【導(dǎo)讀】如果說人類世界當(dāng)前面臨的最緊迫危機是如何降低二氧化碳排放量,以減緩已經(jīng)造成的災(zāi)難性環(huán)境破壞以及人口損害,那么,在當(dāng)前的地球溫室氣體排放中,交通業(yè)的“貢獻”最大,傳統(tǒng)上它已被視為重要的污染源。
問題1:相比傳統(tǒng)的碳化硅(SiC)技術(shù),Soitec的SmartSiC?技術(shù)還較年輕,您能否介紹一下它目前發(fā)展的成熟度?
Christophe Maleville:Soitec的SmartSiC?技術(shù)正在步入產(chǎn)業(yè)化階段。我們利用在CEA-Leti(法國微電子研究實驗室法國原子能委員會電子與信息技術(shù)實驗室)的先進試驗線進行開發(fā)與原型設(shè)計,并選擇記錄工具實現(xiàn)大批量生產(chǎn)。目前,我們關(guān)注如何降低變異性、缺陷率并提高良率,同時優(yōu)化測量取樣,以最佳的工藝流程進入大批量生產(chǎn)階段。Soitec在批量應(yīng)用SmartCut?技術(shù)方面已經(jīng)擁有30年的經(jīng)驗,能夠借此加速SmartSiC?工藝的成熟,這是我們的優(yōu)勢。Soitec已為2023年的生產(chǎn)做好充足的準(zhǔn)備。
問題2:在降低產(chǎn)品的變異性方面,SmartSiC?可以達到怎樣的水平?
Christophe Maleville:SiC的前沿開發(fā)人員已經(jīng)完成了大量出色的工作,他們在SiC的晶體質(zhì)量和尺寸方面做出了重大改進。目前,SiC器件已經(jīng)能夠為道路上日常行駛的電動汽車提供動力。但每個SiC晶錠以及每個晶錠內(nèi)的每片晶圓都是不同的,這給生產(chǎn)帶來了相當(dāng)大的變數(shù)。然而,憑借SmartCut?工藝,每個晶圓都可以實現(xiàn)重復(fù)利用十次以上,從而降低了變異性。過使用外延層作為供體,我堅信我們的下一代SiC晶圓——SmartSiC?晶圓,將完全消除源于晶體的變異性。通過在晶層轉(zhuǎn)移之前消除基面位錯(BPD),用于器件生產(chǎn)的每片晶圓都將相同,這將有利于大批量生產(chǎn),與傳統(tǒng)硅技術(shù)之間的差距也將隨之縮小。
問題3:Soitec能否獨領(lǐng)變革?
Christophe Maleville:這是一場引領(lǐng)SiC器件性能與指標(biāo)重大進步的革命。但我們并不是獨自前行。我們與戰(zhàn)略伙伴的合作涵蓋了方方面面,從技術(shù)研發(fā)組織、材料和設(shè)備供應(yīng)商,到領(lǐng)先的設(shè)備制造商。這為加速基于SmartSiC?設(shè)備的應(yīng)用和下一代產(chǎn)品的落地奠定了基礎(chǔ)。我們將于2023年開始第一代SmartSiC?晶圓的生產(chǎn)。我們的開發(fā)周期非常短,從最初的開發(fā)工作到批量生產(chǎn)僅用了四年時間,這充分展現(xiàn)了Soitec在行業(yè)生態(tài)系統(tǒng)內(nèi)緊密合作的高效工作模式。
電動汽車助推電力電子領(lǐng)域的創(chuàng)新
