帶您了解太赫茲成像技術(shù)及系統(tǒng)方案

上篇

太赫茲波定義為0.1-10THz范圍內(nèi)的電磁波，處于微波與紅外之間，具有許多獨(dú)特的性質(zhì)，比如穿透性、非電離輻射、吸水性、指紋頻譜等，在材料識(shí)別、安全檢查與無損檢測(cè)方面有諸多應(yīng)用。

圖1 太赫茲波在電磁譜中的位置

本次分享分為上下篇，主要介紹太赫茲成像技術(shù)的分類與特點(diǎn)，特別關(guān)注連續(xù)太赫茲波成像技術(shù)的實(shí)現(xiàn)方法及優(yōu)劣勢(shì)，包括連續(xù)波掃描成像技術(shù)、實(shí)時(shí)成像技術(shù)以及雷達(dá)成像技術(shù)，并展示虹科特有的連續(xù)太赫茲成像系統(tǒng)，為無損檢測(cè)提供了極具優(yōu)勢(shì)的解決方案。

01太赫茲成像技術(shù)的優(yōu)勢(shì)

太赫茲成像技術(shù)作為太赫茲研究中頗具前景的一個(gè)方向，得益于該輻射波段的獨(dú)特性質(zhì)：光子能量低，不具有電離輻射；極易透過非極性和非金屬材料，包括陶瓷、塑料、木材等常見卻無法被紅外光透射的材料；頻段處在許多生物大分子振動(dòng)和轉(zhuǎn)動(dòng)能級(jí)，可根據(jù)太赫茲波的強(qiáng)吸收和諧振特性建立分子指紋特征譜鑒別物質(zhì)成分；水敏感性高，非常適合物質(zhì)含水量分析等。

圖 2 太赫茲成像技術(shù)的優(yōu)勢(shì)

除了可獲得比其他光源更多的信息外，太赫茲成像技術(shù)在性能上也十分優(yōu)越。太赫茲波段的高頻率對(duì)應(yīng)于更短的波長(zhǎng)，能夠達(dá)到比微波成像更高的空間分辨率。而在穿透成像方面，相比需要借助耦合劑接觸樣品的超聲成像，太赫茲成像屬于非接觸無損檢測(cè)，更易于實(shí)現(xiàn)自動(dòng)集成。與具有穿透能力的X射線成像相比，太赫茲成像沒有電離輻射，對(duì)人體以及生物樣品都沒有傷害，適應(yīng)環(huán)境更為廣泛。基于以上優(yōu)勢(shì)，太赫茲成像技術(shù)在安檢、生物檢測(cè)與工業(yè)無損檢測(cè)等方面具有極佳的應(yīng)用前景。

圖3 太赫茲成像技術(shù)的應(yīng)用

02脈沖太赫茲成像技術(shù)

太赫茲成像技術(shù)根據(jù)太赫茲源的種類可以分為連續(xù)太赫茲成像與脈沖太赫茲成像。脈沖太赫茲波具有比較寬的頻帶，覆蓋GHz到十幾THz的范圍，有利于對(duì)樣品做太赫茲光譜的分析。目前脈沖太赫茲成像技術(shù)主要是基于太赫茲時(shí)域光譜儀（TDS），通過飛秒激光作用于光電導(dǎo)天線或者光整流晶體產(chǎn)生太赫茲脈沖，聚焦作用在樣品上，采集樣品單點(diǎn)位置的反射或者透射光譜。當(dāng)我們施加一個(gè)掃描成像套件，將樣品進(jìn)行二維平面的移動(dòng)，選擇太赫茲光譜的某一信號(hào)特征進(jìn)行數(shù)據(jù)處理即可得到樣品的太赫茲波圖像，能夠反饋樣品內(nèi)部的各種信息。

圖4 太赫茲時(shí)域光譜儀系統(tǒng)

基于TDS的脈沖太赫茲成像方法能夠獲取較為全面的時(shí)域和頻域太赫茲信息，包括幅度和相位，經(jīng)過特殊系統(tǒng)設(shè)置還可以得到振幅信息，在目前的太赫茲成像市場(chǎng)中占據(jù)主流。然而缺點(diǎn)在于其需要移動(dòng)樣品進(jìn)行時(shí)間，對(duì)于大型樣品的掃描成像時(shí)間較長(zhǎng)。另一點(diǎn)在于目前商業(yè)化的太赫茲時(shí)域光譜系統(tǒng)的輸出功率都不高，大多在百微瓦量級(jí)，在信噪比與穿透性方面需要不斷提高。最新的突破在于德國(guó)的menlo systems公司開發(fā)的全光纖耦合太赫茲時(shí)域光譜系統(tǒng)，在55mW的激光激發(fā)功率下測(cè)量到0.97±0.07 mW的太赫茲發(fā)射功率，這也是基于全光纖太赫茲產(chǎn)生的世界紀(jì)錄。

