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利用原位3D光學(xué)顯微鏡來(lái)表征LLZO)電解質(zhì)上鋰沉積形貌

工程師鄧生 ? 來(lái)源:清新電源 ? 作者:然 ? 2022-09-08 09:12 ? 次閱讀

研究背景

近年來(lái),無(wú)負(fù)極的固態(tài)電池(SSB)受到了極大關(guān)注,因?yàn)樗鼈冇型岣唠姵匕踩院湍芰棵芏?。但是,在鋰?fù)極原位形成過(guò)程中,動(dòng)態(tài)的機(jī)械應(yīng)力會(huì)影響初始鋰金屬沉積形貌,導(dǎo)致電池可逆性較差。因此,需要開(kāi)發(fā)一種具有高空間分辨率和時(shí)間分辨率的無(wú)損表征技術(shù),對(duì)無(wú)負(fù)極固態(tài)電池中鋰沉積形貌進(jìn)行原位觀察,并構(gòu)建電化學(xué)-力學(xué)耦合關(guān)系,以實(shí)現(xiàn)對(duì)鋰沉積形貌的控制。

成果簡(jiǎn)介

近日,美國(guó)密歇根大學(xué)Jeff Sakamoto和Neil P. Dasgupta教授Matter上發(fā)表了題為“Understanding the electro-chemo-mechanics of Li plating in anode-free solid-state batteries with operando 3D microscopy”的論文。該論文利用原位3D光學(xué)顯微鏡來(lái)表征Li7La3Zr2O12(LLZO)固體電解質(zhì)上鋰沉積形貌。通過(guò)將形貌演化和電化學(xué)特性耦合,獲得界面處的應(yīng)力變化,以及應(yīng)力對(duì)界面處熱力學(xué)和動(dòng)力學(xué)行為的影響。結(jié)果證明,調(diào)控界面韌性、集流體特性、堆壓和電池幾何形狀,對(duì)于優(yōu)化性能和控制沉積均勻性十分重要。優(yōu)化上述條件后,沉積2 mAh/cm2的Li,面積覆蓋率從50%增加到95%。

研究亮點(diǎn)

使用焦點(diǎn)變化顯微鏡,對(duì)無(wú)負(fù)極固態(tài)電池中的鋰沉積形貌進(jìn)行三維(3D)測(cè)量,同時(shí)施加可控的堆壓,并從電化學(xué)和機(jī)械角度量化了堆壓對(duì)鋰泡形狀和生長(zhǎng)行為的影響。

圖文導(dǎo)讀

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圖1、3D光學(xué)可視化平臺(tái)的構(gòu)建以及成像。(A)電池構(gòu)型示意圖。(B)通過(guò)藍(lán)寶石窗口拍攝的三維表面圖。(C)沿(B)中虛線的高度剖面。(D)銅表面在(B)中相同區(qū)域的RGB圖像。(E)使用等離子聚焦離子束切割鋰泡的截面掃描電子顯微圖。(F)光學(xué)變焦顯微鏡和掃描電鏡測(cè)得的高度剖面圖。

圖1A為原位可視化電池示意圖,其利用焦點(diǎn)變化來(lái)測(cè)量樣品表面的3D形貌。圖1B為銅集流體下方的單個(gè)鋰島的成像。圖1E和1F將沉積鋰的3D光學(xué)焦點(diǎn)變化圖像與切割后的橫截面SEM圖像進(jìn)行了比較。結(jié)果顯示,這兩種測(cè)量方法所獲得的形貌非常一致。

為了在SE和集流體之間的界面上沉積Li金屬,施加的電壓(過(guò)電位)必須提供足夠的驅(qū)動(dòng)力來(lái)克服與此過(guò)程相關(guān)的幾個(gè)勢(shì)壘,這些勢(shì)壘總結(jié)在示意圖1中。例如,需要克服界面斷裂,集流體變形,斷裂以及堆壓做功。

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示意圖1、能量平衡因子,包括集流體(σCC)和周圍支撐結(jié)構(gòu)的彈性和塑性變形,界面脫粘(γSE-CC),界面過(guò)電位(ηinterface),固體電解質(zhì)(ρbulk)中的離子傳輸,Li中的應(yīng)力(σLi),以及施加的電流所做的功。

對(duì)鋰沉積形貌起關(guān)鍵作用的一個(gè)因素是施加堆壓的均勻性。圖2A-2C顯示,與右側(cè)相比,電極左側(cè)所受堆壓較大,因此呈現(xiàn)不同的形貌。右側(cè)主要由孤立的鋰島組成,而左側(cè)沉積的鋰已經(jīng)合并在一起,呈現(xiàn)出較低的高度。這些結(jié)果表明,局部增強(qiáng)的堆壓會(huì)導(dǎo)致形成更均勻的鋰鍍層(圖2D)。因此,通常使用的電池測(cè)試夾具可能會(huì)導(dǎo)致電池堆壓的不均勻性。