如果說人類世界當(dāng)前面臨的最緊迫危機是如何降低二氧化碳排放量,以減緩已經(jīng)造成的災(zāi)難性環(huán)境破壞以及人口損害,那么,在當(dāng)前的地球溫室氣體排放中,交通業(yè)的“貢獻”最大,傳統(tǒng)上它已被視為重要的污染源。但現(xiàn)在,交通行業(yè)已經(jīng)揚帆起航,準(zhǔn)備迎接百年一遇的重大轉(zhuǎn)型。交通生態(tài)系統(tǒng)的所有利益相關(guān)者,包括研究人員、公司、機構(gòu)和客戶,都在努力塑造更綠色的未來,而電動汽車將是有助于減少機動車碳排放的關(guān)鍵創(chuàng)新驅(qū)動力。
更低的成本、更長的續(xù)航里程和更短的充電時間正在助推電動汽車的應(yīng)用。傳動系統(tǒng)的優(yōu)化是推動電動汽車突破當(dāng)前極限的方向,這也是一項密集且尖端的研發(fā)主題。由于電池提供的是直流電(DC),而牽引電機只接收交流電(AC),牽引AC/DC逆變器的效率就成為了提高動力傳動系統(tǒng)能源效率的關(guān)鍵。
特斯拉在2018年就首次展示了碳化硅器件是動力傳動系統(tǒng)和車載充電器中能夠以高性能水平管理功率轉(zhuǎn)換的最佳選擇。隨著每年汽車銷售數(shù)量的不斷增長,電動汽車中SiC的滲透率預(yù)計也將在未來十年顯著提升,從30%躍升至70%。
根據(jù)碳化硅基器件與技術(shù)的滲透率預(yù)測,以及全球幾大主要的市場對EV需求的激增,很顯然,健全有效的SiC供應(yīng)鏈?zhǔn)谴_保EV被市場廣泛應(yīng)用的關(guān)鍵。
電動汽車市場的到來及其超乎尋常的加速發(fā)展,為電力電子市場中節(jié)能解決方案提供了巨大動力。許多功率器件制造商已經(jīng)制定了相應(yīng)的戰(zhàn)略舉措,包括加大投資以提升大批量晶圓制造能力、建立垂直整合模式并進行戰(zhàn)略收購以鞏固其供應(yīng)鏈等。
來自客戶的助推壓力,如要求傳動系統(tǒng)中擁有更高效率的逆變器,且能夠通過800V快充實現(xiàn)電池快速充電能力,使得SiC器件成為人們關(guān)注的焦點。
SiC早在二十年前就以電力電子中硅的顛覆性替代者的角色出現(xiàn),盡管成本更高、制造工藝更復(fù)雜,但在能量轉(zhuǎn)換方面優(yōu)勢顯著。從25 mm發(fā)展到今天的200 mm晶圓,晶圓面積的變大加上其他各方面的改進,SiC已成為在促進增長與提供設(shè)計機遇領(lǐng)域最具活力的市場之一。
EV市場中的SiC成本效益比顯而易見,而汽車和工業(yè)市場也正是SiC前進的目標(biāo)方向。
然而,盡管特斯拉早在2018年就首次推出了應(yīng)用于電動汽車的SiC MOSFET,但截至目前,SiC仍然只是一種用于高端工業(yè)和其他功率轉(zhuǎn)換應(yīng)用的材料,設(shè)備制造商提供的產(chǎn)品范圍也相對狹窄。很少有專門為EV應(yīng)用設(shè)計的器件,而其制造良率也仍然受到現(xiàn)有標(biāo)準(zhǔn)SiC晶圓缺陷率的影響。
電動汽車牽引逆變器所需的功率水平催生了新的器件需求,即單芯片電流處理水平需高達200A。為了達到這一電氣性能水平,SiC MOSFET單一表面面積需要至少達到40mm2。但在標(biāo)準(zhǔn)單晶SiC襯底上制造這些器件無法達到必要的良率,而且經(jīng)濟上也不可行。此外,用于制造SiC晶錠的PVT工藝固有的缺陷范圍,直到今天仍然是實現(xiàn)高良率的物理障礙。
Soitec全球領(lǐng)先的SmartSiC?解決方案
Soitec大展拳腳的時機已經(jīng)來臨。
Soitec每年在各種產(chǎn)品線(主要面向智能手機)中銷售的SmartCut?晶圓超過200萬片,是射頻和手機市場中優(yōu)化襯底的最大供應(yīng)商。