03 連續(xù)太赫茲成像技術(shù)

連續(xù)太赫茲在功率方面表現(xiàn)更為突出，基于量子級(jí)聯(lián)激光器原理的連續(xù)太赫茲源功率可高達(dá)幾十毫瓦，而基于肖特基二極管倍頻器的連續(xù)亞太赫茲源的功率高達(dá)上百毫瓦。因此在測(cè)量更厚的材料、實(shí)現(xiàn)更好的穿透效果方面，連續(xù)太赫茲波成像技術(shù)會(huì)更有優(yōu)勢(shì)?；谶B續(xù)太赫茲波的成像方法由于成像方式與產(chǎn)生方法的不同存在多個(gè)種類，每種成像方法各有優(yōu)劣，用戶可根據(jù)自己的具體應(yīng)用需求來選擇合適的連續(xù)太赫茲成像系統(tǒng)。

3.1連續(xù)太赫茲波掃描成像系統(tǒng)： 當(dāng)擁有一個(gè)連續(xù)太赫茲源后，最簡(jiǎn)單的成像系統(tǒng)組成為：一些光學(xué)元件將光束準(zhǔn)直聚焦，一個(gè)位移臺(tái)承載并移動(dòng)樣品，一個(gè)太赫茲探測(cè)器進(jìn)行太赫茲信號(hào)的采集，再結(jié)合相關(guān)的圖像處理方法，即可組成一個(gè)連續(xù)太赫茲掃描成像系統(tǒng)。此類系統(tǒng)相較于TDS成像系統(tǒng)，其太赫茲波的輸出功率通常會(huì)更高，在同等條件下可以穿透更厚的樣品。比如采用電子學(xué)的方法將微波頻段倍頻到太赫茲頻段，通常在1THz以下，輸出功率在幾十毫瓦量級(jí)，可靠性穩(wěn)定且設(shè)備體積緊湊，適合各類集成式系統(tǒng)應(yīng)用，用戶可以根據(jù)項(xiàng)目需求自己搭建此類成像系統(tǒng)。

圖5 虹科連續(xù)波掃描成像系統(tǒng)光路圖

當(dāng)然，如果有完整組成的成像系統(tǒng)會(huì)使得項(xiàng)目應(yīng)用更為簡(jiǎn)便化。虹科提供基于此工作原理的完整掃描成像系統(tǒng)，包括Teraschokky亞太赫茲源，提供75G/150G/300G/600G的輸出，最高350mW的功率輸出；熱釋電探測(cè)器，連接鎖相放大器使用，探測(cè)太赫茲源的功率數(shù)值；光學(xué)組件，用于太赫茲波的準(zhǔn)直與聚焦，以及專業(yè)的成像軟件。

如此簡(jiǎn)單的系統(tǒng)構(gòu)造能夠?qū)崿F(xiàn)最佳亞毫米的成像分辨率，并且能夠同時(shí)探測(cè)到樣品的反射與透射太赫茲信號(hào)，這對(duì)太赫茲信號(hào)的分析提供了更多可參考的數(shù)據(jù)，對(duì)于太赫茲成像技術(shù)的延展研究也提供了更多可能性?？偨Y(jié)根據(jù)太赫茲源的類型，太赫茲成像技術(shù)可以分為脈沖波成像與連續(xù)波成像，而連續(xù)波成像根據(jù)成像原理的不同又可分為連續(xù)波掃描成像、實(shí)時(shí)成像與雷達(dá)成像3種，今天介紹的成像系統(tǒng)的優(yōu)勢(shì)與局限可以簡(jiǎn)單如下表所示：

下篇

上篇我們介紹了太赫茲成像技術(shù)的優(yōu)勢(shì)、太赫茲成像技術(shù)的分類與特點(diǎn)（太赫茲成像技術(shù)可以分為脈沖波成像與連續(xù)波成像）、TDS成像系統(tǒng)和連續(xù)波掃描成像系統(tǒng)的優(yōu)勢(shì)與局限。今天帶您了解實(shí)時(shí)成像技術(shù)、雷達(dá)成像技術(shù)的實(shí)現(xiàn)方法及優(yōu)劣勢(shì)是什么？虹科除了連續(xù)波掃描成像系統(tǒng)還有哪些連續(xù)太赫茲波成像系統(tǒng)？

01 連續(xù)太赫茲成像技術(shù)