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圖2、堆壓不均勻性的影響。(A)施加非均勻堆壓時(shí)電極的三維表面圖。(B)沿(A)所示直線的高度剖面。(C)另一個(gè)觀察角度的三維表面。(D)夾具對(duì)Li形貌的影響示意圖。

在0、1和5 MPa堆壓下沉積2 mAh/cm2的鋰后,對(duì)鋰沉積形貌進(jìn)行成像。結(jié)果顯示,沒(méi)有堆壓的電池中鋰沉積形貌主要呈現(xiàn)島狀,高度大約40 μm。而5 MPa電池在集流體區(qū)域的鋰突起大多相互連接,且更平坦,最大高度僅10-15 μm。1 MPa的電池具有類似的島狀鋰,但島的頂部部分變平,表明施加的堆壓足以使島的頂部變形,但這不會(huì)導(dǎo)致明顯的橫向擴(kuò)張。

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圖3、堆壓對(duì)整體鋰沉積形貌的影響。(A-C)堆壓分別為0 MPa(A)、1 MPa(B)和5 MPa(C)的電極RGB光學(xué)圖像。(D-F)相同電極的表面圖使用高度閾值突出顯示鋰沉積的區(qū)域。

圖4D-4I的高度剖面用兩種不同的z比例繪制:(1)在圖4D-4F中,z方向上拉伸5倍,以及(2)使用11的xz縮放以顯示圖4G-4I中的真實(shí)形狀。在不施加堆壓時(shí),鋰島保持近似球形,直徑和高度都在增長(zhǎng)。而在5 MPa下形成的鋰島最初主要沿表面橫向生長(zhǎng),然后向上生長(zhǎng),表明高堆壓下的鋰沉積更均勻。

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圖4、堆壓對(duì)單個(gè)鋰泡形貌的影響。(A-C)在堆壓為0 MPa(A)、1 MPa(B)和5 MPa(C)時(shí),單個(gè)鋰泡周圍剪切區(qū)域的三維表面圖,z軸被拉伸4倍。(D-F)(A)至(C)中鋰泡中心的高度分布,z刻度拉伸5倍。(G-I)以11 xz比例繪制相同的高度剖面。

圖5A顯示,鋰沉積時(shí),Cu集流體的電位最初大于0 V(約1.8 V),充電時(shí)迅速降至0 V以下。然后電壓達(dá)到最小值并開(kāi)始增加。形核后,界面阻抗減少。隨著電鍍的繼續(xù),活性面積進(jìn)一步增加,導(dǎo)致極化降低,直到達(dá)到近似穩(wěn)態(tài)的生長(zhǎng)平臺(tái)。

圖5C顯示,SE和集流體之間的初始接觸在納米到微米級(jí)的界面上并不是連續(xù)的,存在空腔。成核可能優(yōu)先發(fā)生在位于空腔邊緣的三相邊界處(圖5B和5C)。

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圖5、電壓演變與應(yīng)力的相關(guān)性。(A)恒流電鍍時(shí)的電壓曲線。(B, C)初始電鍍示意圖(B)和SEM圖像(C)。(D, E)第二次電鍍示意圖(D)和SEM圖像(E)。(F, G)第三次電鍍示意圖(F)和SEM圖像(G)。

圖5E顯示,電鍍0.005 mAh/cm2的鋰后,界面處的空腔被填充。當(dāng)完全被鋰填充時(shí),腔內(nèi)的內(nèi)部壓力會(huì)增加,進(jìn)一步電鍍將導(dǎo)致SE和集流體之間的界面分層。對(duì)于無(wú)限均質(zhì)材料中的硬幣狀裂紋,裂紋擴(kuò)展所需的臨界內(nèi)部壓力約為:

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其中E是楊氏模量,a是裂紋半徑,Γ是界面韌性。分層需要腔內(nèi)的內(nèi)部壓力達(dá)到壓力的臨界值pcr。Li金屬和SE之間界面上的機(jī)械應(yīng)力會(huì)引起界面平衡電勢(shì)和動(dòng)力學(xué)的變化。首先,鋰中的壓應(yīng)力增加了每個(gè)原子的吉布斯自由能(化學(xué)勢(shì)),根據(jù)以下公式改變平衡勢(shì):

