理論極限,進(jìn)一步發(fā)展只是以緩慢和
    的頭像 發(fā)表于 10-25 16:24 ?1199次閱讀
    氮化鎵(GaN)<b class='flag-5'>寬帶</b><b class='flag-5'>隙</b>技術(shù)的電源應(yīng)用設(shè)計(jì)