目前,Soitec希望在汽車和工業(yè)市場繼續(xù)保持成功。憑借深耕SmartCut?工藝三十年的專業(yè)積淀,Soitec推出了全新的顛覆性優(yōu)化襯底SmartSiC?,為晶圓電氣性能、供應(yīng)鏈生產(chǎn)力以及器件功率密度帶來了全新解決方案。
SmartSiC?還創(chuàng)造了器件層面與系統(tǒng)層面的顯著價值,助推了智慧移動(eMobility)的落地應(yīng)用,并推動了充電基礎(chǔ)設(shè)施和可再生能源行業(yè)的完善。
過去幾年間,Soitec一直在格勒諾布爾CEA-Leti的襯底創(chuàng)新中心深入研究SmartSiC?解決方案。該方案利用了單晶SiC襯底的卓越物理特性,通過將其作為供體可提供十倍的重復(fù)利用率,并結(jié)合了創(chuàng)新性的高導(dǎo)電多晶襯底作為操作晶圓(handle wafer)。
SmartSiC?晶圓可提供卓越性能:更環(huán)保、更高效、更出色
無論是對于150 mm晶圓還是200 mm晶圓而言,SmartSiC?都是一種更環(huán)保、更高效、更出色的技術(shù)解決方案,有望成為SiC市場的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)之一。
SmartSiC?將可重復(fù)利用十次的優(yōu)質(zhì)單晶SiC與超高導(dǎo)電性操作晶圓相結(jié)合,與傳統(tǒng)SiC襯底相比,這種即插即用的解決方案可以無縫集成到所有現(xiàn)存的電源生產(chǎn)線中,并表現(xiàn)出明顯的商用、環(huán)境與制造優(yōu)勢。
簡單且節(jié)能的制造工藝使SmartSiC?的碳足跡更少,更為環(huán)保。與傳統(tǒng)SiC相比,每片SmartSiC?晶圓減少的碳排放量可高達70%。
通過重復(fù)利用稀缺的200mm單晶供體,Soitec能夠助力這些大尺寸襯底的快速落地應(yīng)用,賦能市場的增長。SmartSiC?的優(yōu)化設(shè)計所帶來的卓越生產(chǎn)良率、更高的效率和功率密度,為電力電子設(shè)備提供了更好的解決方案。相比塊狀SiC,SmartSiC?具有更高的導(dǎo)電性,可為功率器件(例如MOSFET或二極管)每平方毫米提供多達20%的電流。這是生成新一代功率器件的制勝秘訣。
Soitec的SmartSiC?產(chǎn)品系列由SmartSiC?-Performance和SmartSiC?-Advanced襯底組成。SmartSiC?-Performance目前處于原型開發(fā)階段,正在與Soitec客戶進行驗證。而Soitec的創(chuàng)新團隊正在研發(fā)SmartSiC?-Advanced無BPD襯底,該產(chǎn)品目前處于送樣階段。
在具有超高導(dǎo)電性的多晶碳化硅操作襯底之上(其150 mm和200 mm晶圓的總厚度分別為350 μm和500 μm),SmartSiC?襯底的優(yōu)化設(shè)計能夠提供最高水準(zhǔn)、厚度小于1 μm的單晶SiC層。供體晶圓減去用于第一個SmartSiC?晶圓的1 μm層之后,可重復(fù)用于第二個SmartSiC?晶圓。以此類推,每個供體晶圓至少可用于十個SmartSiC?晶圓。
與塊狀SiC中使用的物理氣相傳輸(PVT)相比,采用多晶碳化硅作為每個SmartSiC?晶圓生產(chǎn)的操作晶圓則是基于更環(huán)保、用時更短的化學(xué)氣相沉積(CVD)工藝。Soitec和合作伙伴共同開發(fā)的PolySiC具有足夠的摻雜來控制襯底的導(dǎo)電性,同時還能保持極具競爭力的成本優(yōu)勢。