連續(xù)太赫茲在功率方面表現(xiàn)更為突出，基于量子級(jí)聯(lián)激光器原理的連續(xù)太赫茲源功率可高達(dá)幾十毫瓦，而基于肖特基二極管倍頻器的連續(xù)亞太赫茲源的功率高達(dá)上百毫瓦。因此在測(cè)量更厚的材料、實(shí)現(xiàn)更好的穿透效果方面，連續(xù)太赫茲波成像技術(shù)會(huì)更有優(yōu)勢(shì)?；谶B續(xù)太赫茲波的成像方法由于成像方式與產(chǎn)生方法的不同存在多個(gè)種類，每種成像方法各有優(yōu)劣，用戶可根據(jù)自己的具體應(yīng)用需求來選擇合適的連續(xù)太赫茲成像系統(tǒng)。

1.1連續(xù)太赫茲波掃描成像系統(tǒng) 該系統(tǒng)構(gòu)造能夠?qū)崿F(xiàn)最佳亞毫米的成像分辨率，并且能夠同時(shí)探測(cè)到樣品的反射與透射太赫茲信號(hào)，這對(duì)太赫茲信號(hào)的分析提供了更多可參考的數(shù)據(jù)，對(duì)于太赫茲成像技術(shù)的延展研究也提供了更多可能性。

1.2太赫茲面陣成像

在上篇提到的成像系統(tǒng)包括TDS系統(tǒng)的缺點(diǎn)都在于其冗長(zhǎng)的掃描時(shí)間，而太赫茲面陣成像技術(shù)的出現(xiàn)解決了這一難題。
面陣成像系統(tǒng)通常利用高功率的連續(xù)太赫茲源，準(zhǔn)直后形成較為均勻的照明區(qū)域照射到樣品上，然后通過太赫茲相機(jī)進(jìn)行面成像區(qū)域的采集，能夠?qū)崿F(xiàn)均勻照明區(qū)域內(nèi)的實(shí)時(shí)圖像呈現(xiàn)。此類系統(tǒng)的探測(cè)器多采用微測(cè)熱輻射計(jì)（Microbolometer），針對(duì)太赫茲波段做了優(yōu)化，且不需要制冷環(huán)境，是目前主流的太赫茲成像探測(cè)器。其像素大小有多種選擇，市面上最高有1280×1024的陣列，而幀頻通常在50或60Hz，能夠滿足常規(guī)的成像速度需要。

太赫茲面陣成像的典型構(gòu)造

太赫茲面陣成像技術(shù)雖然實(shí)現(xiàn)了實(shí)時(shí)成像，但是它目前仍存在單次成像面積有限的問題，受限于光源均勻后的功率，早期一般使用二氧化碳等氣體激光器充作太赫茲源。但是氣體激光器不僅體積龐大而且價(jià)格高昂，直到量子級(jí)聯(lián)激光器（QCL）的發(fā)明為太赫茲面陣成像技術(shù)的研究帶來了轉(zhuǎn)機(jī)，其在2~5T范圍具有mW級(jí)別的輸出功率，且設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊，成為面陣成像技術(shù)的首選光源。
虹科提供的TeraEyes-HV系統(tǒng)就基于上述成像原理，其構(gòu)成為：2~5T范圍的QCL太赫茲源，最高功率達(dá)7mW；成像模塊，包括自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)模塊與光源均衡模塊，實(shí)現(xiàn)光斑的均勻照明，最大照明面積10×10cm2；搭配太赫茲鏡頭的太赫茲相機(jī)，進(jìn)行實(shí)時(shí)圖像的采集，每分鐘采集50幀圖像。整個(gè)系統(tǒng)組件完整，調(diào)整樣品與相機(jī)的位置即可反射/透射式實(shí)時(shí)成像，最優(yōu)可實(shí)現(xiàn)250um的分辨率。

虹科TeraEyes-HV實(shí)時(shí)成像太赫茲系統(tǒng)

使用QCL太赫茲源成像在均勻光斑的時(shí)候存在一個(gè)缺點(diǎn)，其輸出為相干光，并且太赫茲波長(zhǎng)在毫米和亞毫米量級(jí)，經(jīng)過透鏡光闌等光學(xué)孔徑時(shí)，出射波束易發(fā)生衍射和干涉。經(jīng)過成像系統(tǒng)中多次光學(xué)元件反射后的光束輪廓，光斑周圍會(huì)存在明顯的干涉條紋，如上圖所示，在最終樣品成像效果中會(huì)存在明顯影響。

QCL源面陣成像受到干涉條紋影響[2]

虹科提供的TeraEyes-HV實(shí)時(shí)成像系統(tǒng)采用了一種創(chuàng)新的成像設(shè)置，包括一個(gè)可編程的光束控制單元，能夠產(chǎn)生均勻而靈活的照明模式，從而解決了發(fā)射相干性帶來的限制。輻射通過光束控制單元傳播，通過振鏡對(duì)激光束進(jìn)行快速控制，從而產(chǎn)生合適的照明模式。光束控制單元是完全可編程的，照明模式可以定制，以適應(yīng)不同的樣品尺寸和應(yīng)用。通過這種方法減少了衍射造成的成像干擾，進(jìn)一步提高了信噪比。

