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Device Studio之Nanoskim應(yīng)用實(shí)例介紹

鴻之微 ? 來源:鴻之微 ? 作者:鴻之微 ? 2022-07-27 15:35 ? 次閱讀

Device Studio(簡(jiǎn)稱:DS)作為鴻之微的材料設(shè)計(jì)與仿真軟件,能夠進(jìn)行電子器件的結(jié)構(gòu)搭建與仿真;能夠進(jìn)行晶體結(jié)構(gòu)和納米器件的建模;能夠生成科研計(jì)算軟件 Nanodcal、Nanoskim、MOMAP、RESCU、DS-PAW、BDF、STEMS、TOPS、PODS、VASP、LAMMPS、QUANTUM ESPRESSO、Gaussian的輸入文件并進(jìn)行存儲(chǔ)和管理;可以根據(jù)用戶需求,將輸入文件傳遞給遠(yuǎn)程或本地的計(jì)算機(jī)進(jìn)行計(jì)算,并控制計(jì)算流程;可以將計(jì)算結(jié)果進(jìn)行可視化顯示和分析。

本期將介紹Device Studio應(yīng)用實(shí)例之Nanoskim應(yīng)用實(shí)例的內(nèi)容。

8.5.Nanoskim實(shí)例

Nanoskim即Nanostructure Slater-Koster Integrals Manifesting package,是一款基于Slater-Koster緊束縛勢(shì)場(chǎng)的量子輸運(yùn)仿真軟件,可以從原子層級(jí)來構(gòu)建納米器件。在非平衡條件下,通過自洽求解非平衡格林函數(shù)(Non-equilibrium Green’s function, 簡(jiǎn)稱:NEGF)和,得到納米器件的電子密度和靜電勢(shì),從而可以充分考慮量子力學(xué)效應(yīng)(如源漏隧穿效應(yīng)、量子受限效應(yīng)),以及具體的原子細(xì)節(jié)(如截面形狀、雜質(zhì)位置)等。

Nanoskim軟件官網(wǎng):詳見 http://hzwtech.com/software-prosubsub/157.html

環(huán)柵型的硅納米線晶體管結(jié)構(gòu)的電流電壓特性為例詳細(xì)描述 Nanoskim 軟件在Device Studio中的應(yīng)用。

8.5.1.Nanoskim計(jì)算流程

Nanoskim在Device Studio中的計(jì)算流程如圖8.5-1所示。

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圖8.5-1: Nanoskim計(jì)算流程

8.5.2.Nanoskim創(chuàng)建項(xiàng)目

雙擊Device Studio圖標(biāo)快捷方式,登錄并啟動(dòng)Device Studio,在創(chuàng)建或打開項(xiàng)目界面中(圖5.1-1: 啟動(dòng)軟件后選擇創(chuàng)建或打開項(xiàng)目的圖形界面),根據(jù)界面提示選擇創(chuàng)建一個(gè)新的項(xiàng)目(Create a new Project)或打開一個(gè)已經(jīng)存在的項(xiàng)目(Open an existing Project)的按鈕,選中之后點(diǎn)擊界面中的OK按鈕即可。若選擇創(chuàng)建一個(gè)新的項(xiàng)目,用戶可根據(jù)需要給該項(xiàng)目命名,如本項(xiàng)目命名為Nanoskim,或采用軟件默認(rèn)項(xiàng)目名。

8.5.3.Nanoskim導(dǎo)入結(jié)構(gòu)

在Device Studio中導(dǎo)入純硅器件結(jié)構(gòu)(Device_Si.hzw)后的圖形界面如圖8.5-2。在Device Studio中導(dǎo)入純硅器件結(jié)構(gòu)的具體操作這里不做詳細(xì)說明,用戶可參照導(dǎo)入結(jié)構(gòu)節(jié)內(nèi)容。

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圖8.5-2: 導(dǎo)入純硅器件結(jié)構(gòu)(Device_Si.hzw)后的Device Studio圖形界面

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原文標(biāo)題:產(chǎn)品教程|Device Studio應(yīng)用實(shí)例07(Nanoskim )

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