經(jīng)過多年積淀,無論成熟度還是專業(yè)儲備,Soitec都具備能力定義并確保晶圓幾何構(gòu)造的完美,而這恰是掌握晶圓鍵合的關(guān)鍵所在。2021年11月Soitec收購NovaSiC,為公司帶來超過25年的SiC晶圓生產(chǎn)經(jīng)驗,是Soitec在碳化硅戰(zhàn)略路線上的又一里程碑。
截至目前,Soitec的SmartSiC?已在襯底工藝和設(shè)計中達到了穩(wěn)定的高水平。經(jīng)過密集和大規(guī)模的測試與原型設(shè)計,Soitec生產(chǎn)的晶圓為市場、電力設(shè)備和電力系統(tǒng)帶來的價值和益處顯著。采用SmartSiC?生產(chǎn)的MOSFET和二極管性能均獲得大幅提升,同時擁有了更為長期的可靠性和更強的高溫穩(wěn)健性。目前,多家設(shè)備制造商已承諾加大資源投入力度,在其下一代產(chǎn)品的認證中采用SmartSiC?。
探秘SmartSiC?的研發(fā)
Soitec最初派遣研發(fā)團隊深入研究SmartSiC?項目時,目的在于將SiC的制造良率提高到全球公認的硅基功率器件標(biāo)準(zhǔn)水平。
SmartCut?工藝可以保持來料供體晶圓的晶體質(zhì)量。在供體和SmartSiC?表面的相同位置可以觀察到KOH(氫氧化鉀)蝕刻晶體產(chǎn)生的缺陷。
為降低缺陷水平,Soitec探索并采用了一種新的概念,即在已去除基面位錯(BPD)的供體上采用Smart Cut?工藝。
利用單晶SiC晶圓獨特的生長特性,無BPD的供體能夠?qū)oBPD層轉(zhuǎn)移到多晶SiC操作晶圓上。這種新型優(yōu)化襯底稱為SmartSiC?-Advanced。SmartSiC?-Advanced襯底的BPD密度值。
襯底 | 標(biāo)準(zhǔn)4H-mSiC | SmartSiC?-Advanced |
BPD密度(/cm2) | ~ 500 | < 0.1 |
具備無BPD頂層的SmartSiC?-Advanced襯底因此成為漂移外延環(huán)節(jié)的優(yōu)質(zhì)晶種層。
這明顯降低了致命缺陷的潛在成核位置密度,同時擴大了外延工藝窗口并簡化了外延堆棧,而且無需轉(zhuǎn)換緩沖層。
良率模擬和實驗表明,這些改進將引入的外延生長致命缺陷密度降低了10倍,并且將大于20平方毫米的器件生產(chǎn)良率提高到20%以上。在器件可靠性方面,無基面位錯層不僅可以防止位錯滑動,還能消除器件中的雙極退化。Soitec的下一代SmartSiC?-Advanced襯底消除了SiC晶圓中的BPD,對整個SiC行業(yè)而言,有望將SiC器件制造良率提升至90%。
而且,SmartSiC?中采用的多晶SiC操作襯底具有高摻雜水平,這使SiC功率器件(二極管或MOSFET)背面的歐姆接觸層更易制成。
Soitec的最新研究證明,無需退火的歐姆接觸工藝可在SmartSiC?襯底上輕松執(zhí)行,且長遠芯片組裝的可靠性不會因此受到影響。
Soitec 150 mm的SmartSiC?-Advanced產(chǎn)品已經(jīng)開始送樣。其原型襯底正接受主要客戶的檢驗,并可根據(jù)需求向其他客戶彈性交付。更多數(shù)據(jù)已于ICSCRM 2022國際會議(2022年碳化硅及相關(guān)材料國際會議)上進行公布。
SmartSiC?晶圓廠的啟動與擴產(chǎn)