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其中

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是Li/LLZO界面的參考吉布斯自由能變化,ΩLi是Li的摩爾體積,F(xiàn)是法拉第常數(shù),σnLi是Li/LLZO界面的正應(yīng)力。界面電化學(xué)電位的這種變化導(dǎo)致電池的平衡電壓發(fā)生變化。此外,界面處增加的正應(yīng)力會(huì)影響電流流動(dòng)時(shí)的反應(yīng)動(dòng)力學(xué)。因此,界面應(yīng)力將影響交換電流密度:

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其中i0是交換電流密度,i00ref是參考交換電流密度,β是對(duì)稱系數(shù),δMechLi是描述能壘隨機(jī)械應(yīng)力變化的先決條件,它取決于給定的材料體系。降低i0將增加維持給定電流密度所需的過(guò)電勢(shì),并進(jìn)一步降低電壓。

一旦內(nèi)部壓力(pcr)達(dá)到剝離SE和集流體之間界面所需的臨界值,硬幣狀裂紋便開(kāi)始擴(kuò)展。隨著裂紋的繼續(xù)擴(kuò)大,集流體開(kāi)始表現(xiàn)得更像是一層銅膜,而不是無(wú)限厚的介質(zhì)。圖5G顯示,沉積2 mAh/cm2的鋰后,最初充滿鋰的空腔演變成更大的氣泡,其半徑遠(yuǎn)大于集流體厚度。在氣泡狀生長(zhǎng)期間,線彈性薄膜進(jìn)行小尺度變形,分層所需的臨界壓力可以表示為:

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對(duì)于硬幣狀裂紋和氣泡狀生長(zhǎng)試驗(yàn),裂紋擴(kuò)展所需的壓力隨裂紋尺寸的增大而減小。除了界面處的應(yīng)力減少外,隨著氣泡的增加,活性界面面積也會(huì)增加。這種面積的增加導(dǎo)致局部電流密度和相關(guān)的動(dòng)力學(xué)過(guò)電位降低。

為了說(shuō)明在不同條件下,在硬幣狀裂紋和氣泡生長(zhǎng)過(guò)程中會(huì)出現(xiàn)的壓力范圍,圖6顯示了在這兩種模式下,對(duì)于一系列界面韌性和特征尺寸的生長(zhǎng)臨界壓力。在實(shí)際的電池體系中,壓力通常大于額定的堆壓。

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圖6、基于等式1(硬幣狀裂紋)和4(氣泡狀生長(zhǎng))計(jì)算的臨界壓力隨裂紋/鋰泡尺寸的變化。

為了進(jìn)一步研究鋰金屬沉積過(guò)程中電池電壓的演變,以及它與壓應(yīng)力的關(guān)系,本文進(jìn)行了間歇電鍍實(shí)驗(yàn),其中施加了脈沖恒流電鍍電流,然后是開(kāi)路弛豫期。在弛豫時(shí)進(jìn)行電化學(xué)阻抗譜(EIS)測(cè)試,結(jié)果如圖7所示。

當(dāng)Li成核并開(kāi)始生長(zhǎng)時(shí),界面面積增大,界面阻抗減小(圖7A)。銅箔的阻塞電極行為(斜的擴(kuò)散尾巴)開(kāi)始演變?yōu)榕cLi/LLZO界面相關(guān)的半圓弧。起初,這個(gè)半圓的尺寸減小,隨后開(kāi)始增大。圖7B顯示,阻抗增加與極化增加有關(guān),表明Li/SE界面處應(yīng)力的積累導(dǎo)致界面阻抗增加。

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圖7、脈沖電鍍測(cè)試,并進(jìn)行阻抗譜測(cè)量。(A)鍍鋰量增加后的Nyquist圖。(B)恒流電鍍脈沖期間的電壓曲線。(C)每次電流脈沖后10 s弛豫期間的OCV。(D和E)電流脈沖和開(kāi)路弛豫各點(diǎn)電壓的變化。

除了界面阻抗增加外,電池開(kāi)路電壓(OCV)也發(fā)生變化。在電流脈沖之后和EIS測(cè)量之前的電壓弛豫行為如圖7E所示。弛豫期結(jié)束時(shí)的OCV在初始成核階段大約為零,然后降低到最小值,然后再次略微增加。

這是因?yàn)長(zhǎng)i/SE界面處的法向應(yīng)力從零開(kāi)始,直到達(dá)到裂紋擴(kuò)展所需的臨界值,然后隨著脫粘區(qū)域內(nèi)沉積物尺寸的增加而衰減。此外,隨著這些區(qū)域的半徑增加,剝離所需的臨界壓力會(huì)降低。因此,機(jī)械應(yīng)力的動(dòng)態(tài)演變導(dǎo)致界面平衡電位和界面動(dòng)力學(xué)發(fā)生變化。