光斑快掃形成等效平行光斑，成像無干涉條紋的影響

因此，基于QCL源與太赫茲相機(jī)的連續(xù)太赫茲波成像系統(tǒng)能夠?qū)崟r(shí)成像，對(duì)于想要觀察動(dòng)態(tài)變化的樣品的內(nèi)部情況等應(yīng)用場(chǎng)景是最佳選擇方案。

1.3太赫茲雷達(dá)掃描成像： 太赫茲面陣成像技術(shù)雖然實(shí)現(xiàn)了實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)的成像效果，但是其探測(cè)方式只能收集樣品反射/透射信號(hào)的強(qiáng)度信息，在信息采集的全面性存在局限。而基于連續(xù)太赫茲源，想要獲得更多的太赫茲信息（幅度、相位以及深度信息），連續(xù)波調(diào)頻（FMCW）太赫茲雷達(dá)是一個(gè)不錯(cuò)的選擇。

太赫茲雷達(dá)的成像構(gòu)造圖

FMCW太赫茲雷達(dá)通常集成了發(fā)射和探測(cè)的功能，因此單體結(jié)構(gòu)更為緊湊。太赫茲波的產(chǎn)生同樣是基于倍頻器等原理，其輸出頻率主要在亞太赫茲波段（<1THz），因此成像分辨率通常在mm級(jí)別。而探測(cè)是基于外差探測(cè)的混頻器原理，連續(xù)太赫茲波經(jīng)過線性/鋸齒波/三角波等調(diào)制，作用到樣品上并采集其反射信號(hào)，通過混頻器輸出中頻信號(hào)，而中頻信號(hào)反映了樣品的距離（深度信息）。

線性FMCW雷達(dá)原理

目前，太赫茲波雷達(dá)的核心產(chǎn)生與探測(cè)主要有兩種方法：一種是基于III-V族半導(dǎo)體材料的肖特基二極管倍頻器，穩(wěn)定性高以及動(dòng)態(tài)范圍、探測(cè)速率等成像表現(xiàn)更好，當(dāng)然同樣價(jià)格更高；另一種則是基于硅基材料，能夠?qū)⒈额l器、混頻器等諸多功能電路集成在一張芯片上，因此成本與設(shè)備體積都會(huì)大大減少，而在穩(wěn)定性和成像性能表現(xiàn)上稍遜一籌。

比如虹科的150G雷達(dá)就是基于GaAs材料，其動(dòng)態(tài)范圍約100dB，探測(cè)速率高達(dá)7.6KHz，有潛力實(shí)現(xiàn)高速的線掃描成像；而基于硅基材料的120G雷達(dá)則只有10Hz的探測(cè)速率，動(dòng)態(tài)范圍為30dB，但是成本優(yōu)勢(shì)十分明顯，內(nèi)置的光學(xué)元件以及搭配的位移平臺(tái)能夠?qū)崿F(xiàn)便攜操作的太赫茲成像檢測(cè)。

總而言之，太赫茲雷達(dá)成像的最大優(yōu)勢(shì)在于可以的得到樣品不同深度的二維圖像，實(shí)現(xiàn)層析成像，在圖像三維重建方面更有優(yōu)勢(shì)。并且核心材料制造有低價(jià)和高價(jià)的選擇，能夠滿足不同需求。

FMCW太赫茲雷達(dá)成像效果

02總結(jié)

太赫茲成像技術(shù)具有穿透性、非接觸式、非電離輻射的優(yōu)勢(shì)，在食品藥品包裝內(nèi)異物檢測(cè)、腐蝕檢測(cè)、材料內(nèi)部缺陷檢測(cè)等諸多工業(yè)應(yīng)用場(chǎng)景具有廣泛的應(yīng)用前景，當(dāng)然實(shí)際使用時(shí)還需要適配具體的工業(yè)環(huán)境做一些集成開發(fā)工作。
根據(jù)太赫茲源的類型，太赫茲成像技術(shù)可以分為脈沖波成像與連續(xù)波成像，而連續(xù)波成像根據(jù)成像原理的不同又可分為連續(xù)波掃描成像、實(shí)時(shí)成像與雷達(dá)成像3種，各個(gè)成像系統(tǒng)的優(yōu)勢(shì)與局限可以簡(jiǎn)單如下表所示：

太赫茲成像技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)與局限虹科提供3種連續(xù)太赫茲波成像系統(tǒng)，滿足用戶不同應(yīng)用場(chǎng)景以及成像參數(shù)的需求，以最可靠的系統(tǒng)配置實(shí)現(xiàn)最優(yōu)的太赫茲成像效果。

審核編輯：湯梓紅