大批量生產(chǎn)是Soitec的下一步目標(biāo)舉措。Soitec用于SmartSiC?大規(guī)模生產(chǎn)的新工廠Bernin 4已于2022年3月破土動工,開工日期定為2023年年中。憑借最先進的設(shè)備設(shè)施,Soitec將在2024年實現(xiàn)SmartSiC?的產(chǎn)能提升;到2030年,SmartSiC?晶圓總產(chǎn)能(包括150mm和200mm)將達到100萬片/年。其中大部分為200mm晶圓,這得益于Soitec的兩項關(guān)鍵技術(shù):
經(jīng)過數(shù)十年的發(fā)展,晶圓的尺寸面積不斷擴大,SmartCut? 工藝的效益規(guī)模也呈現(xiàn)出指數(shù)級增長,而200 mm規(guī)格的晶圓變得愈發(fā)重要。
200 mm SmartSiC? 晶圓所具備的10倍重復(fù)利用率,將成倍優(yōu)化資源利用率,緩解供應(yīng)鏈壓力,并加速汽車和工業(yè)市場中高質(zhì)量晶圓的高效生產(chǎn)與應(yīng)用。
隨著多個合作伙伴對SmartSiC?-Performance產(chǎn)品原型的認可,2022年的產(chǎn)品認證正處于緊鑼密鼓地擴大范圍并加速推進中。
SmartSiC?晶圓正成為新的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)
電動汽車正在經(jīng)歷百年一遇的變革,市場上的創(chuàng)新成果不斷涌現(xiàn)。上一次交通業(yè)變革發(fā)生在二十世紀90年代左右,人類用了15年時間從馬車交通時代轉(zhuǎn)進入機械交通時代;而鑒于CO2減排和減緩全球變暖的迫切需要,從汽油車時代進入電動車時代的轉(zhuǎn)變應(yīng)該會更快。
自2018年特斯拉引入SiC并開創(chuàng)電動汽車市場以來,這項技術(shù)已被大多數(shù)汽車制造商采納。然而,SiC還需要克服在電氣性能、產(chǎn)能、成本和良率方面的眾多障礙,才能在電動汽車領(lǐng)域獨占鰲頭。
Soitec成功預(yù)見了上述挑戰(zhàn)以及電動汽車行業(yè)蓬勃發(fā)展的勢頭。我們推出的SmartSiC?是具有更高附加值的單晶SiC襯底替代品,能夠為更高效率的電源提供更環(huán)保、更高效、更出色的解決方案。
由于單晶SiC供體晶圓可重復(fù)使用10次,并且低RDSON功率器件的電導(dǎo)率提高了10倍,SmartSiC?已能夠?qū)崿F(xiàn)大批量生產(chǎn),并有望成為行業(yè)新標(biāo)準(zhǔn)。
Soitec汽車與工業(yè)部門副總裁Emmanuel Sabonnadiere表示:“我們的SmartSiC?襯底將成為加速電動汽車變革的關(guān)鍵,可幫助電力電子設(shè)備的能效與性能提升至新高度,賦能電動汽車的發(fā)展。”
Soitec的創(chuàng)新將助力提升資源利用及能效,助推經(jīng)濟發(fā)展和賦能商業(yè)成功。我們的創(chuàng)新成果正在推動眾多行業(yè)和生態(tài)系統(tǒng)的發(fā)展,而半導(dǎo)體及其基礎(chǔ)襯底的戰(zhàn)略地位正是他們所一致認可的。
Soitec的創(chuàng)新土壤孕育著美好未來!
注:Soitec的四篇科學(xué)出版物已于ICSCRM 2022上正式發(fā)布。
審核編輯:湯梓紅
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