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圖8、堆壓對(duì)鋰泡形貌和開(kāi)路電壓的影響。(A-E)當(dāng)施加力從10 N(A)增加到300 N(D),然后又減少到40 N(E)時(shí),電極表面的光學(xué)圖像。(F-H)圖(B)、(D)和(E)中裁剪區(qū)域的高度圖。(I)兩個(gè)電極處壓力差來(lái)源示意圖。(J)各作用力下電池的開(kāi)路電壓(OCV)。(K)根據(jù)施加的力和接觸面積,將OCV和計(jì)算的壓力差進(jìn)行比較。

為了研究氣泡狀生長(zhǎng)時(shí)的電化學(xué)響應(yīng),使用10 N的力將0.5 mAh/cm2的Li鍍到10 μm厚的Cu集流體上。電鍍結(jié)束后,增加壓力,并收集3D表面圖像。圖8顯示,在最小堆壓下進(jìn)行初始電鍍后,Li沉積與不施加堆壓情況非常相似。隨著壓力增加到 40、200和300 N,氣泡發(fā)生變形,接觸面積增加。此時(shí),OCV也發(fā)生變化(圖8J)。電池電壓的變化可以通過(guò)兩個(gè)界面之間的應(yīng)力差異來(lái)解釋,如圖8I所示。實(shí)際堆壓的差值可以表示為:


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其中Δp是壓差,F(xiàn)stack是施加的力,Acontact是集流體與夾具接觸的面積,A0是標(biāo)稱電極面積。因此,當(dāng)頂部(Acontact)和底部(A0)電極上的不同接觸區(qū)域負(fù)載Fstack時(shí)(圖8I),界面處的應(yīng)力差異(Δp)將隨著壓力的增加而增加。當(dāng)力降低回40 N(圖8E和8H)時(shí),氣泡頂部保持平坦,不能恢復(fù)到初始形貌。

將力降低到40 N后,OCV 降低到0.4 mV,低于原來(lái)的40 N,表明堆壓增加會(huì)導(dǎo)致集流體的塑性變形。因此,更大的接觸面積降低了氣泡中的壓力,從而降低了OCV。隨著力的增加,電極形貌發(fā)生變化,Acontact增加。因此,OCV與施加的力呈非線性關(guān)系(圖8K)。計(jì)算出的應(yīng)力差變化趨勢(shì)與測(cè)得的OCV變化總體上一致。根據(jù)上述界面氣泡生長(zhǎng)試驗(yàn)的理論框架(公式4),可以將無(wú)堆壓時(shí)的平衡沉積形貌表示為:

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其中V是氣泡的體積,a是氣泡的半徑,Γ是界面韌性,h是集流體的厚度,v是泊松比,E是楊氏模量。為了實(shí)現(xiàn)均勻電鍍,該等式左側(cè)應(yīng)該最小化,即氣泡面積大而體積小。因此:

(1)在集流體變形時(shí),應(yīng)盡量減小界面韌性以促進(jìn)脫粘;

(2)應(yīng)使集流體的楊氏模量、泊松比和厚度最大化,以增加其剛性;

(3)盡量增大成核密度,使整個(gè)集流體在a很小的情況下被剝離

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圖9、不同集流體厚度和堆壓下,沉積鋰的面積覆蓋率變化。(A)使用18mm厚的銅集流體,在5 MPa堆壓下,電鍍2 mAh/cm2后的電極高度圖。(B)光學(xué)圖像。(C)不同堆壓和Cu厚度的電池中Li表面覆蓋率隨電鍍?nèi)萘?/strong>的變化。

通過(guò)增加集流體厚度和堆壓來(lái)增加鋰沉積均勻性。圖9顯示,在電鍍2 mAh/cm2的Li后,表面覆蓋率接近95% ,而用更薄的集流體和更低的堆壓實(shí)現(xiàn)的面積覆蓋率為50%。

總結(jié)與展望

該工作使用3D光學(xué)顯微鏡來(lái)研究原位鋰沉積過(guò)程中,SE和集流體之間界面處的電化學(xué)-力學(xué)行為,結(jié)果表明:

(1)堆壓能夠驅(qū)動(dòng)鋰泡橫向生長(zhǎng)和合并。此外,鋰沉積形貌對(duì)堆壓的不均勻性也非常敏感。

(2)集流體與SE界面處的粘附力限制了鋰的沉積,從而改變了Li/SE界面的平衡電位和界面阻抗。

(3)集流體的厚度、彈性模量和塑性也決定了鋰泡的形貌。該研究為未來(lái)固態(tài)電池中鋰沉積的優(yōu)化奠定了基礎(chǔ)。



審核編輯:劉清

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原文標(biāo)題:密歇根大學(xué)Matter:原位3D顯微鏡探究鋰沉積的電化學(xué)-力學(xué)行為

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    獲取不同高度處清晰焦點(diǎn)并重建出3D真彩圖像,從而進(jìn)行分析。儀器結(jié)構(gòu)共聚焦顯微鏡主要有四部分組成:1、顯微鏡光學(xué)系統(tǒng)。2、掃描裝置。3、激光光源。4、檢測(cè)系統(tǒng)。整套儀
    發(fā)表于 02-20 09:07 ?1次下載

    顯微測(cè)量|光學(xué)3D表面輪廓儀微納米三維形貌一鍵測(cè)量

    光學(xué)3D表面輪廓儀利用白光干涉原理,以0.1nm分辨率精準(zhǔn)捕捉物體表面細(xì)節(jié),實(shí)現(xiàn)三維顯微成像測(cè)量。廣泛應(yīng)用于材料學(xué)領(lǐng)域,可測(cè)量各種材料表面形貌
    的頭像 發(fā)表于 02-19 13:47 ?542次閱讀
    <b class='flag-5'>顯微</b>測(cè)量|<b class='flag-5'>光學(xué)</b><b class='flag-5'>3D</b>表面輪廓儀微納米三維<b class='flag-5'>形貌</b>一鍵測(cè)量

    詳解蔡司原位液體電化學(xué)顯微解決方案

    基于 蔡司 全系列電子顯微鏡原位液體電化學(xué)顯微解決方案具有在真實(shí)液氛下的高分辨成像、多模態(tài)全面表征以及靈活擴(kuò)展的創(chuàng)新優(yōu)勢(shì)。本期分享液氛SEM的原位
    的頭像 發(fā)表于 01-30 14:22 ?374次閱讀
    詳解蔡司<b class='flag-5'>原位</b>液體電化學(xué)<b class='flag-5'>顯微</b>解決方案

    顯微鏡的結(jié)構(gòu)和使用方法 顯微鏡分為哪三個(gè)部分

    顯微鏡是一種用于放大觀察微小物體的光學(xué)儀器。它通過(guò)對(duì)物體的光線進(jìn)行放大和調(diào)節(jié),使我們能夠看到肉眼無(wú)法觀察到的微小細(xì)節(jié)。顯微鏡廣泛應(yīng)用于生物學(xué)、醫(yī)學(xué)、工程和材料科學(xué)等領(lǐng)域。為了更好地理解顯微鏡
    的頭像 發(fā)表于 01-25 14:19 ?2049次閱讀

    【應(yīng)用案例】掃描近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡SNOM

    掃描近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡SNOM 掃描近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡(scanning near-field optical microscopy, SNOM),能在納米尺度上探測(cè)樣品的
    的頭像 發(fā)表于 01-09 14:19 ?603次閱讀

    共聚焦顯微鏡的作用

    系統(tǒng)軟件對(duì)器件表面3D圖像進(jìn)行數(shù)據(jù)處理與分析,并獲取反映器件表面質(zhì)量的2D、3D參數(shù),從而實(shí)現(xiàn)器件表面形貌3D測(cè)量的
    的頭像 發(fā)表于 12-22 10:53 ?1133次閱讀
    共聚焦<b class='flag-5'>顯微鏡</b>的作用

    一文了解電子顯微鏡光學(xué)顯微鏡的差異

    如今,不僅有能放大幾千倍的光學(xué)顯微鏡,也有能放大幾十萬(wàn)倍的電子顯微鏡,讓我們對(duì)生物體的生命活動(dòng)規(guī)律有了更深入的了解。普通中學(xué)生物教學(xué)大綱中規(guī)定的實(shí)驗(yàn)絕大部分都是利用
    的頭像 發(fā)表于 11-07 15:23 ?1495次閱讀

    納米級(jí)測(cè)量?jī)x器:窺探微觀世界的利器

    形貌、輪廓(縱深、寬度、曲率、角度)、表面粗糙度等。 3、臺(tái)階儀CP200臺(tái)階儀不同于光學(xué)輪廓儀和顯微鏡的是它的測(cè)量方式是接觸式探針測(cè)量。它可以對(duì)微米和納米結(jié)構(gòu)進(jìn)行膜厚和薄膜高度、表面
    發(fā)表于 10-11 14:37